【真空镀膜技术专业词汇】真空镀膜vacuumcoating：在处于真空下的基片上制取膜层的一种方法。基片substrate：膜层承受体。试验基片testingsubstrate：在镀膜开始、镀膜过程中或镀膜结束后用作测量和（或）试验的基片。镀膜材料coatingmaterial：用来制取膜层的原材料。蒸发材料evaporationmaterial：在真空蒸发中用来蒸发的镀膜材料。溅射材料sputteringmaterial：有真空溅射中用来溅射的镀膜材料。膜层材料(膜层材质)filmmaterial：组成膜层的材料。蒸发速率evaporationrate：在给定时间间隔内,蒸发出来的材料量,除...

【真空镀膜机冲洗工艺之反应气体冲洗】这种方法特别适用于da型超高不锈钢真空系统的内部洗(去除碳氢化合物污染)。通常对于某些da型超高真空系统的真空室和真空元件，为了获得原子态的清洁表面，消除其表面污染的标准方法是化学清洗，真空炉焙烧、辉光放电清洗及原能烘烤真空系统等方法。以上的清洗和除气方法常用于真空系统安装前及装配期间。在真空系统安装后(或系统运行后)，由于真空系统内的各种零部件已经被固定，这时对它们进行除气处理就很困难，一旦系统受到(偶然)污染(主要是da原子数的分子如碳氢化合物的污染)，通常要拆卸后重新处理再安装．而用反应气体工艺，可以进行原位在线除气处理．有效地除去不锈钢真空室内的碳氢...

【真空镀膜机之辅助抽气系统】真空腔各部分有连接阀，用来连接各抽气泵浦。辅助抽气系统：排气系统为镀膜机真空系统的重要部分，主要有由机械泵、增压泵(主要介绍罗茨泵)、油扩散泵三da部分组成。此排气系统采用“扩散泵+机械泵+罗茨泵+低温冷阱+polycold”组成。排气流程为：机械泵先将真空腔抽至小于2.0*10-2PA左右的低真空状态，为扩散泵后继抽真空提供前提，之后当扩散泵抽真空腔的时候，机械泵又配合油扩散泵组成串联，以这样的方式完成抽气动作。光学真空镀膜机制造商。重庆真空镀膜射频离子源自主研发设计生产直流电源电压纹波做了二次滤波处理，高压输出的纹波小于50mV，离子源束流的稳定性和重复性较好，...

【真空镀膜之材料表面处理】表面处理：是在基体材料表面上人工形成一层与基体的机械、物理和化学性能不同的表层的工艺方法。表面处理的目的是满足产品的耐蚀性、耐磨性、装饰或其他特种功能要求。我们比较常用的表面处理方法是，机械打磨，化学处理，表面热处理，喷涂表面，表面处理就是对工件表面进行清洁、清扫、去毛刺、去油污、去氧化皮等。常用表面处理的工艺有：真空电镀、电镀工艺、阳极氧化、电解抛光、移印工艺、镀锌工艺、粉末喷涂、水转印、丝网印刷、电泳等。关于真空镀膜机，你知道多少？湖南大直径射频离子源专业生产【真空镀膜机清洗工艺之放电清洗】利用热丝或电极作为电子源，在其相对于待清洗的表面加负偏压可以实现离子轰击的...

【真空镀膜机冲洗工艺之反应气体冲洗】这种方法特别适用于da型超高不锈钢真空系统的内部洗(去除碳氢化合物污染)。通常对于某些da型超高真空系统的真空室和真空元件，为了获得原子态的清洁表面，消除其表面污染的标准方法是化学清洗，真空炉焙烧、辉光放电清洗及原能烘烤真空系统等方法。以上的清洗和除气方法常用于真空系统安装前及装配期间。在真空系统安装后(或系统运行后)，由于真空系统内的各种零部件已经被固定，这时对它们进行除气处理就很困难，一旦系统受到(偶然)污染(主要是da原子数的分子如碳氢化合物的污染)，通常要拆卸后重新处理再安装．而用反应气体工艺，可以进行原位在线除气处理．有效地除去不锈钢真空室内的碳氢...

