中源绿净的洁净室环境监测系统，内置能耗统计分析功能，可实时监测并统计系统自身及关联洁净设备（如 FFU、空调、除湿机）的能耗数据，帮助用户掌握能耗分布、识别节能空间、降低洁净管理的能源成本。系统的能耗统计覆盖两类设备：一是自身能耗，通过内置电能计量模块，监测单台设备的电压、电流、功率、耗电量，生成设备能耗日报 / 月报；二是关联洁净设备能耗，通过对接设备的智能电表，获取 FFU、空调等设备的能耗数据，汇总至同一平台。分析功能支持能耗趋势分析（如每日能耗变化、月度能耗对比）、能耗占比分析（如各设备能耗占总能耗的比例）、节能潜力分析（标注能耗异常高的设备，提示优化建议）。中源绿净为 20 + 纳米材料厂打造模块化洁净室，粒径≥0.1μm 粒子控制达标，材料纯度提升！百级洁净室计数器使用步骤
中源绿净贴合食品行业卫生要求，其 FFU 与洁净度联动系统适用于食品无菌车间合规联动监测，符合 GB 14881《食品生产通用卫生规范》、ISO 22000 等标准要求，可实现生产过程与 FFU 联动数据的同步记录，确保食品生产环境的可追溯性。系统检测过程无二次污染，联动控制器材质符合食品接触用材料安全标准，表面可直接清洁消毒，支持与食品生产班次匹配的联动时段设置。在乳制品无菌车间，空气中的微粒可能携带微生物，导致产品变质，系统可实时监测并联动 FFU，配合微生物检测构建双重防护；在罐头食品灌装车间，洁净环境是延长保质期的关键，系统可监测灌装区域的微粒变化，联动 FFU 维持合格环境。适用场景包括无菌乳制品车间、饮料无菌灌装线、糕点无菌生产车间等，系统支持生成食品行业联动报告，包含生产批次、检测时间、洁净度等级、FFU 运行参数等信息，可直接用于监管部门审核，设备运行噪音低（≤40dB），不会影响车间正常生产操作。深圳0.5um洁净室颗粒物中源绿净为 25 + 生物样本处理车间建模块化洁净室，样本污染率降为 0，检测准确性提升！
中源绿净的洁净室环境监测系统，针对电子半导体行业对洁净环境的严苛要求，开发了多项定制功能，重点解决晶圆制造、芯片封装等环节的微粒污染防控与环境稳定性管控问题，为电子半导体企业提供贴合生产需求的监测解决方案。该系统的定制功能之一是超小粒径微粒监测，电子半导体行业的晶圆光刻工艺对 0.1μm 及以下粒径的微粒极为敏感，普通监测设备难以捕捉，而中源绿净的系统搭载了定制化的激光散射传感器，可实现 0.1μm、0.2μm、0.3μm、0.5μm 多粒径段微粒的同步监测，监测分辨率达 0.1 粒 /m³，能及时发现车间内的微小微粒污染，避免因微粒附着导致晶圆电路短路或光刻缺陷。
中源绿净的洁净室环境监测系统，支持操作日志一键导出功能，可将所有用户对系统的操作记录（如参数修改、设备控制、数据查询）导出为规范文件，便于内部管理审计、合规检查与操作追溯，避免因操作不当导致的环境监测异常。系统的操作日志记录内容包括操作时间、操作人（账号名称）、操作类型（如 “修改采样间隔”“调整预警阈值”“导出数据”“重启设备”）、操作内容（修改前 / 后参数、操作结果）、操作 IP 地址，确保每一次操作都可追溯到个人与终端。导出格式支持 Excel、PDF、CSV 三种常用格式，导出时可选择任意时间段（如近 1 天、近 7 天、自定义日期范围），同时支持按操作人、操作类型筛选日志，减少无效信息。中源绿净的模块化洁净室，压力梯度可调节范围 5-30Pa，为 30 + 企业满足不同洁净区需求！
中源绿净针对特殊地理环境优化，其 FFU 与洁净度联动系统具备高海拔环境适配能力，可在海拔 0-5500 米的区域稳定运行，通过气压补偿算法与 FFU 运行参数优化，避免高海拔低气压导致的 FFU 风速波动、洁净度检测偏差等问题。系统的采样模块采用高海拔传感器，可在低气压环境下保持检测精度（误差≤±3%），FFU 联动调节算法根据气压变化自动修正风速阈值，确保洁净度稳定。在高原地区的制药工厂，低气压环境易导致传统 FFU 联动系统风速不稳定，该系统可通过气压补偿实现联动，满足 GMP 合规要求；在高原科研实验室，高海拔适配能力可满足野外科研、高原医疗等特殊场景的洁净联动需求。适用场景包括高原地区企业、高海拔科研项目、山地医疗设施、西部工业园区等，系统经过高海拔环境实测验证，在海拔 5500 米处仍可正常联动运行，FFU 风速调节精度与平原地区一致性良好，同时设备外壳密封结构经过优化，防止高海拔干燥空气导致的灰尘侵入与部件老化，散热系统适应高海拔温差大的环境，避免因温度剧烈变化导致的联动故障。中源绿净为 45 + 医疗器械研发室打造模块化洁净室，符合 ISO 14644-1 标准，研发效率提升！苏州在线洁净室测试国家标准
中源绿净模块化洁净室，空调过滤系统容尘量达 800g/m²，为 20 + 企业延长更换周期！百级洁净室计数器使用步骤
中源绿净深耕光刻工艺监测需求，其 FFU 与洁净度联动系统专为光刻车间设计，整合高精度联动功能，支持 0.1μm、0.2μm 小粒径微粒的实时监测，通过 FFU 高精度无级调速（调节精度 ±0.01m/s），维持光刻区域洁净度稳定在 ISO 1-2 级。系统具备抗光刻光源干扰、抗电磁辐射设计，可在紫外光、高频电磁场环境中稳定联动，检测数据不受干扰，FFU 采用低振动设计，运行振动幅度小于 0.05mm，避免影响光刻设备精度。在半导体光刻车间，光刻胶涂布、曝光、显影等关键工序对微粒极为敏感，系统可通过 FFU 联动，快速消除人员移动、设备运行产生的微粒；在 LCD/OLED 面板光刻车间，系统可分布式部署 FFU 联动单元，覆盖不同光刻工位，确保各区域洁净度一致。适用场景包括半导体晶圆光刻车间、LCD/OLED 面板光刻车间、高精度光刻实验室等，系统支持与光刻设备联动控制，当洁净度异常时，可同步暂停光刻设备，减少不合格产品产生，同时具备远程校准功能，可通过网络连接标准粒子发生器进行远程校准，减少人员进入高洁净等级车间的次数。百级洁净室计数器使用步骤
