增材制造基本参数
  • 品牌
  • Nanoscribe
  • 型号
  • 齐全
  • 类型
  • 双光子微纳激光直写
  • 规格
  • 双光子聚合
  • 产地
  • 德国
增材制造企业商机

Nanoscribe公司PhotonicProfessionalGT2高速3D打印系统制作的高精度器件图登上了刚发布的商业微纳制造杂志“CommercialMicroManufacturingmagazine”(CMM)。文章中介绍了高精度3D打印,并重点讲解了先进的打印材料是如何让双光子聚合技术应用锦上添花的。Nanoscribe公司的PhotonicProfessionalGT2系统把双光子聚合技术融入强大了3D打印工作流程,实现了各种不同的打印方案。双光子聚合技术用于3D微纳结构的增材制造,可以通过激光直写而避免使用昂贵的掩模版和复杂的光刻步骤来创建3D和2.5D微结构制作。  激光增材制造是一种高效、精确的制造技术。工业级增材制造PPGT

工业级增材制造PPGT,增材制造

Nanoscribe作为一家纳米,微米和中尺度高精度结构增材制造,一直致力于开发和生产3D 微纳加工系统和无掩模光刻系统,以及自研发的打印材料和特定应用不同解决方案。Nanoscribe成立于 2007 年,是卡尔斯鲁厄理工学院 (KIT) 的衍生公司。在全球前列大学和创新科技企业的中,有超过2,500 多名用户在使用我们突破性的 3D 微纳加工技术和定制应用解决方案。 Nanoscribe 凭借其过硬的技术背景和市场敏锐度奠定了其市场的主导地位,并以高标准来要求自己以满足客户的需求。 Nanoscribe 将在未来进一步扩大产品组合实现多样化,以满足不用客户群的需求。上海Nanoscribe增材制造PPGTNanoscribe在中国的子公司纳糯三维告诉您增材制造技术在工业制造领域中的意义是什么。

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  QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系统,用于快速原型制作和晶圆级批量生产,以充分挖掘3D微纳加工在科研和工业生产领域的潜力。作为2019年推出的头一台双光子灰度光刻(2GL®)系统QuantumX的同系列产品,QuantumXshape提升了3D微纳加工能力,即完美平衡精度和速度以实现高精度增材制造,以达到比较高水平的生产力和打印质量。作为一款真正意义上的全能机型,该系统是基于双光子聚合技术(2PP)的专业激光直写系统,可为亚微米精度的。  

Nanoscribe是非常独特的纳米和微米级3D打印技术。该公司成立于2007年,目前已经在激光光刻行业处于领头的地位。Nanoscribe公司的Photonic Professional GT光刻系统主要通过在微尺度上运用激光来固化感光材料。3D打印材料主要包括液态的光敏材料和固态的旋涂光刻材料。凭着其独特的微尺度3D 打印技术与人性化的软件,Nanoscribe毫无疑问是增材制造领域里的一股颠覆性力量。ORNL的科学家们使用Nanoscribe的增材制造系统来构建世界上特别小的指尖陀螺, 该迷你玩具的宽度只为100微米(与人类头发的宽度相当) 增材制造在生活中应用。

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3D打印公司Nanoscribe早期是德国卡尔斯鲁厄理工学院的分支机构,自此成为全球市场的高精度,微型3D打印技术和微光解决方案的提供商。德国3D打印公司Nanoscribe正在使用其Photonic Professional GT 3D打印机来制造包括标准折射微光学,自由光学元件,衍射光学元件和多透镜系统在内的微光学形状。德国增材制造公司表示,“将 3D打印技术 与用户友好的软件和创新材料相结合,导致可重复的精益流程”,使客户能够“克服当前的技术障碍”。 Nanoscribe使用其Photonic Professional GT 3D打印机,近期展示了如何使用双光子聚合工艺生产各种微光学形状。这些Photonic Professional GT 3D打印机据称提供具有光学质量表面光洁度的亚微米特征,以及沿着3D打印工作流程的快速制作。Nanoscribe在中国的子公司纳糯三维科技(上海)有限公司邀您一起探讨3D打印和增材制造原理。微纳米增材制造PPGT2

对比传统制造,增材制造有什么优势和特点?工业级增材制造PPGT

Nanoscribe的Photonic Professional GT2双光子无掩模光刻系统的设计多功能性配合打印材料的多方面选择性,可以实现微机械元件的制作,例如用光敏聚合物,纳米颗粒复合物,或水凝胶打印的远程操控可移动微型机器人,并可以选择添加金属涂层。此外,微纳米器件也可以直接打印在不同的基材上,甚至可以直接打印于微机电系统(MEMS)。双光子灰度光刻技术可以一步实现真正具有出色形状精度的多级衍射光学元件(DOE),并且满足DOE纳米结构表面的横向和纵向分辨率达到亚微米量级。由于需要多次光刻,刻蚀和对准工艺,衍射光学元件(DOE)的传统制造耗时长且成本高。


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