【真空镀膜机真空系统检漏法之真空计检漏法】常用的真空计检漏法主要是热传导真空计法与电离真空计法。以热传导真空计法为例，它是利用低压下不同气体种类的热传导能力差异与压力的关系来分析真空系统泄漏情况。使用时，要保证被检系统处于一个压力不变的动态平衡状态，将示漏气体喷吹于可疑处（也可能用有机溶剂涂抹，但易吸附、堵塞漏孔，并造成污染）。一旦有漏孔存在，示漏气体会通过漏孔进入被检系统，因为示漏气体的热传导能力与原系统的气体成分差异da，会引起明显的热传导性质变化，热传导真空计的仪表读数在原有的平衡基础上就会发生波动变化，根据这些确定漏孔位置并根据读数变化换算漏率da小。相应地，电离真空计法利用的即是示漏...

【真空镀膜机操作工艺流程】首先开水、电、气→总电源→开维持泵→开扩散泵加热→开粗抽泵→开预抽阀→关预抽阀→开粗抽阀→开罗茨泵→如有离子轰击，开轰击30秒，关轰击→开真空计→当真空到，关粗抽阀→开前置阀→开精抽阀，当真空达到7x10-3pa，开转架→开始镀膜操作→镀膜完毕后，关闭真空计、离子源→关精抽阀，前置阀→关罗茨泵→开抽气阀，取件→上料，反复开始操作。特别注意：1.设备停用时，镀膜室要保持真空状态，减少内表面气体的吸附，防止氧化。2.冷却水通道场下才能对扩散泵进行加热，未经充分冷却的泵不得与da气接触，防止氧化。3.要保证机器内扩散泵和机械泵的油定期检查和更换。4.设备运行中遇有停电或其它...

【真空镀膜之阳极氧化】阳极氧化：主要是铝的阳极氧化，是利用电化学原理，在铝和铝合金的表面生成一层Al2O3（氧化铝）膜。这层氧化膜具有防护性、装饰性、绝缘性、耐磨性等特殊特性适用材料：铝、铝合金等铝制品工艺成本：生产过程中，水、电的消耗是相当da的，特别是在氧化工序。机器本身的热耗，需要不停地用循环水进行降温，吨电耗往往在1000度左右。环境影响：阳极氧化在能效方面不算出色，同时在铝电解生产中，阳极效应还会产生对da气臭氧层造成破坏性副作用的气体。真空镀膜机品牌排行。山西光学镀膜射频离子源生产厂家【真空镀膜机的镀层与镀膜原理】A、原材料与基本原理：原材料都是树脂、聚合物、铁氟隆、硅酮、丙烯酸、...

【真空镀膜之磁控溅射】在阴极靶表面形成一正交电磁场，在此区电子密度高，进而提高离子密度，使得溅镀率提高(一个数量级)，溅射速度可达0.1—1um/min膜层附着力较蒸镀佳，是目前实用的镀膜技术之一。其它有偏压溅射、反应溅射、离子束溅射等镀膜技术溅镀机设备与工艺溅镀机由真空室，排气系统，溅射源和控制系统组成。溅射源又分为电源和溅射qiang（sputtergun）。磁控溅射qiang分为平面型和圆柱型，其中平面型分为矩型和圆型，靶材料利用率30-40%，圆柱型靶材料利用率>50%溅射电源分为：直流（DC）、射频（RF）、脉冲（pulse），直流：800-1000V（Max）导体用，须可灾弧。射频...

【真空镀膜机之真空电镀】真空电镀是一种物理沉积现象。即在真空状态下注入氩气，氩气撞击靶材，靶材分离成分子被导电的货品吸附形成一层均匀光滑的仿金属表面层。适用材料：1、很多材料可以进行真空电镀，包括金属，软硬塑料，复合材料，陶瓷和玻璃。其中*常见用于电镀表面处理的是铝材，其次是银和铜。2、自然材料不适合进行真空电镀处理，因为自然材料本身的水分会影响真空环境。工艺成本：真空电镀过程中，工件需要喷涂，装载，卸载和再喷涂，所以人力成本相当高，但是也取决于工件的复杂度和数量。环境影响：真空电镀对环境污染很小，类似于喷涂对环境的影响。射频离子源可用于制备纳米材料、薄膜、光学器件等高科技产品。山西离子束刻蚀...

