海南真空镀膜设备作用价格

【真空镀膜产品常见不良分析及改善对策之膜内白雾】： 白雾形成在膜内，无法用擦拭方法去除。 可能成因： 1. 基片脏 2. 镜片表面腐蚀污染 3. 膜料与膜料之间、膜料与基片之间的匹配 4. 氧化物充氧不够 5. 第yi层氧化锆膜料，可能对某些基片产生白晕现象 6. 基片进罩前（洗净后）受潮气污染 7. 洗净或擦拭不良，洗净痕迹，擦拭痕迹 8. 真空室脏、水汽过重 9. 环境湿度大 改善对策：基片本身的问题可能时主要的镀膜室尽量弥补，镀膜本身Zui大的可能室膜料匹配问题。 1. 改进膜系，第yi层不用氧化锆 2. 尽量减少真空室开门时间 3. 真空室在更换护板、清洁后，Zui好能空罩抽真空烘烤一下，更换的护板等真空室部件必须干燥、干净 4. 改善环境 5. 妥善保护进罩前在伞片上的镜片，免受污染 6. 改善洗净、擦拭效果 7. 改善膜匹配（考虑第yi层用Al2O3） 8. 改善膜充氧和蒸发速率（降低） 9. 加快前工程的流程。前工程对已加工光面的保护加强。 10. 抛光加工完成的光面，必须立即清洁干净，不能有抛光粉或其他杂质附着干结。关于真空镀膜机，你知道多少？海南真空镀膜设备作用价格

【光谱分光不良的补救（补色）之停电】： 分光不良分为二种情况：一是全部膜系镀制完成后，经测试分光不良，此类不良主要按六节所述方法处理，一般减反膜难以补救。但对于高反膜、带通滤光膜等可以通过加层的方法补救。二是镀制中途中断（包括发现错误中断）造成的分光不良，一般都可以通过后续努力补救。后续方法正确，补救成功率比较高。 中断的原因形式之停电： 对于停电这种情况，比较好处理，只要确认前面镀的没错，程序没有用错，就可以继续原来的程序，要注意的是：如果某一层镀了一部分继续镀下去时，交接处要减少一些膜厚（根据膜料、蒸发速率决定减少多少，一般时0.2~1nm左右），如果该层剩下的膜厚不足15~20秒蒸镀时，要考虑降低蒸发速率或干脆不读，通过后续层调整膜厚解决。湖南真空镀膜设备招工真空镀膜设备升级改造。

【真空镀膜电阻加热蒸发法】：电阻加热蒸发法就是采用钨、钼等高熔点金属，做成适当形状的蒸发源，其上装入待蒸发材料，让电流通过，对蒸发材料进行直接加热蒸发，或者把待蒸发材料放入坩锅中进行间接加热蒸发。利用电阻加热器加热蒸发的镀膜设备构造简单、造价便宜、使用可靠，可用于熔点不太高的材料的蒸发镀膜，尤其适用于对膜层质量要求不太高的大批量的生产中。目前在镀铝制品的生产中仍然大量使用着电阻加热蒸发的工艺。电阻加热方式的缺点是：加热所能达到的Zui高温度有限，加热器的寿命也较短。近年来，为了提高加热器的寿命，国内外已采用寿命较长的氮化硼合成的导电陶瓷材料作为加热器。

【离子镀的历史】： 真空离子镀膜技术是近几十年才发展起来的一种新的镀膜技术。在离子镀技术兴起的40多年来取得了巨大的进步，我国也有将近30多年的离子镀研究进程。 【离子镀的原理】： 蒸发物质的分子被电子撞击后沉积在固体表面称为离子镀。蒸发源接阳极，工件接阴极，当通以三至五千伏高压直流电以后，蒸发源与工件之间产生辉光放电。由于 真空罩内充有惰性氩气，在放电电场作用下部分氩气被电离，从而在阴极工件周围形成一等离子暗区。带正电荷的氩离子受阴极负高压的吸引，猛烈地轰击工件表 面，致使工件表层粒子和脏物被轰溅抛出，从而使工件待镀表面得到了充分的离子轰击清洗。随后，接通蒸发源交流电源，蒸发料粒子熔化蒸发，进入辉光放电区并 被电离。带正电荷的蒸发料离子，在阴极吸引下，随同氩离子一同冲向工件，当抛镀于工件表面上的蒸发料离子超过溅失离子的数量时，则逐渐堆积形成一层牢固粘 附于工件表面的镀层。 【离子镀的优缺点】： 优点：膜层附着力好，膜层致密，具有绕度性能，能在形状复杂的零件表面镀膜。 缺点：离子镀的应用范围不广；膜与基体间存在较宽的过渡界面。会有气体分子吸附。 真空镀膜设备国内有哪些产商？

【真空镀膜真空的基本概念】： 真空的划分： 粗真空 760Torr~10E&3Torr 高真空 10E&4Torr~10E&8Torr 超高真空 10E&9~10E&12 Torr 极高真空 <10E&12Torr 流导（导通量）：表示真空管道通过气体的能力，单位为升/秒（L/S）。一般情况下，管道越短，直径越大，表面越光滑，越直的管道流导也越大。 流量：单位时间内流过任意截面的气体量，单位为Torr·L/s或Pa·L/s。 抽气速率：在一定的压强和温度下，单位时间内由泵进气口处抽走的气体称为抽气速率，简称抽速。单位一般为L/S或m3/hr或CFM。 极限真空：真空容器经充分抽气后，稳定在某一真空度，此真空度称为极限真空。 真空镀膜机使用时，需要注意哪些问题?福建af真空镀膜设备

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【光学镀膜的目的】： &反射率的提高或透射率的降低 &反射率的降低或透射率的提高 &分光作用：中性分光、变色分光、偏极光分光 &光谱带通、带止及长波通或短波通之滤光作用 &相位改变 &液晶显示功能之影显 &色光显示、色光反射、伪chao及有价证券之防止 &光波的引导、光开关及集体光路 a. 在膜层中，波的干涉结果，如R%, T%都是与膜质本身和两边界边的折射率率有关系，相位变化也是如此。 b. 由于干涉作用造成的反射率有时升高，有时反而降低，都要视磨蹭的折射率高于或低于基板折射率而定。若Nf>Ns,则反射率会提高（Ns为基底），若Nf海南真空镀膜设备作用价格