随着科技的不断发展，IC封装药水也在不断进步。为了满足更精细的工艺、更高的性能以及更严格的环保要求，新型封装药水不断涌现。随着环保意识的提高，无铅封装药水已成为主流。无铅锡膏的锡铅合金中不含铅，因此更环保。同时，无铅封装药水也面临更高的挑战，如提高焊点的可靠性和耐温性。随着IC芯片性能的提高，需要更高的工作温度。因此，高温封装药水的发展至... 【查看详情】

有机物的去除常常在清洗工序的第1步进行，金属污染物：IC电路制造过程中采用金属互连材料将各个单独的器件连接起来，首先采用光刻、蚀刻的方法在绝缘层上制作接触窗口，再利用蒸发、溅射或化学汽相沉积(CVD)形成金属互连膜，如A-Si，Cu等，通过蚀刻产生互连线，然后对沉积介质层进行化学机械抛光（CMP)。这个过程对IC制程也是一个潜在的污染过程... 【查看详情】

请不要误食IC除锈剂，存放IC除锈剂时，在室温下存放，避免太阳曝晒，避免儿童接触。被除锈的材质不同，除锈时的要求不同，IC除锈剂的使用方法也不同，必须按照正确的使用要求，才能达到较佳的除锈效果，下面带大家了解使用IC除锈剂怎样手动除锈?将水和IC除锈剂按照2比1的比例进行调和，将IC除锈剂进行稀释；用稀释后的IC除锈剂对生有锈迹的表面进行... 【查看详情】

随着IC芯片性能的提高，需要更高的工作温度。因此，高温封装药水的发展至关重要。这种封装药水必须在更高的温度下保持稳定，同时还要具有优良的电气性能和机械性能。埋嵌式封装是将IC元件直接埋入基板内部的一种封装方式。这种封装方式可以提高封装的可靠性，同时还可以减小封装体积。因此，埋嵌式封装药水的发展也十分迅速。这种封装药水必须具有优良的填充性能... 【查看详情】

随着科技的不断发展，IC封装药水也在不断进步。为了满足不断严格的环保要求和更高的性能需求，新型封装药水不断涌现。然而，要开发出符合所有要求的高性能封装药水仍然是一项具有挑战性的任务。未来，研究人员还需要继续深入研究和开发，以推动IC封装药水不断进步。无论是在手机的微小芯片中，还是在电脑的大规模集成电路中，IC封装药水都扮演着至关重要的角色... 【查看详情】

STM-C190变色防止剂，STM-C190可直接取代磷酸三钠中和处理制程。配比浓度(5%-10%)，消耗很低。在锡表面沉积一层有机薄膜，可改善镀层因储存或热处理（烘烤、Reflow）造成的外观变色状况。STM-C160除锈活化剂，单剂操作，配比浓度20-40%。适用于各种Cu-alloy、Fe-Ni-alloy不含H2O2，药液维护容易... 【查看详情】

IC清洁剂不燃烧、不炸裂，使用安全；清洗剂可以蒸馏回收，反复使用，比较经济；清洗工艺流程也与ODS清洗剂相同。烃类清洗工艺特点：烃类即碳氢化合物，过去把通过蒸馏原油而得的汽油、煤油作为清洗剂使用。烃类随碳数的增加而闪点提高，增加了安全性，但是干燥性不好；干燥性好的，使用上又不太安全，故两者十分矛盾。当然，作为清洗剂应尽量选用防火安全性好的... 【查看详情】

IC封装药液拆胶液切勿触及眼睛、皮肤，如不慎接触可用水清洗。用毕及时封好瓶盖，以免液体挥发比例失调影响效果，瓶内液体会产生气体，小心开启，低温避光保存。是一种单组份高性能混合溶剂，能有效脱除环氧树脂、酚醛树脂、丙烯酸树脂、聚丁二烯、三聚氰胺等聚合物为基础的膠层和经环氧树脂胶粘接、灌封并固化的零件。挥发快，溶解及清洁力优良。对金属无损伤、但... 【查看详情】

IC清洁剂作溶剂可作各种反应溶媒，润滑剂稀释剂等。特点：无色、无味、无毒、不燃烧，ODP值为零；表面张力低、黏度小、蒸发潜热小。用途：特殊用途的溶剂、清洗剂、漂洗剂、无水流体、去焊剂和热传递介质，主要用于电子仪表和激光盘片的清洗，颗粒杂物的去除，光学系统及精密场合下清洗。优点：由于性能接近CFCs，可使用原有清洗设备，不需要增加设备投资，... 【查看详情】

处理之后的金属工件表面附着了钝化膜或者磷化膜(致密氧化层)，厚度约为1微米、可防止工件被二次腐蚀，可以有效地切断空气和工件基体之间的接触。加工的工件要使用单独的摆放放置，以便干燥。除锈后的工件自然晾干或晾干。需要油漆的工件应在干燥后使用磷化液涂上表面，然后上油漆。IC除锈剂也有保护作用，因此为了获得较佳效果，可以根据工作条件选择系列(油溶... 【查看详情】

无论选择哪种使用方法，都需要对封装药水进行严格的检测和控制，以确保其质量和安全性。此外，还需要对使用后的封装药水进行回收和处理，以防止环境污染。随着电子行业的不断发展，IC封装药水的要求将不断提高，其发展趋势主要有以下几点：高性能化：为了满足电子设备的更高性能要求，需要研发具有更高性能的封装药水。例如，具有优良的电性能、耐高温、耐高压、低... 【查看详情】

现代清洗技术中的关键要求：IC清洁剂在未来90~65nm节点技术工艺中，除了要考虑清洗后的硅片表面的微粗糙度及自然氧化物去除率等技术指标外，也要考虑对环境的污染以及清洗的效率其经济效益等。硅片清洗技术评价的主要指标可以归纳为：微粗糙度（RMS)；自然氧化物去除率；金属沾污、表面颗粒度以及有机物沾污，其他指标还包括：芯片的破损率；清洗中的再... 【查看详情】