广东德国POLOS光刻机基材厚度可达到0.1毫米至8毫米

细胞培养芯片需根据不同细胞类型设计表面微结构，传统光刻依赖掩模库，难以满足个性化需求。Polos 光刻机支持 STL 模型直接导入，某干细胞研究所在 24 小时内完成了神经干细胞三维培养支架的定制加工。其制造的微柱阵列间距可精确控制在 5-50μm，适配不同分化阶段的细胞黏附需求。实验显示，使用该支架的神经细胞轴突生长速度提升 30%，为神经再生机制研究提供了高效工具，相关技术已授权给生物芯片企业实现量产。无掩模激光光刻 (MLL) 是一种微加工技术，用于在基板上以高精度和高分辨率创建复杂图案。一个新加坡研究团队通过无缝集成硬件和软件组件，开发出一款紧凑且经济高效的 MLL 系统。通过与计算机辅助设计软件无缝集成，操作员可以轻松输入任意图案进行曝光。该系统占用空间小，非常适合研究实验室，并broad应用于微流体、电子学和纳/微机械系统等各个领域。该系统的经济高效性使其优势扩展到大学研究实验室以外的领域，为半导体和医疗公司提供了利用其功能的机会。光刻胶broad兼容：支持AZ5214E、SU-8等材料，优化参数降低侧壁粗糙度。广东德国POLOS光刻机基材厚度可达到0.1毫米至8毫米

形状记忆合金、压电陶瓷等智能材料的微结构加工需要高精度图案定位。Polos 光刻机的亚微米级定位精度，帮助科研团队在镍钛合金薄膜上刻制出复杂驱动电路，成功制备出微型可编程抓手。该抓手在 40℃温场中可实现 0.1mm 行程的precise控制，抓取力达 50mN，较传统微加工方法性能提升 50%。该技术被应用于微纳操作机器人，在单细胞膜片钳实验中成功率从 40% 提升至 75%，为细胞级precise操作提供了关键工具。无掩模激光光刻 (MLL) 是一种微加工技术，用于在基板上以高精度和高分辨率创建复杂图案。一个新加坡研究团队通过无缝集成硬件和软件组件，开发出一款紧凑且经济高效的 MLL 系统。通过与计算机辅助设计软件无缝集成，操作员可以轻松输入任意图案进行曝光。该系统占用空间小，非常适合研究实验室，并broad应用于微流体、电子学和纳/微机械系统等各个领域。该系统的经济高效性使其优势扩展到大学研究实验室以外的领域，为半导体和医疗公司提供了利用其功能的机会。广东德国POLOS光刻机基材厚度可达到0.1毫米至8毫米德国技术基因：融合精密光学与自动化控制，确保设备高稳定性与长寿命。

在构建肝脏芯片的血管化网络时，某生物工程团队使用 Polos 光刻机实现了跨尺度结构制备。其无掩模技术在 200μm 的主血管与 5μm 的blood capillary间precise衔接，血管内皮细胞贴壁率达 95%，较传统光刻提升 30%。通过输入 CT 扫描的真实肝脏血管数据，芯片成功模拟门静脉与肝窦的血流梯度，使肝细胞功能维持时间从 7 天延长至 21 天。该技术为药物肝毒性测试提供了接近体内环境的模型，某制药公司使用后将候选药物筛选周期缩短 40%，相关成果登上《Lab on a Chip》封面。

某生物物理实验室利用 Polos 光刻机开发了基于压阻效应的细胞力传感器。其激光直写技术在硅基底上制造出 5μm 厚的悬臂梁结构，传感器的力分辨率达 10pN，较传统 AFM 提升 10 倍。通过在悬臂梁表面刻制 100nm 的微柱阵列，实现了单个心肌细胞收缩力的实时监测，力信号信噪比提升 60%。该传感器被用于心脏纤维化机制研究，成功捕捉到心肌细胞在病理状态下的力学变化，相关数据为心肌修复药物开发提供了关键依据。无掩模激光光刻 (MLL) 是一种微加工技术，用于在基板上以高精度和高分辨率创建复杂图案。一个新加坡研究团队通过无缝集成硬件和软件组件，开发出一款紧凑且经济高效的 MLL 系统。通过与计算机辅助设计软件无缝集成，操作员可以轻松输入任意图案进行曝光。该系统占用空间小，非常适合研究实验室，并broad应用于微流体、电子学和纳/微机械系统等各个领域。该系统的经济高效性使其优势扩展到大学研究实验室以外的领域，为半导体和医疗公司提供了利用其功能的机会。POLOS µ 光刻机：桌面级设计，2-23μm 可调分辨率，兼容 4 英寸晶圆，微机电系统加工误差 < 5μm。

某半导体实验室采用 Polos 光刻机开发氮化镓（GaN）基高电子迁移率晶体管（HEMT）。其激光直写技术在蓝宝石衬底上实现了 50nm 栅极长度的precise曝光，较传统光刻工艺线宽偏差降低 60%。通过自定义多晶硅栅极图案，器件的电子迁移率达 2000 cm²/(V・s)，击穿电压提升至 1200V，远超商用产品水平。该技术还被用于 SiC 基功率器件的台面刻蚀，刻蚀深度均匀性误差小于 ±3%，助力我国新能源汽车电控系统core器件的国产化突破。无掩模激光光刻 (MLL) 是一种微加工技术，用于在基板上以高精度和高分辨率创建复杂图案。一个新加坡研究团队通过无缝集成硬件和软件组件，开发出一款紧凑且经济高效的 MLL 系统。通过与计算机辅助设计软件无缝集成，操作员可以轻松输入任意图案进行曝光。该系统占用空间小，非常适合研究实验室，并broad应用于微流体、电子学和纳/微机械系统等各个领域。该系统的经济高效性使其优势扩展到大学研究实验室以外的领域，为半导体和医疗公司提供了利用其功能的机会。光束引擎高速扫描：SPS POLOS µ单次写入400 µm区域，压电驱动提升扫描速度。广东光刻机分辨率1.5微米

德国 SPS Polos：深耕微纳加工 35 年，专注半导体与生命科学领域，全球布局 6 大技术中心，服务 500 + 科研机构。广东德国POLOS光刻机基材厚度可达到0.1毫米至8毫米

微流体芯片制造的core工具！Polos光刻机可加工80 µm直径的开环谐振器和2 µm叉指电极，适用于传感器与执行器开发。结合双光子聚合技术（如Nanoscribe的2PP工艺），用户可扩展至3D微纳结构打印，为微型机器人及光学超材料提供多维度解决方案37。其与Lab14集团的协同合作，进一步推动工业级光学封装技术创新3。无掩模激光光刻 (MLL) 是一种微加工技术，用于在基板上以高精度和高分辨率创建复杂图案。一个新加坡研究团队通过无缝集成硬件和软件组件，开发出一款紧凑且经济高效的 MLL 系统。通过与计算机辅助设计软件无缝集成，操作员可以轻松输入任意图案进行曝光。该系统占用空间小，非常适合研究实验室，并broad应用于微流体、电子学和纳/微机械系统等各个领域。该系统的经济高效性使其优势扩展到大学研究实验室以外的领域，为半导体和医疗公司提供了利用其功能的机会。广东德国POLOS光刻机基材厚度可达到0.1毫米至8毫米