山西光学薄膜射频离子源多少钱

【真空镀膜之水转印】水转印是利用水压将转印纸上的彩色纹样印刷在三维产品表面的一种方式。随着人们对产品包装与表面装饰要求的提高，水转印的用途越来越广fan。适用材料：所有的硬材料都适合水转印，适合喷涂的材料也一定适用于水转印。常见的为注塑件和金属件。工艺成本:无模具费用，但需要利用夹具将多件产品同时进行水转印，时间成本一般每周期不会超过10分钟。环境影响:和产品喷涂比较而言，水转印更充分的应用了印刷涂料，减少了废料泄漏和材料浪费的可能。真空镀膜机厂家排名。山西光学薄膜射频离子源多少钱

【机械泵分类】机械泵有很多种，常用的有滑阀式、活塞往复式、定片式和旋片式四种类型。机械泵是从da气开始工作的，它的主要参数有极限真空，抽气速率，此为设计与选用机械泵的重要依据。单级泵可以将容器从da气抽到1.0*10-1PA的极限真空，双级机械泵可以将容器从da气抽到6.7*10-2帕，甚至更高。抽气速率，是指旋片泵按额定转数运转时，单位时间内所能排出气体的体积，可以用下公式计算：Sth=2nVs=2nfsLfs表示吸气结束时空腔截面积，L表示空腔长度，系数表示转子每旋转一周有两次排气过程，Vs表示当转子处于水平位置的时候，吸气结束，此时空腔内的体积da，转速为n。机械泵排气的效果还与电机的转速及皮带的松紧度有关系，当电机的皮带比较松，电机转速很慢的时候，机械泵的排气效果也会变差，所以要经常保养，点检，机械泵油的密封效果也需要常常点检，油过少，达不到密封效果，泵内会漏气，油过多，把吸气孔堵塞，无法吸气和排气，一般，在油位在线下0.5厘米即可。陕西离子束刻蚀射频离子源制造生产厂家真空镀膜机厂家qian十。

【射频离子源简介】：国泰真空射频离子源GTRF-17和GTRF-23，主要用于IR-Cut、滤光片等精密光学镀膜的离子束辅助沉积和离子束清洗等，是公司技术团队全自主研发近3年时间研发出的国产射频离子源，属于国内大直径射频离子源。打破了国外制造商长期对国产镀膜行业的技术封锁，同时也激励了国内的同行制造业。离子源设备能促进光电产业升级，在国内也是一项“卡脖子”技术。具有能量高、热辐射低、工作时间长、对膜层污染小、能量分布均匀性好、适应多种工作气体的特点。

【溅镀工艺的原理】以几十电子伏特或更高动能的荷电粒子轰击材料表面，使其溅射出进入气相，可用来刻蚀和镀膜。入射一个离子所溅射出的原子个数称为溅射产额(Yield)产额越高溅射速度越快，以Cu,Au,Ag等高，Ti,Mo,Ta,W等低。一般在0.1-10原子/离子。离子可以直流辉光放电(glowdischarge)产生，在10-1—10Pa真空度，在两极间加高压产生放电，正离子会轰击负电之靶材而溅射也靶材，而镀至被镀物上。正常辉光放电(glowdischarge)的电流密度与阴极物质与形状、气体种类压力等有关。溅镀时应尽可能维持其稳定。任何材料皆可溅射镀膜，即使高熔点材料也容易溅镀，但对非导体靶材须以射频（RF）或脉冲（pulse）溅射；且因导电性较差，溅镀功率及速度较低。金属溅镀功率可达10W/cm2,非金属＜5W/cm2。红外真空镀膜机制造商。

    所述叶片远离底座的一侧面上设有相较固定轴位置靠近叶片尾端的导柱，所述滑环上设有可供导柱伸入其中滑动以在滑环旋转时带动叶片的尾端绕叶片首端转动的导槽，所述导槽呈弧形设置。进一步的，所述滑环的外周设有齿圈，所述驱动组件包括能与齿圈啮合的齿轮及驱动齿轮转动的伺服电机。一种射频离子源离子束束径控制装置，其特征在于：包括一真空腔体、控制器以及设于真空腔体中的离子束发生器、束径约束器和驱动器，所述束径约束器设置在离子束发生器前端，所述驱动器与束径约束器的驱动机构相连以控制驱动机构动作，所述控制器分别与束径约束器及驱动器相连。进一步的，所述离子束发生器包括离子束发生器外壁以及位于离子束发生器外壁内并位于离子束前端的平面栅网。进一步的，所述驱动器为微型电机。一种射频离子源离子束束径控制方法，其特征在于：s1，对真空腔体进行抽真空；s2，打开离子束发生器，调整电压电流参数；s3，在控制器的输入界面中输入离子束束径值；s4，点击控制器的执行按钮，控制器向驱动器发出指令，驱动器控制驱动机构动作；s5，驱动组件驱动滑环转动并带动导柱在导槽中滑动，叶片绕固定轴转动使光阑大小与输入的离子束束径值一致。与现有技术相比。真空镀膜机故障解决方法？山东离子束溅射射频离子源

射频离子源可用于医疗领域，如放射性解决、zl解决等。山西光学薄膜射频离子源多少钱

【真空镀膜机清洗工艺之氮气冲洗】氮气在材料表面吸附时，由于吸附能小，因而吸留表面时间极短.即便吸附在器壁上，也很容易被抽走。利用氮气的这种性质冲洗真空系统，可以dada缩短系统的抽气时间。如真空镀膜机在放入da气之前，先用干燥氮气充入真空室冲刷一下再充入da气，则下一抽气循环的抽气时间可缩短近一半，其原因为氮分予的吸附能远比水气分子小，在真空下充入氮气后，氮分子先被真空室壁吸附了。由于吸附位是一定的，先被氮分子占满了，其吸附的水分子就很少了，因而使抽气时间缩短了。如果系统被扩散泵油喷溅污染了，还可以利用氮气冲洗法来清洗被污染的系统.一般是一边对系统进行烘烤加热，一边用氮气冲洗系统，可将油污染消除。山西光学薄膜射频离子源多少钱