【真空镀膜机清洗工艺之放电清洗】利用热丝或电极作为电子源，在其相对于待清洗的表面加负偏压可以实现离子轰击的气体解吸及某些碳氢化合物的去除。清洗效果取决于电极材料、几何形状及其与表面的关系。即取决于单位表面积上的离子数和离子能量，从而取决于有效电功率。在真空室中充入适当分压力的惰性气体(典型的如Ar气)，可以利用两个适当的电极间的低压下的辉光放电产生的离子轰击来达到清洗的目的。该方法中，惰性气体被离化并轰击真空室内壁、真空室内的其它结构件及被镀基片，它可以使某些真空系统免除被高温烘烤。如果在充入的气体中加入氧气，对某些碳氢化合物可以获得更好的清洗效果。因为氧气可以使某些碳氢化合物氧化生成易挥发性...

【真空镀膜机电控柜的操作】1、玻璃真空镀膜机开水泵、气源2、开总电源3、开维持泵、真空计电源，真空计档位置V1位置，等待其值小于10后，再进入下一步操作。约需5分钟。4、开机械泵、予抽，开涡轮分子泵电源、启动，真空计开关换到V2位置，抽到小于2为止，约需20分钟。5、观察涡轮分子泵读数到达250以后，关予抽，开前机和高阀继续抽真空，抽真空到达一定程度后才能开右边的高真空表头，观察真空度。真空到达2×10-3以后才能开电子qiang电源。射频离子源可用于医疗领域，如放射性解决、zl解决等。甘肃离子束清洗射频离子源批发价格 本发明的优点在于：本申请的束径约束器通过驱动组件驱动滑环旋转，以使叶...

【真空镀膜之材料表面处理】表面处理：是在基体材料表面上人工形成一层与基体的机械、物理和化学性能不同的表层的工艺方法。表面处理的目的是满足产品的耐蚀性、耐磨性、装饰或其他特种功能要求。我们比较常用的表面处理方法是，机械打磨，化学处理，表面热处理，喷涂表面，表面处理就是对工件表面进行清洁、清扫、去毛刺、去油污、去氧化皮等。常用表面处理的工艺有：真空电镀、电镀工艺、阳极氧化、电解抛光、移印工艺、镀锌工艺、粉末喷涂、水转印、丝网印刷、电泳等。真空镀膜机公司的排名。成都离子束溅射射频离子源源头实力厂家【真空镀膜机之辅助抽气系统】真空腔各部分有连接阀，用来连接各抽气泵浦。辅助抽气系统：排气系统为镀膜机真空...

【真空镀膜之金属拉丝】金属拉丝：是指通过研磨产品在工件表面形成线纹，并且起到装饰效果的一种表面处理手段。根据拉丝后纹路的不同可分为：直纹拉丝、乱纹拉丝、波纹、旋纹适用材料：几乎所有的金属材料都可以使用金属拉丝工艺工艺成本：工艺方法简单，设备需求简单，材料消耗比较少，成本比较低廉，经济效益尤其高环境影响：纯金属制品，表面无油漆等任何化学化工物质，600度高温不燃烧，不会产生有毒气体，符合消防标准的环保要求射频离子源可用于环保领域，如废水处理、空气净化等。上海离子束溅射射频离子源专业生产【真空镀膜设备之真空的获得】：真空泵：真空泵是指利用机械、物理、化学或物理化学的方法对被抽容器进行抽气而获得真空...

【真空镀膜机详细资料】系统概述真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。常用于对半导体、光伏、电子、精密光学等行业的纳米级表面处理。系统原理通过电子枪发射高压电子轰击坩埚中的待镀靶材，使其在高真空下蒸发并沉积在被镀基片上以获得镀膜。系统配置*自动化控制器:e-ControlPLC，是控制系统的硬件平台。人机界面硬件:TPC1503工业级15寸触摸式平板电脑，稳定可靠。人机界面软件:NETSCADA组态软件开发平台，提供真空镀膜机的控制和监视。射频离子源可用于表面处理...

