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外延系统基本参数
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外延系统企业商机

设备对实验室环境有着严格的要求,为满足这些环境要求,需采取相应保障措施。安装空调系统,精确控制实验室的温度和湿度。空调系统应具备温度和湿度自动调节功能,能够根据设定的参数自动调整制冷、制热和除湿量,确保实验室环境稳定。配备空气净化设备,如高效空气过滤器(HEPA),过滤空气中的微小颗粒,提高实验室的洁净度。空气净化设备应定期更换过滤器,保证其过滤效果。实验室的地面和墙面应采用不易积尘、易于清洁的材料,如环氧地坪漆和洁净板。地面要做好防静电处理,可铺设防静电地板,减少静电对设备的影响。实验室需配备适用电源,满足基板加热电源等部件的供电需求。脉冲激光分子束外延系统安装

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本产品与CVD技术对比,CVD(化学气相沉积)技术通过化学反应在气相中生成固态薄膜,与本产品在多个方面存在明显差异。在反应条件上,CVD通常需要在较高温度下进行,一般在800-1100°C,这对一些对温度敏感的材料和衬底来说,可能会导致材料性能改变或衬底变形。本产品的沉积过程温度可在很宽的范围内控制,从液氮温度到1400°C,能满足不同材料的生长需求,对于一些不能承受高温的材料,可在低温环境下进行沉积,避免材料性能受损。脉冲激光分子束外延系统安装激光照射靶材时,开启靶自动旋转功能,提升成膜均匀性。

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脉冲激光分子束外延(PLD-MBE)系统展示了当今超高真空薄膜制备技术的顶峰。它巧妙地将脉冲激光沉积(PLD)技术的高灵活性、易于实现复杂化学计量比转移的优点,与分子束外延(MBE)技术的超高真空环境、原位实时监控和原子级精度的控制能力融为一体。这种系统特别适合于生长具有精确层状结构的新型氧化物、氮化物以及多元复合薄膜材料。研究人员可以在一个集成化的超高真空环境中,利用脉冲激光烧蚀难熔靶材,同时在基板上实现原子尺度的外延生长,并通过反射高能电子衍射(RHEED)实时观察薄膜生长的每一个原子层,从而为探索前沿量子材料、高温超导薄膜、多铁性材料等提供了强大工具。

PLD-MBE与传统热蒸发MBE的对比。传统MBE依赖于将固体源材料在克努森池中加热至蒸发,其蒸发速率相对较低且稳定,非常适合III-V族(如GaAs)和II-VI族(如ZnSe)半导体材料的生长。然而,对于高熔点金属氧化物(如钌酸盐、铱酸盐),热蒸发非常困难。PLD-MBE则利用高能激光轻松烧蚀任何高熔点靶材,突破了源材料的限制,将MBE技术的应用范围极大地扩展至复杂的氧化物家族,实现了“全氧化物分子束外延”。

与金属有机化学气相沉积(MOCVD)的对比。MOCVD是大规模生产III-V族半导体光电器件(如LED、激光器)的主流技术,具有出色的均匀性和大规模生产能力。然而,MOCVD通常涉及高毒性和高反应活性的金属有机前驱体,设备与运营成本高昂,且存在碳污染风险。对于实验室阶段的新材料探索和机理研究,PLD和MBE系统提供了更洁净、更灵活、成本更低的平台,能够实现更高的真空度和更精确的原位监测,非常适合进行基础科学探索和原型验证。 系统真空计实时监测各腔体压力变化。

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在宽禁带半导体材料研究领域,我们的PLD与MBE系统发挥着举足轻重的作用。以氧化锌(ZnO)为例,它是一种具有优异压电、光电特性的III-VI族半导体。利用PLD技术,通过精确控制激光能量、沉积气压(尤其是氧气分压)和基板温度,可以在蓝宝石、硅等多种衬底上外延生长出高质量的c轴择优取向的ZnO薄膜。这种薄膜是制造紫外光电探测器、透明电极、压电传感器和声表面波器件的理想材料。系统的RHEED监控能力可以实时优化生长条件,确保获得表面光滑、晶体质量高的外延层。系统真空泵组包含分子泵与离子泵以获得超高真空。脉冲激光分子束外延系统安装

系统故障诊断可通过软件自检功能快速定位。脉冲激光分子束外延系统安装

本产品与PVD技术对比,PVD(物理的气相沉积)是一种常见的薄膜沉积技术,在多个领域有着广泛应用。与本产品相比,在薄膜质量方面,PVD技术主要通过物理过程,如蒸发、溅射等将气化物质沉积到基材表面。本产品采用的分子束外延和脉冲激光沉积等技术,能实现原子级别的精确控制,在制备薄膜时,精确控制薄膜的成分和结构,使薄膜的晶体结构更加完整,缺陷更少,从而获得更高质量的薄膜。例如在制备超导薄膜时,本产品制备的薄膜超导性能更稳定,临界电流密度更高。成分控制方面,PVD技术在控制复杂成分的薄膜时存在一定难度,难以精确控制各元素的比例和分布。本产品凭借其精确的分子束流量控制和软件编程功能,可对不同材料的分子束进行精确调控,实现对多元合金或复合薄膜成分的精确控制,在制备异质结构薄膜时,能精确控制各层薄膜的成分和厚度,满足科研和工业对高精度材料的需求。

PVD技术常用于一些对薄膜质量要求相对较低、结构相对简单的领域,如装饰性金属表面涂层等。本产品由于具备高精度的控制能力和高真空环境,更适用于对薄膜质量和性能要求极高的科研领域,如半导体材料研究、新型功能材料研发等,在制备高性能光电器件、自旋电子学器件等方面有着不可替代的作用。 脉冲激光分子束外延系统安装

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