双光子聚合基本参数
  • 品牌
  • Nanoscribe
  • 型号
  • 齐全
  • 产地
  • 德国
  • 厂家
  • Nanoscribe
双光子聚合企业商机

QuantumXshape作为理想的快速成型制作工具,可实现通过简单工作流程进行高精度和高设计自由度的制作。作为2019年推出的头一台双光子灰度光刻(2GL®)系统QuantumX的同系列产品,QuantumXshape提升了3D微纳加工能力,即完美平衡精度和速度以实现高精度增材制造,以达到高水平的生产力和打印质量。总而言之,工业级QuantumX打印系统系列提供了从纳米到中观尺寸结构的非常先进的微制造工艺,适用于晶圆级批量加工。高速3D微纳加工系统QuantumXshape可实现出色形状精度和高精度制作。这种高质量的打印效果是结合了特别先进的振镜系统和智能电子系统控制单元的结果,同时还离不开工业级飞秒脉冲激光器以及平稳坚固的花岗岩操作平台。双光子聚合到底是什么技术?有什么特点?运用在哪些领域?天津新型双光子聚合激光直写

天津新型双光子聚合激光直写,双光子聚合

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2双光子无掩模光刻系统的设计多功能性配合打印材料的多方面选择性,可以实现微机械元件的制作,例如用光敏聚合物,纳米颗粒复合物,或水凝胶打印的远程操控可移动微型机器人,并可以选择添加金属涂层。此外,微纳米器件也可以直接打印在不同的基材上,甚至可以直接打印于微机电系统(MEMS)。双光子灰度光刻技术可以一步实现真正具有出色形状精度的多级衍射光学元件(DOE),并且满足DOE纳米结构表面的横向和纵向分辨率达到亚微米量级。由于需要多次光刻,刻蚀和对准工艺,衍射光学元件(DOE)的传统制造耗时长且成本高。而利用增材制造即可简单一步实现多级衍射光学元件,可以直接作为原型使用,也可以作为批量生产母版工具。


天津新型双光子聚合激光直写双光子聚合利用了双光子吸收过程对材料穿透性好、空间选择性高的特点。

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在当前科技快速发展的时代,各种新技术层出不穷。其中,双光子聚合技术以其独特的优势和应用前景,正在引起越来越多的关注。双光子聚合是物质在发生双光子吸收后所引发的光聚合过程,它有着更多的应用前景,包括快速3D打印、光子晶体形成、高精度光子器件制造等领域。双光子聚合技术的优势:1. 高精度和高分辨率:双光子聚合技术采用光子作为加工单位,具有超高的精度和分辨率。与传统的加工技术相比,双光子聚合技术可以制造出更加精细、复杂的结构,从而实现更高级别的光学器件和制造工艺。2. 快速和高效:双光子聚合技术可以在短时间内完成大量材料的加工和制备。由于其高精度和高分辨率的特点,使得制造过程更加快速和高效。这不仅缩短了产品的研发周期,还能满足工业化大规模生产的需求。3. 高度灵活性和可扩展性:双光子聚合技术具有高度灵活性和可扩展性,可以在不同材料和表面上应用。这种技术不仅可以用于玻璃、塑料等常见材料的加工,还可以应用于半导体、生物医学等领域。这意味着双光子聚合技术的应用领域非常,可以为不同行业提供定制化的解决方案。

QuantumXshape作为理想的快速成型制作工具,可实现通过简单工作流程进行高精度和高设计自由度的制作。作为2019年推出的头一台双光子灰度光刻(2GL®)系统QuantumX的同系列产品,QuantumXshape提升了3D微纳加工能力,即完美平衡精度和速度以实现高精度增材制造,以达到高水平的生产力和打印质量。总而言之,工业级QuantumX打印系统系列提供了从纳米到中观尺寸结构的非常先进的微制造工艺,适用于晶圆级批量加工。作为全球头一台双光子灰度光刻激光直写系统,QuantumX可以打印出具有出色形状精度和光学质量表面的高精度微纳光学聚合物母版,可适用于批量生产的流水线工业程序,例如注塑,热压花和纳米压印等加工流程,从而拓展微纳加工工业领域的应用。NanoScribe的双光子聚合技术在光子学领域运用特别广。

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Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2双光子无掩模光刻系统的设计多功能性配合打印材料的多方面选择性,可以实现微机械元件的制作,例如用光敏聚合物,纳米颗粒复合物,或水凝胶打印的远程操控可移动微型机器人,并可以选择添加金属涂层。此外,微纳米器件也可以直接打印在不同的基材上,甚至可以直接打印于微机电系统(MEMS)。PhotonicProfessionalGT2系统可以实现精度上限的3D打印,突破了微纳米制造的限制。该打印系统的易用性和灵活性的特点配以特别广的打印材料选择使其成为理想的实验研究仪器和多用户设施双光子聚合技术是实现微纳尺度3D打印特别有效的技术。山西2PP双光子聚合微纳加工系统

Nanoscribe中国分公司-纳糯三维邀您一起探讨什么是双光子聚合微纳加工系统。天津新型双光子聚合激光直写

对准双光子光刻技术(A2PL®)是Nanoscribe基于双光子聚合(2PP)的一种新型专利纳米微纳制造技术。该技术可以将打印的结构自动对准到光纤和光子芯片上,例如用于光子封装中的光学互连。同时高精度检测系统还可以识别基准点或拓扑基底特征,确保对3D打印进行高度精确的对准。Nanoscribe对准双光可光刻技术搭配nanoPrintX,一种基于场景图概念的软件工具,可用于定义对准3D打印的打印项目。树状数据结构提供了所有与打印相关的对象和操作的分层组织,用于定义何时、何地、以及如何进行打印。在nanoPrintX中可以定义单个对准标记以及基板特征,例如芯片边缘和光纤表面。使用QuantumXalign系统的共焦单元或光纤照明单元,可以识别这些特定的基板标记,并将其与在nanoPrintX中定义的数字模型进行匹配。对准双光子光刻技术和nanoPrintX软件是QuantumXalign系统的标配。天津新型双光子聚合激光直写

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