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双氧水稳定剂基本参数
  • 产地
  • 英国
  • 品牌
  • 上海
  • 型号
  • DEQUEST 2010,TURPINAL SL,TURPINAL 4NL,TURPINAL 4NP
  • 是否定制
双氧水稳定剂企业商机

上海望界-双氧水稳定剂-羟基亚乙基二膦酸-HEDP-DEQUEST 2010 。 本品是一种有机膦酸类阻垢缓蚀剂,能与铁、铜、锌等多种金属离子形成稳定的络合物,能溶解金属表面的氧化物。在250℃下仍能起到良好的缓蚀阻垢作用,在高pH值下仍很稳定,不易水解,一般光热条件下不易分解。耐酸碱性、耐氯氧化性能较其它有机膦酸(盐)好。可与水中金属离子,尤其是钙离子形成六圆环螯合物,因而具较好的阻垢效果并具明显的溶限效应,当和其它水处理剂复合使用时,表现出理想的协同效应。双氧水稳定剂DEQUEST 2010厂家直销上海望界公司。上海原装双氧水稳定剂产品说明

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Dequest膦酸盐使用中重要考虑因素——Dequest膦酸盐和氯气: 氯气是常用的氧化剂和除菌剂,Dequest膦酸盐和氯气普遍用于漂白、清洁剂、冷却塔和游泳池。 氨基膦酸盐在存在余氯的情况下会很快分解,因此不适合这类的应用。非氨基膦酸盐( Dequest2010和7000)应用在冷却水处理中,在常规余氯浓度条件下能保持稳定。在存在结垢离子和容易氧化的微生物的环境中,余氯会优先氧化微生物,膦酸盐与余氯的反应会降低。另外与锌盐复配也是提高膦酸盐稳定性的方法之一。 Dequest6004是适合用于稳定碱性次氯酸盐溶液的膦酸盐。进口双氧水稳定剂哪里有英国进口-伊塔玛双氧水稳定剂-望界!

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Dequest2010产品特点 •耐H2O2氧化,在H2O2溶液中保持良好的螯合能力 •符合国际上食品安全的要求,拥有FDA及欧盟相关的许可,可应用于食品饮料行业。 •有专门开发的低氯含量(D2010LC)产品,可用于各种精密要求的行业,如微电子,半导体行业。 •适合酸性配方 Dequest2066产品特点: •耐H2O2氧化,在H2O2溶液中保持良好的螯合能力 •对H2O2有很好的稳定效果 •缺点:颜色较深,氯离子含量高。 •适用于工业洗涤,纺织行业。 •适用于中~碱性配方。

上海望界代理英国进口伊塔玛双氧水稳定剂-螯合剂-双氧水稳定剂-络合剂-缓蚀剂DEQUEST系列: Dequest膦酸盐是什么物质? 有机膦酸盐是多功能金属离子捏制剂。根据其定义,有机膦酸盐至少包含一个附着在碳原子上的官能团-PO3H2·碳磷酸键是膦酸盐的一个有价值的属性: 1)强阴离子(负)电荷; 2)在高温、高压、极端pH值条件下,在水性体系中保持稳定; 3)在其复杂的结构中有多个结合点 4)很高的水溶性 5)与其他物质的相容性好,方便复配。 Dequest°产品主要包括8个膦酸盐系列:6种氨基膦酸盐,与POH2官能团相连的碳原子的另一端连接到分子中的氮原子上:2种非氨基膜酸盐,其PO2H2官能团连接到另外一个碳原子上。 具体产品请和我们联系:进口双氧水稳定剂-螯合剂TURPINAL 4NL -望界供;

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H2O2是一个经典的化工产品,双氧水漂白剂因其稳定性好,不腐蚀设备,无污染,而用于纤维素纤维及其它纤维的漂白,它是一种优良的漂白剂,产品白度稳定性好,对环境无污染,因而是一直被使用且很有发展前途的漂白剂。在漂白过程中,如果H2O2的分解不受控制,将导致H2O2的浪费;出现“白度差”,“纤维强度的下降”,漂布出现破洞。为了使双氧水在漂白过程中均匀、有效地分解,避免织物遭受剧烈损伤,漂液中必须加入一定量的双氧水稳定剂。 DEQUEST®2010-HEDP-双氧水稳定剂-双氧水稳定剂。过氧化氢和过氧乙酸消毒剂,也会因金属离子的存在而发生过快分解,DEQUEST 2010可有效抑止这种分解。上海望界直销染发产品原料双氧水稳定剂TURPINAL 4NL;进口双氧水稳定剂哪里有

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Turpinal产品可以螯合细胞膜表面的Ca离子,提高除菌剂对微生物细胞膜的渗透性,从而提高除菌剂的作用效果。拥有:优良的水解稳定性,很高的热稳定性,完全的水溶性,极强的离子螯合力 。 双氧水稳定剂-螯合剂Turpinal系列产品可应用: ·染发,烫发行业。在配方中稳定H2O2 ·个人洗护行业,如香波,沐浴露,洗面奶等。螯合钙,镁离子,稳定泡沫,提高去污能力。除菌剂增效,提高除菌剂的除菌效果。 稳定香精,延长香味停留时间 ·香皂-颜色,香味的稳定 上海原装双氧水稳定剂产品说明

上海望界贸易有限公司在螯合剂, 纺织助剂,电镀中间体,环保助剂一直在同行业中处于较强地位,无论是产品还是服务,其高水平的能力始终贯穿于其中。公司始建于2002-11-07,在全国各个地区建立了良好的商贸渠道和技术协作关系。公司承担并建设完成精细化学品多项重点项目,取得了明显的社会和经济效益。多年来,已经为我国精细化学品行业生产、经济等的发展做出了重要贡献。

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