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洁净室中的温湿度控制洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定,但在满足工艺要求的条件下,应考虑到人的舒适度感。随着空气洁净度要求的提高,出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。具体工艺对温度的要求以后还要列举,但作为总的原则看,由于加工精度越来越精细,所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中,作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。直径100um的硅片,温度上升1度,就引起了0.24um线性膨胀,所以必须有±0.1度的恒温,同时要求湿度值一般较低,因为人出汗以后,对产品将有污染,特别是怕钠的半导体车间,这种车间温度不宜超过25度,湿度过高产生的问题更多。相对湿度超过55%时,冷却水管壁上会结露,如果发生在精密装置或电路中,就会引起各种事故。相对湿度在50%时易生锈。此外,湿度太高时将通过空气中的水分子把硅片表面粘着的灰尘化学吸附在表面难以。相对湿度越高,粘附的越难去掉,但当相对湿度低于30%时,又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面,同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产比较好湿度范围为35—45%。定制厂房设计如何选择?四川单克隆抗体设计

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多间冷库连接在一起与建筑物隔墙分隔的问题往往冷库是多间在一起的情况,彼此多间间隔一起。我们见过许多的设计方就把建筑砖墙一个一个绘制分隔好,理解为一个冷库一个建筑块区,其实在设计中建筑隔墙直接可以全空出来,不需要用砖墙再分隔成一间一间的小区块,那样只会增加冷库保温材料面积和增加建筑成本,而且减小现场施工作业面。可以直接采用冷库保温板分隔多间,这样还减少一道隔墙板(2间冷库可以用共用一个隔墙板,温区不同的库可共用厚的保温板),这样一来,也不影响以后的消防设施的增加。在这方面,希望更多的设计方,在未来的医药公司建设中,可以注意到这方面四川单克隆抗体厂房设计厂房设计公司欢迎咨询成都博一医药设计有限公司。

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1.厂区应按行政、生产、辅助、仓贮和生活等划区布局。2.生产厂房应位于厂区内环境清洁,人流、物流不穿越或少穿越的地方,并应考虑产品工艺特点和防止生产时交叉污染,合理布置,间距恰当,经济实用。3.生产厂房布局应根据主流风向及生产流程、供料、供电、供热、供气、给排水情况综合考虑,洁净区和生活区应置于上风,生产区、辅助区和污水处理区置于下风。4.厂区道路应贯彻人流与物流分流的原则,道路面层选用整体性好、发尘少的材料(宜选沥青、混凝土路面)。5.厂区内不能有裸露的土地,绿化(不产生花粉、绒毛、絮状物)面积应不少于50%,建筑物面积不大于30%。6.有安全隐患或有毒有害区域应集中单独布置,并采取有效的防护措施,以达到安全和卫生的要求。

防静电洁净室中由于静电引起的的事故屡有发生,因此洁净室的防静电能力如何已成为评价其质量的一个不可忽视的方面。所谓静电,是由于摩擦等原因破坏了物体中正(+)负(-)电荷等量的均匀的电中性状态,而使电荷过剩,物体呈带电状态,由于这些电荷平时是不流动的,故称静电。在洁净室内静电导致的事故有以下几方面;①静电电引起的静电电击,引起人的不安全和恐惧感,并可造成二次伤害(例如人因受电击而摔倒,由摔倒又致伤);②静电放电引起的放电电流,可导致诸如半导体元件等破坏和误动作,例如将50块P-MOS电路放在塑料袋内,摇晃数次后,与非门栅极严重击穿者计39块,失效率竞达78%,这是因为半导体器件对静电放电十分灵敏;③静电放电产生的电磁波可导致电子仪器和装置的杂音和误动作;④静电放电的发光可导致照相肢片等感光破坏;如何考虑到未来的扩展和改造需求?

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工艺平面布置应合理、紧凑。在洁净室或洁净区内,只布置必要的工艺设备和需要满足空气洁净度等级要求的工序和工作室。在满足生产工艺和噪声要求的前提下,应将空气洁净度等级高的洁净室或洁净区靠近空气调节机房,同时将空气洁净度等级相同的工序和工作室集中布置。洁净室内,要求空气洁净度等级高的工序应布置在上风侧,易产生污染的工艺设备应布置在靠近回风口的位置。在考虑大型设备安装和维修的运输路线时,应预留设备安装口和检修口。当不同空气洁净度等级的房间之间需要频繁联系时,应设立防止污染的措施,例如缓冲间、气闸室、传递窗等。厂房设计口碑商家哪家好?推荐成都博一医药设计有限公司。四川单克隆抗体设计

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净室(区)和人员净化用室设置外窗时,应采用双层玻璃固定窗,并应有良好的气密性。2.靠洁净室室内一侧窗不宜设窗台。3.洁净室内的密闭门应朝空气洁净度较高的房间开启,并加设闭门器,无窗洁净室的密闭门上宜设观察窗。4.洁净室门窗、墙壁、顶棚等的设计应符合下列要求:5.洁净室门窗、墙壁、顶棚、地(楼)面的构造和施工缝隙,均应采取可靠的密闭措施。6.当采用轻质构造顶棚做技术夹层时,夹层内宜设检修通道。7.洁净室窗宜与内墙面齐平,不宜设窗台。8.洁净室内的色彩宜淡雅柔和。室内各表面材料的光反射系数:顶棚和墙面宜为0.6~0.8,地面宜为0.15~0.35。四川单克隆抗体设计

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