8英寸晶圆在功率半导体、MEMS等领域仍占据重要市场份额，中清航科针对这类成熟制程开发的切割设备，兼顾效率与性价比。设备采用双主轴并行切割设计，每小时可加工40片8英寸晶圆，且通过优化机械结构降低振动噪声至65分贝以下，为车间创造更友好的工作环境，深受中小半导体企业的青睐。晶圆切割工艺的数字化转型是智能制造的重要组成部分。中清航科的切割设备内置工业物联网模块，可实时采集切割压力、温度、速度等100余项工艺参数，通过边缘计算节点进行实时分析，生成工艺优化建议。客户可通过云端平台查看生产报表与趋势分析，实现基于数据的精细化管理。晶圆切割培训课程中清航科每月开放，已认证工程师超800名。徐州半导体晶圆切割划片厂
在晶圆切割的产能规划方面，中清航科为客户提供专业的产能评估服务。通过产能模拟软件，根据客户的晶圆规格、日产量需求、设备利用率等参数，精确计算所需设备数量与配置方案，并提供投资回报分析，帮助客户优化设备采购决策，避免产能过剩或不足的问题。针对晶圆切割过程中可能出现的异常情况，中清航科开发了智能应急处理系统。设备可自动识别切割偏差过大、晶圆破裂等异常状态，并根据预设方案采取紧急停机、废料处理等措施，同时自动保存异常发生前的工艺数据，为后续问题分析提供依据，比较大限度减少损失。常州砷化镓晶圆切割中清航科切割液回收系统降低耗材成本35%，符合绿色制造。
中清航科创新性推出“激光预划+机械精切”复合方案：先以激光在晶圆表面形成引导槽，再用超薄刀片完成切割。此工艺结合激光精度与刀切效率，解决化合物半导体（如GaAs、SiC）的脆性开裂问题，加工成本较纯激光方案降低35%。大尺寸晶圆切割面临翘曲变形、应力集中等痛点。中清航科全自动切割机配备多轴联动补偿系统，通过实时监测晶圆形变动态调整切割参数。搭配吸附托盘，将12英寸晶圆平整度误差控制在±2μm内，支持3DNAND多层堆叠结构加工。
中清航科飞秒激光双光子聚合技术：在PDMS基板上直写三维微流道（最小宽度15μm），切割精度达±0.25μm，替代传统光刻工艺，开发成本降低80%。中清航科推出“切割即服务”（DaaS）：客户按实际切割面积付费（$0.35/英寸），包含设备/耗材/维护全包。初始投入降低90%，产能弹性伸缩±50%，适配订单波动。中清航科共聚焦激光测距系统实时监测切割深度（分辨率0.1μm），闭环控制切入量。将150μm晶圆切割深度误差压缩至±2μm，背面研磨时间减少40%。切割路径智能优化系统中清航科研发，复杂芯片布局切割时间缩短35%。
对于高价值的晶圆产品，切割过程中的追溯性尤为重要。中清航科的切割设备内置二维码追溯系统，每片晶圆进入设备后都会生成单独的二维码标识，全程记录切割时间、操作人员、工艺参数、检测结果等信息，可通过扫码快速查询全流程数据，为质量追溯与问题分析提供完整依据。在晶圆切割的边缘处理方面，中清航科突破传统工艺限制，开发出激光倒角技术。可在切割的同时完成晶圆边缘的圆弧处理，倒角半径可精确控制在5-50μm范围内，有效减少边缘应力集中，提高晶圆的机械强度。该技术特别适用于需要多次搬运与清洗的晶圆加工流程。8小时连续切割验证：中清航科设备温度波动≤±0.5℃。苏州12英寸半导体晶圆切割企业
中清航科等离子切割技术处理氮化镓晶圆，热影响区减少60%。徐州半导体晶圆切割划片厂
半导体晶圆的制造过程制造过程始于一个大型单晶硅的生产（晶锭），制造方法包括直拉法与区熔法，这两种方法都涉及从高纯度硅熔池中控制硅晶体的生长。一旦晶锭生产出来，就需要用精密金刚石锯将其切成薄片状晶圆。随后晶圆被抛光以达到镜面般的光滑，确保在后续制造工艺中表面无缺陷。接着，晶圆会经历一系列复杂的制造步骤，包括光刻、蚀刻和掺杂，这些步骤在晶圆表面上形成晶体管、电阻、电容和互连的复杂图案。这些图案在多个层上形成，每一层在电子器件中都有特定的功能。制造过程完成后，晶圆经过晶圆切割分离出单个芯片，芯片会被封装并测试，集成到电子器件和系统中。徐州半导体晶圆切割划片厂
