Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2双光子无掩模光刻系统的设计多功能性配合打印材料的多方面选择性，可以实现微机械元件的制作，例如用光敏聚合物，纳米颗粒复合物，或水凝胶打印的远程操控可移动微型机器人，并可以选择添加金属涂层。此外，微纳米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微机电系统（MEMS）。双光子灰度光刻技术可以一步实现真正具有出色形状精度的多级衍射光学元件（DOE），并且满足DOE纳米结构表面的横向和纵向分辨率达到亚微米量级。由于需要多次光刻，刻蚀和对准工艺，衍射光学元件（DOE）的传统制造耗时长且成本高。Nanoscribe中国分公司-纳糯三维邀您一起探讨国内在双光子聚合技术领域的未来发展。湖南新型双光子聚合无掩光刻
双光子聚合3D打印技术的发展也面临一些挑战。首先，材料选择和性能仍然是一个问题。目前可用的光敏树脂材料种类有限，无法满足所有需求。其次，打印速度和成本也是制约技术发展的因素。虽然双光子聚合3D打印技术比传统技术更快，但仍然需要进一步提高效率和降低成本。然而，随着技术的不断进步和创新，双光子聚合3D打印技术有望在未来取得更大的突破。科研人员正在不断探索新的材料和打印方法，以提高打印质量和效率。同时，企业也加大了对该技术的支持和投入，推动其在各个领域的应用。双光子聚合3D打印技术是一项具有巨大潜力的创新科技。它将为制造业带来的变革，推动产品设计和制造的发展。我们有理由相信，在不久的将来，双光子聚合3D打印技术将成为制造业的主流技术，为我们带来更加美好的未来。天津亚微米级双光子聚合3D光刻Nanoscribe公司的Photonic Professional GT2系统把双光子聚合技术融入强大了3D打印工作流程。
QuantumXshape技术特点概要：快速原型制作，高精度，高设计自由度，简易明了的工程流程；工业验证的晶圆级批量生产；200个标准结构的通宵产量；通用及专门使用的打印材料；兼容自主及第三方打印材料QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系统，用于快速原型制作和晶圆级批量生产，以充分挖掘3D微纳加工在科研和工业生产领域的潜力。该系统是基于双光子聚合技术（2PP）的专业激光直写系统，可为亚微米精度的2.5D和3D物体的微纳加工提供极高的设计自由度。QuantumXshape可实现在6英寸的晶圆片上进行高精度3D微纳加工。这种效率的提升对于晶圆级批量生产尤其重要，这对于科研和工业生产领域应用有着重大意义。
Nanoscribe作为一家纳米，微米和中尺度高精度结构增材制造**，一直致力于开发和生产和无掩模光刻系统，以及自研发的打印材料和特定应用不同解决方案。在全球顶端大学和创新科技企业的中，有超过2,500多名用户在使用我们突破性的3D微纳加工技术和定制应用解决方案。作为基于双光子聚合技术（2PP）的微纳加工领域市场带领者，Nanoscribe在全球30多个国家拥有各科领域的客户群体。基于2PP微纳加工技术方面的专业知识，Nanoscribe为顶端科学研究和工业创新提供强大的技术支持，并推动生物打印、微流体、微纳光学、微机械、生物医学工程和集成光子学技术等不同领域的发展。“我们非常期待加入CELLINK集团，共同探索双光子聚合技术在未来所带来的更大机遇”NanoscribeCEOMartinHermatschweiler说道。事实上，双光子聚合加工是在2001年开始真正应用在微纳制造领域的。
售后支持和服务拥有超过14年的微加工技术经验，我们的技术支持团队努力在短的时间内为客户提供好的支持。在德国总部，中国分公司和美国分公司，以及通过Nanoscribe认证的经销商提供的销售服务和技术支持。我们的跨学科和多语言技术支持团队为客户提供各方面的支持:装机、维护和维修现场和线上的培训课程通过NanoGuide综合自助服务平台自助查询电话、电子邮件和设备自带远程支持功能基础操作技巧之外的高阶技术和应用支持延长维修保修合同、升级服务、移机服务双光子聚合三维微制造系统是一种用于化学领域的工艺试验仪器。天津亚微米级双光子聚合3D光刻
Nanoscribe中国分公司-纳糯三维邀您一起探讨什么是双光子聚合微纳加工系统。湖南新型双光子聚合无掩光刻
Nanoscribe双光子聚合技术所具有的高设计自由度，可以在各种预先构图的基板上实现波导和混合折射衍射光学器件等3D微纳加工制作。结合Nanoscribe公司的高精度定位系统，可以按设计需要精确地集成复杂的微纳结构。由Nanoscribe研发的IP系列光刻胶是用于特别高分辨率微纳3D打印的标准材料。所打印的亚微米级别分辨率器件具有特别高的形状精度，属于目前市场上易于操作的“负胶”。IP树脂作为高效的打印材料，是Nanoscribe微纳加工解决方案的基本组成部分之一。湖南新型双光子聚合无掩光刻
