超高真空涂覆系统定制服务

共聚焦端口几何形状的设计，以及支持5个光源的兼容能力，为集成原位表征技术提供了可能。用户可以选择集成例如原位光谱椭偏仪、石英晶体微天平或甚至小型X射线探头，从而在沉积过程中实时监测薄膜的生长速率、厚度、光学常数或晶体结构，实现对材料生长的深度洞察与闭环控制。与第三方源的兼容性意味着该系统是一个开放的研究平台。用户可以根据特定的研究需求，集成例如脉冲激光沉积、有机蒸发源或其他特殊类型的PVD源，从而在一个统一的超高真空环境中实现多种先进制备技术的组合，为探索复杂功能材料体系创造了条件。UHV 沉积系统可将超纯非团聚纳米颗粒直接沉积于 50 毫米内任意表面。超高真空涂覆系统定制服务

新南威尔士大学AronMichael团队利用超高真空电子束蒸发硅系统，攻克了CMOS上集成MEMS时的低热预算难题。该系统可在≤500℃的低热预算下，制备出厚度达60μm、表面光滑且低应力的原位磷掺杂硅薄膜，沉积速率达1μm/min，且不会损害CMOS的完整性。团队还基于这种厚多晶硅膜设计制造了20μm厚的梳状驱动结构，成功实现了加速度计的功能。该案例为MEMS器件提供了新型低成本厚多晶硅技术，助力汽车、可穿戴设备等领域智能传感器的低成本集成。超高真空涂覆系统定制服务多功能 UHV 系统搭载 3 头纳米颗粒源，采用终止气体冷凝技术保障颗粒质量。

在设备初次安装与调试阶段，必须由经过培训的专业工程师完成。这包括设备的准确定位、真空泵组的连接、冷却水系统的接通以及电气系统的检查。调试过程涉及系统极限真空的测试、漏率检测以及各沉积源性能的校准，确保设备达到出厂标准，这一过程是未来所有高质量工作的基石。日常操作始于规范的样品装载。对于平面基底，需使用适配工具夹持，避免用手直接接触功能面。对于粉末样品，需将其均匀装入振动碗，注意不超过最大容量标志。装载完成后，需确认腔室密封圈洁净无损，然后按照标准操作规程关闭腔门，启动抽真空程序。

科睿设备有限公司所推出的纳米颗粒沉积系统，其主要优势在于实现了在超高真空环境下，将超纯、非团聚的纳米颗粒直接沉积到最大直径50毫米的各类基底上。这一技术突解决了传统纳米材料制备中常见的颗粒团聚、污染等问题，为高质量纳米结构制备奠定了坚实基础。系统采用的特高压设计，能够将腔体内的本底真空度维持在极高水平，有效避免了水汽、氧气等残余气体对沉积过程的干扰，确保了纳米颗粒的化学纯度和结构完整性，这对于对材料性能极为敏感的高科技研究至关重要。

NL-FLEX 系统兼容卷对卷、非平面及粉末基材，适配多元沉积场景需求。

在传感器技术领域，基于纳米颗粒和薄膜的功能层是气体传感器、化学传感器的主要部分。我们的系统能够可控制备具有高比表面积和特定晶面的金属氧化物纳米结构，其对特定气体的灵敏度和选择性可通过成分和结构设计进行优化，为开发高性能、低功耗的微型化传感器奠定了基础。

对于基础科学研究，该系统是探索低维材料、量子点、二维材料异质结等前沿问题的理想平台。通过逐层沉积不同材料，可以构建出复杂的异质结构，研究其新奇的物理化学性质。系统的超高真空环境为制备高质量、洁净界面的样品提供了必要条件。 先进的联锁装置为操作人员与设备安全提供了双重保障。超高真空涂覆系统定制服务

无碳氢化合物纳米颗粒制备能力，适配高纯度材料研发的严苛要求。超高真空涂覆系统定制服务

纳米颗粒和薄膜超高真空（UHV）沉积系统的工作原理，是在超高真空环境中，通过特定物理 / 化学机制产生超纯纳米颗粒或薄膜材料，再将其准确、均匀地沉积到目标基材表面，整个过程需实现 “真空环境控制、材料源激发、粒子传输与筛选、基材相互作用” 四大关键环节的协同，获得高纯度、低缺陷、结构可控的纳米级沉积层。

纳米颗粒和薄膜 UHV 沉积系统的应用场景，本质是通过 “超纯、准确、可控” 的纳米制备技术，解决不同领域中 “材料结构调控” 的主要需求 —— 无论是工业研发中提升产品性能（如催化剂活性、电池寿命），还是学术研究中探索材料新机理，其多技术集成、多基材适配的特性，使其成为连接基础研究与实际应用的关键桥梁，服务于高校、科研院所、高科技术企业的创新需求。 超高真空涂覆系统定制服务

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