【如何减少真空镀膜的灰尘】1、使用的源材料要符合必要的纯度要求。2、样品取出后放置环境要注意清洁的问题。3、镀膜一段时间后，真空室内壁必须要清洁处理。4、清洗衬底材料，必须要做到严格合乎工艺要求。5、工作人员有专门的服装，操作要戴手套、脚套等。6、适当的增加环境的湿度，有利于降低周围环境的悬浮固体颗粒物。7、技术上明确允许的较da颗粒尺寸和单位面积颗粒物的数量的上限da致是多少。8、室内空气流动性低、地面干净，如果是裸露的水泥地，需要覆盖处理。墙壁、屋顶不能使用一般的灰质涂料粉刷。成都国泰真空镀膜机怎么样？湖南射频离子源 所述叶片远离底座的一侧面上设有相较固定轴位置靠近叶片尾端的导柱，所...

【真空镀膜机常见故障】:一、当正在镀膜室真空突然下降1.蒸发源水路胶圈损坏（更换胶圈）2.坩埚被打穿（更换坩埚）3.高压电极密封处被击穿（更换胶圈）4.工转动密封处胶圈损坏（更换胶圈）5.预阀突然关闭可能是二位五通阀损坏（更换二位五通阀）6.高阀突然关闭可能是二位五通阀损坏（更换二位五通阀）7.机械泵停机可能是继电器断开（检查继电器是否工作正常）8.烘烤引入线电极密封处被击穿（更换胶圈）9.挡板动密封处胶圈损坏（更换胶圈）10.玻璃观察视镜出现裂纹、炸裂（更换玻璃）二、长期工作的镀膜机抽真空的时间很长且达不到工作真空、恢复真空、极限真空、保真空：1.蒸发室有很多粉尘（应清洗）2.扩散泵很久未换...

本发明的优点在于：本申请的束径约束器通过驱动组件驱动滑环旋转，以使叶片转动来进行光阑的大小调节，调节方便且调节精度高；而采用包含该束径约束器的束径控制装置进行束径调节时，通过在控制器上输入离子束束径值即可实现光阑大小的调节，无需关闭离子源和打开真空腔体，调节效率高、自动化程度好。附图说明图1为现有技术中采用曲面栅网调节束径的结构示意图。图2为本申请中离子束采用平面栅网的结构示意图。图3为本申请中束径约束器结构示意图。图4为图3的示意图。图5为为图4的进一步示意图。图6为本申请中的叶片结构示意图。图7为本申请中的束径控制装置的示意图。具体实施方式下面详细描述本发明的实施例，所述实施例的示...

【真空镀膜之磁控溅射镀膜】磁控溅射对阴极溅射中电子使基片温度上升过快的缺点加以改良,形成了电场和磁场方向相互垂直的特点。在正交的电磁场的作用下,电子以摆线的方式沿着靶表面前进,从而xianzhu地延长了电子的运动路程,增加了同工作气体分子的碰撞几率,提高了电子的电离效率。由于电子每经过一次碰撞损失一部分动能,经过多次碰撞后,丧失了能量成为“终电子”进入离阴极靶面较远的弱电场区,后到达阳极时已经是能量消耗殆尽的低能电子,也就不再会使基片过热。同时高密度等离子体被束缚在靶面附近,又不与基片接触,这样电离产生的正离子能十分有效地轰击靶面,而基片又可免受等离子体的轰击,因而基片温度又可降低。在溅射仪起...

【真空镀膜对环境的基本要求】加工真空镀膜工艺衬底(基片)表面的清洁处理很重要。基片进入镀膜室前均应进行认真的镀前清洁处理，达到工件去油、去污和脱水的目的。基片表面污染来自零件在加工、传输、包装过程所粘附的各种粉尘、润滑油、机油、抛光膏、油脂、汗渍等物;零件表面在潮湿空气中生成的氧化膜;零件表面吸收和吸附的气体。真空镀膜厂家这些污物基本上均可采用去油或化学清冼方法将其去掉。对经过清洗处理的清洁表面，不能在da气环境中存放，要用封闭容器或保洁柜贮存，以减小灰尘的沾污。用刚氧化的铝容器贮存玻璃衬底，可使碳氢化合物蒸气的吸附减至小。因为这些容器优先吸附碳氢化合物。对于高度不稳定的、对水蒸气敏感的表面，...

