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本发明涉及一种提高氮化硅蚀刻均匀性的酸性蚀刻液，通过在磷酸中添加醇醚类和表面活性剂，来改善磷酸的浸润性和表面张力，使之均匀蚀刻氮化硅。背景技术：氮化硅是一种具有很高的化学稳定性的绝缘材料，氢氟酸和热磷酸能对氮化硅进行缓慢地腐蚀。在半导体制造工艺中，一般是采用热磷酸对氮化硅进行蚀刻，一直到了90nm的制程也是采用热磷酸来蚀刻氮化硅。...

蚀刻是印制电路板制造的重要工序，电路板厂生产过程中产生大量高铜蚀刻废液，蚀刻废液属于危险液体废物，含有大量的铜、氯等污染成分，如果不经过严格的处理就直接排放到环境中，不*造成资源的浪费和损失，而且也会对人类和自然环境造成很大的危害。 另外，蚀刻废液中的铜离子及氯离子也具有很高的回收价值，在当今资源日益紧缺且环境形势日益严峻的境况...

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除去75重量％的油。在45°C下的简单加热、或者在环境温度(20°C)下的简单搅拌或超声应用可以除去所有的沉积油。此外，没有观察到油的溶解，而是观察到上升到液体表面的油的脱离(卷起机理(rollingupmechanism)).与快速导致溶剂饱和的溶解机理相比，该卷起机理更为有利。油溶解试验的总体过程将硅油(得自CromptonC...

如上所述的挡液板结构，其中宣泄孔的孔径小于3毫米(millimeter，mm)。如上所述的挡液板结构，其中宣泄孔为千鸟排列或矩阵排列等其中的一种排列方式。如上所述的挡液板结构，其中宣泄孔为直通孔或斜锥孔等其中的一种态样或两者的混合。如上所述的挡液板结构，其中宣泄孔具有一***壁面，以及一第二壁面，且第二挡板具有一下表面，当宣泄孔为...

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