事实上，双光子聚合加工是在2001年开始真正应用在微纳制造领域的，其先驱者是东京大阪大学的Kawata教授以及孙洪波教授。当时这个实验室在nature上发表的一篇工作，也就是传说中的纳米牛引起了极大的轰动：《Finerfeaturesforfunctionalmicrodevices：Micromachinescanbecreatedwithhigherresolutionusingtwo-photonabsorption.》但是，这篇文献中还进行了另外一个更厉害的工作，这两位教授做出了当时世界上特别小的弹簧振子，其加工分辨率达到了120nm，超越了衍射极限，同时还没有使用诸如近场加工之类的不太通用的解决方案，而是单纯的利用了材料的性质。光子集成芯片研发中，此技术支持微纳尺度功能单元制备，推动芯片集成化。上海纳米双光子聚合无掩光刻
售后支持和服务拥有超过14年的微加工技术经验，我们的技术支持团队努力在短的时间内为客户提供好的支持。在德国总部，中国分公司和美国分公司，以及通过Nanoscribe认证的经销商提供的销售服务和技术支持。我们的跨学科和多语言技术支持团队为客户提供各方面的支持:装机、维护和维修现场和线上的培训课程通过NanoGuide综合自助服务平台自助查询电话、电子邮件和设备自带远程支持功能基础操作技巧之外的高阶技术和应用支持延长维修保修合同、升级服务、移机服务浙江超高精度双光子聚合三维微纳米加工系统对准双光子光刻是高精度微纳制造技术，能实现复杂三维结构的精确加工。
双光子聚合技术(2PP)是一种“纳米光学”3D打印方法，类似于光固化快速成型技术，未来学家ChristopherBarnatt认为这种技术未来可能会成为主流3D打印形式。国际上，维也纳科技大学的科学家们一致致力于提高感光性树脂性能和成像技术。而英国帝国理工学院还通过德国的Nanoscribe设备打印出只有100微米长的中国长城模型赠送给我们国家。NanoScribe这样的双光子聚合技术潜在的应用范围和影响力是很特殊的。其应用领域包括：光子学(Photonics):光子晶体、超颖材料、激光分布回馈术(DFBLasers)光子共振环、绕射光学微光子学(MicroOptics):微光学器件、整合型光学微流道技术(MicroFluidics):生医芯片系统、物质研究开发与分析、三维基础结构与微流道通路生命科学(LifeSciences):细胞外数组结构、干细胞分离术、细胞成长研究、细胞迁移研究、组织工程纳米与微米工艺(Nano-andMicrotechnology):超细分辨率光学掩膜、壁虎与莲花效应分析
Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2提供世界上分辨率非常高的3D无掩模光刻技术，用于快速，精度非常高的微纳加工，可以轻松3D微纳光学制作。可以搭配不同的基板，包括玻璃，硅晶片，光子和微流控芯片等，也可以实现芯片和光纤上直接打印。我们的3D微纳加工技术可以满足您对于制作亚微米分辨率和毫米级尺寸的复杂微机械元件的要求。3D设计的多功能性对于制作复杂且响应迅速的高精度微型机械，传感器和执行器是至关重要的。基于双光子聚合原理的激光直写技术，可适用于您的任何新颖创意的快速原型制作；也适合科学家和工程师们在无需额外成本增加的前提下，实现不同参数的创新3D结构的制作。微米级增材制造能够突破传统微纳光学设计的上限，借助Nanoscribe双光子聚合技术的出色的性能，可以轻松实现球形，非球形，自由曲面或复杂3D微纳光学元件制作，并具备出色的光学质量表面和形状精度。
双光子聚合到底是什么技术？
随着科技的不断进步，双光子聚合激光直写技术正以惊人的速度改变着我们的生活。这项创新技术利用双光子效应，通过高能量激光束直接写入材料表面，实现了高精度、高效率的微纳加工。它不仅在微电子、光电子、生物医学等领域展现出巨大潜力，还为我们带来了无限的想象空间。双光子聚合激光直写技术的突破在于其能够实现超高分辨率的微纳加工。传统的光刻技术受限于光的波长，无法达到纳米级别的加工精度。而双光子聚合激光直写技术则能够利用两个光子的能量共同作用，将加工精度提升到亚微米甚至纳米级别。这使得我们能够制造出更小、更精细的微型器件，为微电子行业带来了巨大的发展机遇。除了在微电子领域的应用，双光子聚合激光直写技术还在光电子领域展现出了巨大的潜力。通过控制激光束的强度和聚焦点的位置，我们可以在光学材料中实现三维结构的直接写入。这为光学器件的制造提供了全新的思路，不仅能够提高器件的性能，还能够降低成本。这对于光通信、光存储等领域的发展具有重要意义。Nanoscribe中国分公司-纳糯三维带您了解双光子光聚合反应及其在周期性微结构方面的应用。上海纳米双光子聚合无掩光刻
想要了解双光子聚合技术运用在哪些领域请咨询纳糯三维科技（上海）有限公司。上海纳米双光子聚合无掩光刻
作为全球头一台双光子灰度光刻激光直写系统，QuantumX可以打印出具有出色形状精度和光学质量表面的高精度微纳光学聚合物母版，可适用于批量生产的流水线工业程序，例如注塑，热压花和纳米压印等加工流程，从而拓展微纳加工工业领域的应用。2GL与这些批量生产流水线工业程序的结合得益于新技术的亚微米分辨率和灵活性的特点，同时缩短创新微纳光学器件（如衍射和折射光学器件）的整体制造时间。Nanoscribe的QuantumX打印系统非常适合DOE的制作。该系统的无掩模光刻解决方案可以满足衍射光学元件所需的横向和纵向高分辨率要求。基于双光子灰度光刻技术(2GL®)的QuantumX打印系统可以实现一气呵成的制作，即一步打印多级衍射光学元件，并以经济高效的方法将多达4,096层的设计加工成离散的或准连续的拓扑。上海纳米双光子聚合无掩光刻