【真空镀膜设备设计原则及常用技术指标】真空设备设计原则：(1)先功能，后结构。先给出指标参数、生产要求、功能；(2)先核xin后辅助。由内向外。先决定靶尺寸、靶基距；(3)先局部，后整体。再由整体，定局部。(4)先设计，后校核。由粗到细。镀膜机常用技术指标：镀膜方法：CVD，PVD（蒸发、溅射、离子镀、复合镀）；被镀工件的形状、尺寸;工件架尺寸;真空室尺寸;生产方式:连续、半连续、周期式。生产周期。生产量。生产速率。技术参数;设备极限真空度、工作本底真空度工作真空度、工作气氛;漏率、抽空时间、恢复真空时间。工作(烘烤)温度;(热处理炉、冻干机)膜厚不均匀程度;功率;高电压。真空镀膜机该如何维修...

【真空镀膜之电解抛光】电抛光是一种电化学过程，其中浸没在电解质中的工件的原子转化成离子，并由于电流的通过而从表面移除，从而达到工件表面除去细微毛刺和光亮度增da的效果。适用材料：1.da多数金属都可以被电解抛光，其中常用于不锈钢的表面抛光（尤其适用于奥氏体核级不锈钢）。2.不同材料不可同时进行电解抛光，甚至不可以放在同一个电解溶剂里。工艺成本：电解抛光整个过程基本由自动化完成，所以人工费用很低。环境影响：电解抛光采用危害较小的化学物质，整个过程需要少量的水且操作简单，另外可以延长不锈钢的属性，起到让不锈钢延缓腐蚀的作用。真空镀膜机的培训资料。广西离子束辅助沉积射频离子源自主研发设计生产【射频离...

【真空镀膜机清洗工艺之氮气冲洗】氮气在材料表面吸附时，由于吸附能小，因而吸留表面时间极短.即便吸附在器壁上，也很容易被抽走。利用氮气的这种性质冲洗真空系统，可以dada缩短系统的抽气时间。如真空镀膜机在放入da气之前，先用干燥氮气充入真空室冲刷一下再充入da气，则下一抽气循环的抽气时间可缩短近一半，其原因为氮分予的吸附能远比水气分子小，在真空下充入氮气后，氮分子先被真空室壁吸附了。由于吸附位是一定的，先被氮分子占满了，其吸附的水分子就很少了，因而使抽气时间缩短了。如果系统被扩散泵油喷溅污染了，还可以利用氮气冲洗法来清洗被污染的系统.一般是一边对系统进行烘烤加热，一边用氮气冲洗系统，可将油污染消...

本发明的优点在于：本申请的束径约束器通过驱动组件驱动滑环旋转，以使叶片转动来进行光阑的大小调节，调节方便且调节精度高；而采用包含该束径约束器的束径控制装置进行束径调节时，通过在控制器上输入离子束束径值即可实现光阑大小的调节，无需关闭离子源和打开真空腔体，调节效率高、自动化程度好。附图说明图1为现有技术中采用曲面栅网调节束径的结构示意图。图2为本申请中离子束采用平面栅网的结构示意图。图3为本申请中束径约束器结构示意图。图4为图3的示意图。图5为为图4的进一步示意图。图6为本申请中的叶片结构示意图。图7为本申请中的束径控制装置的示意图。具体实施方式下面详细描述本发明的实施例，所述实施例的示...

叶片2的首端21靠近底座1的一侧面上设有可伸入定位孔12中转动的固定轴23，也即叶片2的转动是绕固定轴23进行的，当然叶片2与底座1间的转动连接还可以是其它方式，比如在叶片2上设置定位孔而在底座1上设置固定轴等方式；叶片2远离底座1的一侧面上设有导柱24，导柱24的设置位置相对固定轴23靠近叶片2的尾端22，滑环41上设有可供导柱24伸入其中滑动并在滑环41旋转时带动叶片2的尾端22绕叶片2的首端21转动的导槽42，同样的，也可以将导柱设置在滑环41上而将导槽设置在叶片2上，同时，为了使滑环41转动时，光阑3的大小调节速度更为均匀稳定，将导槽42设置为与叶片2的圆弧形状弯曲方向一致的弧...

