脉冲离子氮化工艺技术还有着无需堵孔,由于脉冲电源对弧光放电的抑制作用,因此对于很多零件无需堵孔,这样给生产操作带来很大的方便。例如处理曲轴时就不需堵孔,而当曲轴上存在有一些为提高零件性能的工艺孔时,这...
查看详细离子氮化,它早在1931年就已在实验室里取得成功并获。其所运用的辉光放电,是气体放电的一种重要形式。低气压辉光放电的击穿机制是,从阴极发射电子,在放电空间引形成相应离子,由此产生的正离子再...
查看详细离子渗氮又称辉光渗氮,是利用辉光放电原理进行的。辉光放电是当气体越过电晕放电区后,若减小外电路电阻,或提高全电路电压,继续增加放电功率,放电电流将不断上升。同时辉光逐渐扩展到两电极之间的整个放电空间,...
查看详细离子氮化前预先热处理工艺的制订原则:为了保证氮化件心部具有必要的力学性能(也称机械性能),消除加工过程中的内应力,减少氮化变形,为获得良好的氧化层组织性能提供必要的原始组织,并为机械加工提...
查看详细氮化处理主要目的是增强零件的表面耐磨性,氮化后的零件表面硬度能达到至少HV400以上!好的材料甚至能达到HV800以上!渗碳淬火也可以起到氮化所能达到的目的!氮化的缺点就是,氮化的零件其氮化层一般比较...
查看详细等离子渗氮是一种十分有效的生成界面膜层的热处理方式。辉光放电等离子体中氮扩散进入膜层中从而增强工件表面硬度。工艺过程中待处理工件为阴极,通入混合气体,在数百伏特及10-50Pa压力下对阳极施偏压。阴极...
查看详细离子氮化处理后的锥环支板金相检测结果如图3所示。其氮化层是由表面白亮层和扩散层组成,图3a所示为低倍下表面白亮层和扩散层的金相照片,可以看出表面白亮层的厚度是比较均匀的。测得硬化层的层深为0.28mm...
查看详细离子氮化处理工艺:处理温度:阀板880~900。C,阀座840~860。C处理时间:6~8h;比较大加热速度:15℃/min;比较大冷却速度:18℃/min;反应气氛:N2与H2混合气体,并适当引入其...
查看详细离子氮化的基本过程是活化气相、溅射、吸附、沉积和扩散。在辉光放电时,氮的正离子在电场能的作用下获得速度,对被处理的零件表面行程轰击溅射。在等离子辉光放电中铁原子与处在不同激发态的氮化合形成氮化物,氮化...
查看详细氮化处理主要目的是增强零件的表面耐磨性,氮化后的零件表面硬度能达到至少HV400以上!好的材料甚至能达到HV800以上!渗碳淬火也可以起到氮化所能达到的目的!氮化的缺点就是,氮化的零件其氮化层一般比较...
查看详细离子氮化法具有以下一些优点:由于离子氮化法不是依靠化学反应作用,而是利用离子化了的含氮气体进行氮化处理,所以工作环境十分清洁而无需防止公害的特别设备。因而,离子氮化法也被称作二十一世纪的“绿色”...
查看详细氮化处理是表面热处理的一种。表面渗氮,使表面有一定的硬度。氮化处理又称为扩散渗氮。氮化处理优点介绍:高硬度和高耐磨性。对38CrMoAlA等氮化钢制零件,氮化后的表层硬度可以提高到HV10...
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