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真空镀膜设备基本参数
  • 品牌
  • 国泰真空
  • 型号
  • ZZS
  • 类型
  • 真空镀膜
  • 加工定制
  • 电源
  • 380
  • 厂家
  • 成都国泰真空设备有限公司
  • 产地
  • 成都
真空镀膜设备企业商机

【真空镀膜产品常见不良分析及改善对策之破边、炸裂】: 一般的镀膜会对基片加热,由于基片是装架在金属圈、碟内,由于镜圈或碟片与镜片(基片)的热膨胀系数不一致,冷却过程中会造成镜片的破便或炸裂。 有些大镜片,由于出罩时的温度较高,与室温的温差较大,镜片的热应力作用造成镜片炸裂或破边。有些零件边缘倒边的形状容易造成卡圈而破边。 改善对策: 1. 夹具(镜圈、碟片)的设计,在尺寸配合上要合理,充分考虑制造误差带来的影响。 2. 注意镜圈、碟片的变形,已经变形的夹具不能使用。 3. 选用合适的夹具才来哦(非导磁材料、不生锈、耐高温不变性),不锈钢较为理想(热变形系数小),就是加工难度大,价格贵。 4. 对于大镜片应降低出罩时的温度,减少温差,防止炸裂。 5. 如果时镜圈,可以考虑在镜圈上开槽,作为缓冲。真空镀膜设备操作培训。新疆奥普光电有真空镀膜设备吗

、根据自己的产品定位来选择镀膜机厂家的等级。如果产品定位是市场,那就要对应选择中的设备,如果不是那就选择中端或者低端即可。第二、中的镀膜机设备稳定性一定要好,且要保证配件的可靠性。因为真空镀膜机本身就是一个比较复杂的系统,包括真空、自动化等多个系统,任何一个系统的部件不可靠都会直接影响着整个机器运行的稳定性和可靠性,从而给生产带来不便。第三、可以观察一下同行业或者一些的公司都在使用哪家的真空镀膜机,这也是减小风险的一种有效方式。湖北立式真空镀膜设备真空镀膜设备主要用途?

【真空镀膜设备的分类】:这个问题如果在十年之前,其实是很容易回答的,就是两个大类,物理沉积设备和化学沉积设备。现在这样回答也是没错的,但现在再这样回答就没办法把事情说清楚了,所以从应用领域上可以分成以下几类:传统光学器件(镜片,滤光片)所用的镀膜设备:单腔体或多腔体蒸发式镀膜设备,溅射式镀膜设备。新材料领域的柔性设备:卷对卷柔性镀膜设备。光通讯行业:离子束溅射镀膜设备。半导体及相似工艺:化学气相沉积设备。功能膜:多弧离子镀设备,溅射设备,蒸发设备玻璃工艺:溅射式连续线其余的就得归到“工艺定制设备”这个范围里面了,例如车灯镀膜设备,太阳能的共蒸发设备,光纤镀膜设备,太阳能管设备等等

【真空镀膜产品常见不良分析及改善对策之膜内白雾】: 白雾形成在膜内,无法用擦拭方法去除。 可能成因: 1. 基片脏 2. 镜片表面腐蚀污染 3. 膜料与膜料之间、膜料与基片之间的匹配 4. 氧化物充氧不够 5. 第yi层氧化锆膜料,可能对某些基片产生白晕现象 6. 基片进罩前(洗净后)受潮气污染 7. 洗净或擦拭不良,洗净痕迹,擦拭痕迹 8. 真空室脏、水汽过重 9. 环境湿度大 改善对策:基片本身的问题可能时主要的镀膜室尽量弥补,镀膜本身Zui大的可能室膜料匹配问题。 1. 改进膜系,第yi层不用氧化锆 2. 尽量减少真空室开门时间 3. 真空室在更换护板、清洁后,Zui好能空罩抽真空烘烤一下,更换的护板等真空室部件必须干燥、干净 4. 改善环境 5. 妥善保护进罩前在伞片上的镜片,免受污染 6. 改善洗净、擦拭效果 7. 改善膜匹配(考虑第yi层用Al2O3) 8. 改善膜充氧和蒸发速率(降低) 9. 加快前工程的流程。前工程对已加工光面的保护加强。 10. 抛光加工完成的光面,必须立即清洁干净,不能有抛光粉或其他杂质附着干结。真空镀膜机技术教程。

【为什么要在真空中镀膜】: 1.镀的过程中不会受空气分子碰撞,有较大的动量到达待镀件表面 2.防止气体“污染”.如:镀金属膜时可以防止氧化 3.成膜过程不受气体影响,致密牢固 4.真空(负压)状态下,镀膜材料的熔点教常压下低,易于融化蒸发(对于蒸发类型的镀膜) 真空镀膜技术是一种新颖的材料合成与加工的新技术,是表面工程技术领域的重要组成部分。真空镀膜技术是利用物理、化学手段将固体表面涂覆一层特殊性能的镀膜,从而使固体表面具有耐磨损、耐高温、耐腐蚀、抗氧化、防辐射、导电、导磁、绝缘和装饰等许多优于固体材料本身的优越性能,达到提高产品质量、延长产品寿命、节约能源和获得明显技术经济效益的作用。因此真空镀膜技术被誉为Zui具发展前途的重要技术之一,并已在高技术产业化的发展中展现出诱人的市场前景。这种新兴的真空镀膜技术已在国民经济各个领域得到应用,如航空、航天、电子、信息、机械、石油、化工、环保、Jun事等领域。 真空镀膜机使用时,需要注意哪些问题?湖北真空镀膜设备 pdf

真空镀膜设备的工作原理和构成。新疆奥普光电有真空镀膜设备吗

【真空镀膜设备使用步骤】1电控柜的操作1)开水泵、气源2)开总电源3)开维持泵、真空计电源,真空计档位置V1位置,等待其值小于10后,再进入下一步操作。约需5分钟。4)开机械泵、予抽,开涡轮分子泵电源、启动,真空计开关换到V2位置,抽到小于2为止,约需20分钟。5)观察涡轮分子泵读数到达250以后,关予抽,开前机和高阀继续抽真空,抽真空到达一定程度后才能开右边的高真空表头,观察真空度。真空到达2×10-3以后才能开电子枪电源。2DEF-6B电子枪电源柜的操作1)打开总电源2)同时开电子枪控制Ⅰ和电子枪控制Ⅱ电源:按电子枪控制Ⅰ电源、延时开关,延时、电源及保护灯亮,三分钟后延时及保护灯灭,若后门未关好或水流继电器有故障,保护灯会常亮。3)开高压,高压会达到10KV以上,调节束流可到200mA左右,帘栅为20V/100mA,灯丝电流1.2A,偏转电流在1~1.7之间摆动。3关机顺序1)关高真空表头、关分子泵。2)待分子泵显示到50时,依次关高阀、前级、机械泵,这期间约需40分钟。3)到50以下时,再关维持泵。新疆奥普光电有真空镀膜设备吗

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