企业商机
集成电路基本参数
  • 品牌
  • TI,Infineon,ST 、ADI、NXP、,Maxim
  • 型号
  • 74HC1G14GV
  • 封装形式
  • DIP,SOP/SOIC,SMD,BGA,TQFP,QFP,PQFP,TSOP,PGA,QFP/PFP,MCM,SDIP
  • 导电类型
  • 双极型,单极型
  • 封装外形
  • 扁平型,单列直插式,金属壳圆形型,双列直插式
  • 集成度
  • 小规模(<50),中规模(50~100),大规模(100~10000),超大规模(>10000)
  • 批号
  • 2022+2023+
  • 应用领域
  • 3C数码,可穿戴设备,照明电子,智能家居,汽车电子,安防设备,测量仪器,玩具,网络通信,电工电气,广电教育,五金工具,物联网IoT,机械设备,家用电器,新能源,医疗电子,**/航天
  • QQ
  • 2881240033
  • 厂家
  • 原厂直供
集成电路企业商机

    集成电路已然成为国际贸易的关键砝码。全球芯片产业高度集中,少数巨头把控高级市场,芯片进出口额巨大。在科技竞争背景下,先进芯片技术出口受限,如高级光刻机、高性能处理器等,引发各国对供应链安全担忧。我国大力发展集成电路产业,一方面满足国内庞大需求,减少对进口依赖;另一方面提升产业竞争力,出口中高级芯片产品,在国际市场争取话语权。芯片贸易格局重塑,背后是各国科技、经济实力博弈,集成电路牵动全球经贸走向。华芯源的集成电路库存管理,智能化降低缺货风险。H20R1203

H20R1203,集成电路

集成电路(integratedcircuit)是一种微型电子器件或部件。采用一定的工艺,把一个电路中所需的晶体管、电阻、电容和电感等元件及布线互连一起,制作在一小块或几小块半导体晶片或介质基片上,然后封装在一个管壳内,成为具有所需电路功能的微型结构;其中所有元件在结构上已组成一个整体,使电子元件向着微小型化、低功耗、智能化和高可靠性方面迈进了一大步。它在电路中用字母“IC”表示。集成电路发明者为杰克·基尔比(基于锗(Ge)的集成电路)和罗伯特·诺伊斯(基于硅(Si)的集成电路)。当今半导体工业大多数应用的是基于硅的集成电路。相关星图有源器件共3个词条3.9万阅读电子管电信号放大器件晶体管固体半导体器件集成电路微型电子器件IPB017N10N5 017N10N5航空航天用集成电路,华芯源代理产品可靠性高。

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    集成电路在医疗领域的应用:在医疗领域,集成电路也发挥着重要作用。心电图仪、血压监测仪等医疗设备中都使用了集成电路来实现信号的采集、处理和分析等功能。这些设备为医生提供了准确的诊断依据,提高了医疗水平。集成电路的生产过程:集成电路的生产过程非常复杂,包括晶圆制备、光刻、蚀刻、扩散、封装等多个环节。每个环节都需要严格控制工艺参数和产品质量,以确保最终产品的性能和可靠性。集成电路技术的发展趋势:随着科技的进步和应用的不断拓展,集成电路技术也在不断发展。未来,集成电路将向着更高集成度、更低功耗、更高性能的方向发展。同时,随着新材料、新工艺和新技术的不断涌现,集成电路的应用领域也将进一步扩大。

    在20世纪中叶,随着电子技术的飞速发展,传统的电子管与晶体管虽已推动了科技进步,但其体积庞大、功耗高的缺点日益凸显。正是在这样的背景下,杰克·基尔比于1958年成功发明了世界上较早集成电路(IC),将多个电子元件集成在一块微小的硅芯片上,这一创举不仅极大地缩小了电子设备的体积,还降低了能耗,开启了微电子技术的全新时代。集成电路的发展速度之快,令人惊叹。1965年,英特尔公司的创始人之一戈登·摩尔提出了有名的摩尔定律,预测每过18至24个月,集成电路上的晶体管数量将翻一番,性能也将相应提升。这一预测在随后的几十年里得到了惊人的验证,推动了计算机、通信、消费电子等多个领域的巨大增长。华芯源代理的集成电路覆盖多品牌,满足不同行业需求。

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    为了进一步提高集成电路的性能和降低功耗,互补金属氧化物半导体(CMOS)技术应运而生。CMOS技术通过结合P型和N型MOSFET(金属氧化物半导体场效应晶体管),实现了低功耗下的高速运算,成为现代集成电路中非常主流的技术之一,广泛应用于各类微处理器、存储器及集成电路中。集成电路的分类:根据功能和应用领域的不同,集成电路可分为数字集成电路、模拟集成电路和混合信号集成电路三大类。数字集成电路处理的是离散的数字信号,如CPU、FPGA等;模拟集成电路则处理连续的模拟信号,如放大器、滤波器等;而混合信号集成电路则结合了前两者的特点,能够同时处理数字和模拟信号。工业以太网用集成电路,华芯源有成熟解决方案。VNP20N07

汽车电子领域的集成电路,华芯源有专业的选型建议。H20R1203

    集成电路的制造工艺:集成电路制造是一个极其复杂且精密的过程。首先是硅片制备,高纯度的硅经过一系列工艺制成硅单晶棒,再切割成薄片,这就是集成电路的基础 —— 硅片。光刻是制造过程中的关键环节,通过光刻技术将设计好的电路图案转移到硅片上。光刻技术不断发展,从紫外光刻到极紫外光刻(EUV),分辨率越来越高,能够制造出更小尺寸的晶体管。蚀刻工艺则是去除不需要的硅材料,形成精确的电路结构。之后还需要进行掺杂、金属化等工艺,以形成完整的电路连接。整个制造过程需要在无尘的超净环境中进行,任何微小的杂质都可能导致芯片缺陷。H20R1203

集成电路产品展示
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