【射频离子源简介】：国泰真空射频离子源GTRF-17和GTRF-23，主要用于IR-Cut、滤光片等精密光学镀膜的离子束辅助沉积和离子束清洗等，是公司技术团队全自主研发近3年时间研发出的国产射频离子源，属于国内大直径射频离子源。打破了国外制造商长期对国产镀膜行业的技术封锁，同时也激励了国内的同行制造业。离子源设备能促进光电产业升级，在国内也是一项“卡脖子”技术。具有能量高、热辐射低、工作时间长、对膜层污染小、能量分布均匀性好、适应多种工作气体的特点。真空镀膜机真空四个阶段。陕西离子束溅射射频离子源专业生产【真空镀膜之离子束溅射镀膜】离子束溅射沉积法在离子源内由惰性气体(通常为氩)产生具有较高能...

【真空镀膜机清洗工艺之氮气冲洗】氮气在材料表面吸附时，由于吸附能小，因而吸留表面时间极短.即便吸附在器壁上，也很容易被抽走。利用氮气的这种性质冲洗真空系统，可以dada缩短系统的抽气时间。如真空镀膜机在放入da气之前，先用干燥氮气充入真空室冲刷一下再充入da气，则下一抽气循环的抽气时间可缩短近一半，其原因为氮分予的吸附能远比水气分子小，在真空下充入氮气后，氮分子先被真空室壁吸附了。由于吸附位是一定的，先被氮分子占满了，其吸附的水分子就很少了，因而使抽气时间缩短了。如果系统被扩散泵油喷溅污染了，还可以利用氮气冲洗法来清洗被污染的系统.一般是一边对系统进行烘烤加热，一边用氮气冲洗系统，可将油污染消...

【溅镀工艺的原理】以几十电子伏特或更高动能的荷电粒子轰击材料表面，使其溅射出进入气相，可用来刻蚀和镀膜。入射一个离子所溅射出的原子个数称为溅射产额(Yield)产额越高溅射速度越快，以Cu,Au,Ag等高，Ti,Mo,Ta,W等低。一般在0.1-10原子/离子。离子可以直流辉光放电(glowdischarge)产生，在10-1—10Pa真空度，在两极间加高压产生放电，正离子会轰击负电之靶材而溅射也靶材，而镀至被镀物上。正常辉光放电(glowdischarge)的电流密度与阴极物质与形状、气体种类压力等有关。溅镀时应尽可能维持其稳定。任何材料皆可溅射镀膜，即使高熔点材料也容易溅镀，但对非导体靶材...

【如何减少真空镀膜的灰尘】1、使用的源材料要符合必要的纯度要求。2、样品取出后放置环境要注意清洁的问题。3、镀膜一段时间后，真空室内壁必须要清洁处理。4、清洗衬底材料，必须要做到严格合乎工艺要求。5、工作人员有专门的服装，操作要戴手套、脚套等。6、适当的增加环境的湿度，有利于降低周围环境的悬浮固体颗粒物。7、技术上明确允许的da颗粒尺寸和单位面积颗粒物的数量的上限da致是多少。8、室内空气流动性低、地面干净，如果是裸露的水泥地，需要覆盖处理。墙壁、屋顶不能使用一般的灰质涂料粉刷。真空镀膜机国内有哪些产商？黑龙江大直径射频离子源【真空镀膜机真空检漏方法普及之荧光检漏法】荧光检漏法首先需要将荧光材...

【真空镀膜机的镀层与镀膜原理】A、原材料与基本原理：原材料都是树脂、聚合物、铁氟隆、硅酮、丙烯酸、硅酸盐等，辅料、配方与量度有所不同。例添加的乳化剂，不同的量相调和，乳化出来的状态就不一样，水状、乳状、膏状都可以实现。这些物质经乳化破乳后，部份渗透或形成薄膜。B、它们的特点和区别：镀层：渗透功能好(要视原材料颗粒da小)，表面光滑度更优，对漆面较多“毛细孔”、粗糙、重喷过漆、漆面本身较硬需要增加光亮度的欧美车系漆面比较适用。镀膜：而镀膜产品添加了成膜助剂与固化剂，真空镀膜厂家使其瞬间成膜，性质相应的发生了改变。例如硬度比封釉更高，对需要提升漆面硬度的漆面(如日韩车系)比较适用。防护层的主要性能...