企业商机
真空烘箱基本参数
  • 品牌
  • 宏誉科技
  • 型号
  • HY-608-100
真空烘箱企业商机

    比起常规干燥技术具备以下优势:真空环境降低了需要驱逐的液体的沸点,所以真空干燥可以轻松应用于热敏性物质;对于不容易干燥的样品,例如粉末或其他颗粒状样品,使用真空干燥法可以有效缩短干燥时间;各种构造复杂的机械部件或其他多孔样品经过清洗后使用真空干燥法,完全干燥后不留任何参与物质;使用更安全――在真空或惰性条件下,完全消除氧化物遇热膨胀的可能;与依靠空气循环的普通干燥相比,粉末状样品不会被流动空气吹动或移动。控制特点:具有因停电、死机造成状态数据和保存的参数记忆丢失,来电恢复功能。产品材料及特点:采用流线型圆弧设计,外壳采用冷轧钢板制造,表面静电喷塑;本机温控系统采用微电脑单片机设计,具有温控、定时、超温报警功能;这款真空烘箱采用双屏高亮度数码管显示,示值准确直观,性能优越,触摸式按键设定调整参数;温度具有定时功能,定时时间长达9999分钟;内胆均为3mm厚不锈钢材料制成,半圆形四角设计更方便清洁;外箱采用,钢板外表面采用精密双层粉体烤漆处理,与通常的外表喷涂处理相比外观更加美观大方及增强了其防腐防生锈性能;加热方式为镍铬合金电加热器,均匀分布在工作室四周外壁,保证箱体内部温度均匀。真空泵不能长时期工作。上海真空泵抽湿真空烘箱维修维护

真空烘箱

BPO胶/PI胶/BCB胶固化烘箱要求一、技术指标与基本配置:1、洁净度:Class100级2、氧含量(配氧分析仪):高温状态氧含量:≤10ppm+气源氧含量;低温状态氧含量:≤20ppm+气源氧含量3、使用温度:RT~400℃,最高温度:450℃4、控温稳定度:±1℃;5、温度均匀度:150℃±1.5%,350℃±2%以内(空载测试);6、腔体数量:2个,上下布置;单独控温7、炉膛材料:SUS304镜面不锈钢;加热元件:不锈钢加热器;热偶8、空炉升温时间:1.5h;9、空炉降温时间:375℃--80℃;降温时间1.5-3.5小时(采用水冷及风冷);10、智能控制系统:PCL+PC工控电脑江苏噪音小真空烘箱规格尺寸经常检查油位位置,不符合规定时须调整使之符合要求。

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真空烘箱专为干燥热敏性、易分解和易氧化物质而设计,能够向内部充入惰性气体,特别是一些成分复杂的物品也能进行快速干燥。该产品有以下特点:  1、长方体工作室,使有效容积达到比较大,微电脑温度控制器,精确控温。温度控制器2、钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体,一目了然。3、箱体闭合松紧能调节,整体成型的硅橡胶门封圈,确保箱内高真空度。4、工作室采用不锈钢板(或拉丝板)制成,确保产品经久耐用。5、储存、加热、试验和干燥都是在没有氧气或者充满惰性气体环境里进行,所以不会氧化。

    真空镀膜蒸镀塑料件工艺流程:1、来料检查;2、干燥待真空镀膜镀件来料时含较多的水分,需干燥处理3-5小时,温度50-60度;3、上架,一般注塑时基本按真空镀膜机生产,因此待真空镀膜镀件表面一般油污较少经过一般的擦拭就可上架,但是来料油污多时需进行去污处理。方法是用清沾剂逐件刷洗,漂洗,烘干。油污严重时还需要用清洗剂在50-60度,浸泡15-20min进行脱脂处理;4、除尘,这道工序是保证真空镀膜镀膜质量的关键之一,方法有两种:一种是用吸尘器对准待真空镀膜镀件仔细地除尘,另一种是用高压其“吹尘”的方法;5、涂底漆;6、烘干,涂漆流平后进行干固处理,方法有红外线加热法,电热加热法及紫外线(UV)固化法等,固化温度为60-70度,固化时间为;7、真空镀膜,真空镀膜是保证真空镀膜镀膜质量的关键。真空镀膜的镀膜操作:待真空镀膜镀件上架并装上钨丝,然后入炉,检查接触是否良好,转动正常,关真空镀膜真空室,抽真空,真空镀膜蒸发铝,作为装饰膜真空镀膜蒸铝时的真空镀膜真空度控制在(1-2)*10-2Pa,真空镀膜蒸发采用快速蒸发可减少氧化概率,又不会使真空镀膜磨蹭的组织结构变粗。冷却充气,真空镀膜蒸铝以后,即可充气出炉;8、涂面漆。 真空箱外壳必须有效接地,以保证使用安全。

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    为获得平坦而均匀的光刻胶涂层并使光刻胶与晶片之间有良好的黏附性,通常在涂胶前对晶片进行预处理。预处理第一步常是脱水烘烤,在真空或干燥氮气的机台中,以150~200℃烘烤。工艺目的是除去晶片表面吸附的水分,在此温度下,晶片表面大约保留了一个单分子层的水。涂胶后,晶片须经过一次烘烤,称之软烘或前烘。工艺作用是除去胶中大部分溶剂并使胶的曝光特性固定。通常,软烘时间越短或温度越低会使得胶在显影剂中的溶解速率增加且感光度更高,但对比度会有降低。实际上软烘工艺需要通过优化对比度而保持可接受感光度的试凑法用实验确定,典型的软烘温度是90~100℃,时间从用热板的30秒到用烘箱的30分钟。在晶片显影后,为了后面的高能工艺,如离子注入和等离子体刻蚀,也须对晶片进行高温烘烤,称之后烘或硬烘。这一工艺目的在于:减少驻波效应;激发化学增强光刻胶PAG产生的酸与光刻胶上的保护基团发生反应并移除基团使之能溶解于显影液。 加热功率比例可任意调节,革除低端控温无温度弊端。湖州易维护真空烘箱监控系统

主要适用于对热敏性物料和含有容剂及需回收溶剂物料的干燥。上海真空泵抽湿真空烘箱维修维护

在CCD(电荷耦合器件)制造过程中,颗粒沾污对CCD的薄膜质量、光刻图形完整性等有很大的影响,降低CCD的成品率。CCD制造过程中的颗粒来源主要有两个方面:一个制造过程中工艺环境产生的颗粒;另一个是薄膜的淀积、光刻和离子注入等CCD工艺过程中产生的颗粒。工艺环境的颗粒可来源于墙体、设施、设备、材料和人员,工艺过程的颗粒来源于易产生粉尘的工艺,比如说LPCVD淀积多晶硅和氮化硅及刻蚀工艺等。无尘烘箱,即使在普通环境下使用,能够确保烘箱内部等级达到Class 100,为CCD(电荷耦合器件)制造过程中烘烤提供洁净环境,预防颗粒沾污上海真空泵抽湿真空烘箱维修维护

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