Nanoscribe基本参数
  • 品牌
  • Nanoscribe
  • 型号
  • 齐全
  • 产地
  • 德国
Nanoscribe企业商机

   Nanoscribe设备专注于纳米,微米和中等尺寸的增材制造。早期的PhotonicProfessionalGT3D打印机设计用于使用双光子聚合生产纳米和微结构塑料组件和模具。在该过程中,激光固化部分流体光敏材料,逐层固化。使用双光子聚合,分辨率可低至200纳米或高达几毫米。另一方面,GT2现在可以在短时间内在高达100×100mm2的打印区域上生产具有亚微米细节的物体,通常为160纳米至毫米范围。此外,使用GT2,用户可以选择针对其应用定制的多组物镜,基板,材料和自动化流程。该系统还具有用户友好的3D打印工作流程,用于制作单个元素。这些元件可以创造出比较大的形状精度和表面光滑度,满足智能手机行业中微透镜或细胞生物学中的花丝支架结构的要求。


光固化光刻技术,咨询纳糯三维科技(上海)有限公司。双光子聚合NanoscribeQuantum X

双光子聚合NanoscribeQuantum X,Nanoscribe

Nanoscribe称,Quantum X是世界上基于双光子灰度光刻技术(two-photon grayscale lithography,2GL)的工业系统,目前该技术正在申请专利。2GL将灰度光刻技术与Nanoscribe的双光子聚合技术相结合,可生产折射和衍射微光学以及聚合物母版的原型。多层衍射光学元件(diffractiveopticalelement,DOE)可以通过在扫描平面内调制激光功率来完成,从而减少多层微制造所需的打印时间。Nanoscribe表示,折射微光学也受益于2GL工艺的加工能力,可制作单个光学元件、填充因子高达100%的阵列,以及可以在直接和无掩模工艺中实现各种形状,如球面和非球面透镜。QuantumX的软件能实时控制和监控打印作业,并通过交互式触摸屏控制面板进行操作湖南微纳光刻Nanoscribe微光学更多有关微纳3D打印产品和技术咨询,欢迎联系Nanoscribe中国分公司 - 纳糯三维科技.

双光子聚合NanoscribeQuantum X,Nanoscribe

NanoscribePhotonicProfessionalGT2使用双光子聚合(2PP)来产生几乎任何3D形状:晶格、木堆型结构、自由设计的图案、顺滑的轮廓、锐利的边缘、表面的和内置倒扣以及桥接结构。PhotonicProfessionalGT2结合了设计的灵活性和操控的简洁性,以及普遍的材料-基板选择。因此,它是一个理想的科学仪器和工业快速成型设备,适用于多用户共享平台和研究实验室。Nanoscribe的3D无掩模光刻机目前已经分布在30多个国家的前沿研究中,超过1,000个开创性科学研究项目是这项技术强大的设计和制造能力的证明。


3D微纳加工技术应用于材料工程领域。材料属性可以通过成分和几何设计来调整和定制。通过使用Nanoscribe的3D微纳加工解决方案,可以实现具有特定光子,机械,生物或化学特性的创新超材料和仿生微结构。Nanoscribe的无掩模光刻系统在三维微纳制造领域是一个不折不扣的多面手,由于其出色的通用性、与材料的普适性和便于操作的软件工具,在科学和工业项目中备受青睐。这种可快速打印的微结构在科研、手板定制、模具制造和小批量生产中具有广阔的应用前景。也就是说,在纳米级、微米级以及中尺度结构上,可以直接生产用于工业批量生产的聚合物母版。


Nanoscribe致力于不断推动增材制造技术的发展,为客户提供高质量、高效率的解决方案。

双光子聚合NanoscribeQuantum X,Nanoscribe

基于双光子聚合(2PP)原理的双光子灰度光刻(2GL®)是Nanoscribe技术,具备体素动态控制能力。在扫描激光焦点横跨扫描平面时,调制曝光剂量会改变光敏树脂内的体素大小,从而实现对聚合体素尺寸的精细可控变化。这是激光功率调制和高速振镜扫描与精确的横向载物台运动同步的结果。为此,将灰度图像转换为曝光级别的空间变化,从而在一个平面上打印不同的体素高度。 2GL有什么优势? 双光子灰度光刻 技术(2GL®)使用激光束调制和高速振镜的高频同步进行单体素调节,从而实现光学质量表面结构。通过高精度定位单元和自校准程序,可在拼接相邻打印区域时以出色准确性进行打印,以制造大型结构。2GL动态调整打印场边界处的激光剂量,以补偿光敏聚合物的化学诱导收缩和定位缺陷。通过这种功能组合,可以在几平方厘米的区域内打印出真正的无缝结构,消除所有拼接痕迹。专注于微纳米3D打印设备的额研发和应用。海南科研Nanoscribe技术

Nanoscribe是德国高精度增材制造系统的先驱。双光子聚合NanoscribeQuantum X

Nanoscribe Quantum X align作为前列的3D打印系统具备了A2PL®对准双光子光刻技术,可实现在光纤和光子芯片上的纳米级精确对准。全新灰度光刻3D打印技术3D printing by 2GL®在实现优异的打印质量同时兼顾打印速度,适用于微光学制造和光子封装领域。3D printing by 2GL®将Nanoscribe的灰度技术推向了三维层面。整个打印过程在最高速度扫描的同时实现实时动态调制激光功率。这使得聚合的体素得到精确尺寸调整,以完美匹配任何3D形状的轮廓。在无需切片步骤,不产生形状失真的要求下,您将获得具有无瑕疵光学表面的任意3D打印设计的真实完美形状。双光子聚合NanoscribeQuantum X

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