captive bubble 法（悬泡法）是针对特殊样品（如多孔材料、粉末压片、高吸水材料）开发的接触角测量方法，解决了 sessile drop 法因样品吸水或液体渗透导致的测量失效问题。其原理与座滴法相反：将固体样品完全浸没在装有测试液体（如蒸馏水、乙醇）的透明液体池中，通过气泡发生器在样品表面生成 1-3μL 的微小气泡，气泡受表面... 【查看详情】

什么样的行业需要用到接触角测量仪进行表面张力测试?1、墨水、油墨、油漆:分进行产品研发以及质量析印刷/涂布制程中的可润湿性，控制2、印刷行业:网版清洗液研制及可润湿性分析，薄膜可润湿性分析3、胶卷行业:可润湿性分析，品质控制4、清洗剂行业:分析表面活性剂的吸收速度、性质，研究合适的浓度5、助化液产业:研究聚焦与扩敬行为能力6、化妆品行业:... 【查看详情】

在半导体晶圆制造中，清洗工艺的质量直接影响器件性能（如接触电阻、击穿电压），晟鼎精密接触角测量仪作为清洗质量的检测设备，通过测量水在晶圆表面的接触角，判断晶圆表面的清洁度（残留污染物会导致接触角异常），确保清洗工艺达标。半导体晶圆（如硅晶圆、GaAs 晶圆）在切割、研磨、光刻等工序后，表面易残留光刻胶、金属离子、有机污染物，若清洗不彻底，... 【查看详情】

晟鼎精密接触角测量仪之所以能实现≤±0.1° 的测量精度，关键在于其由光源、镜头、图像传感器及光学矫正组件构成的高精度光学系统。光源采用波长稳定的 LED 冷光源（波长 560-580nm），光线经过漫射板与偏振片处理后，形成均匀、无眩光的平行光场，避免因光线不均导致的图像边缘模糊；光源亮度可通过软件无级调节（0-100%），适配不同反射... 【查看详情】

接触角测量仪的表面自由能计算功能，基于表面物理化学中的界面张力理论，通过测量多种已知表面张力的液体在固体表面的接触角，结合数学模型计算固体表面的表面自由能及各分量（色散分量、极性分量、Lewis 酸碱分量），实现对固体表面性能的深度量化分析。固体表面自由能是衡量固体表面吸附、润湿、粘接等界面行为的重要指标，由不同作用分量构成：色散分量源于... 【查看详情】

RPS远程等离子源在先进封装工艺中的重要性: 先进封装技术（如晶圆级封装或3D集成）对清洁度要求较高，残留污染物可能导致互联失效。RPS远程等离子源提供了一种温和而彻底的清洗方案，去除键合界面上的氧化物和有机杂质，提升封装可靠性。其精确的工艺控制避免了过刻蚀或底层损伤，确保微凸块和TSV结构的完整性。随着封装密度不断增加，RPS... 【查看详情】

RPS远程等离子源在功率器件制造中的可靠性提升：功率器件（如GaN或SiC半导体）对界面质量极为敏感。污染会导致漏电流或击穿电压下降。RPS远程等离子源提供了一种温和的清洁方法，去除表面氧化物和金属杂质，而不引入缺陷。其均匀的处理确保了整个晶圆上的电性能一致性。在高温工艺中，RPS远程等离子源还能用于钝化层沉积前的表面准备。随着电动汽车和... 【查看详情】

医疗耗材（如注射器、输液管、人工关节）的表面性能直接影响生物相容性（如细胞黏附、血液相容性），晟鼎精密接触角测量仪在医疗耗材表面改性研发中，通过测量改性前后的接触角变化，评估改性工艺（如等离子处理、涂层）的效果，确保耗材表面性能符合生物医学要求。例如在注射器表面改性中，未改性的聚丙烯（PP）注射器表面接触角约 90°（疏水性），易导致药液... 【查看详情】

sessile drop 法（座滴法）是晟鼎精密接触角测量仪基础、应用广的测量方法，适用于板材、薄膜、涂层等多数固体样品的静态与动态接触角测量，其重要原理是将定量液体滴落在水平放置的样品表面，通过分析液滴稳定后的轮廓计算接触角。完整操作流程分为三个关键步骤：第一步是样品准备与固定，将样品放置于样品台并调整水平（样品台水平度误差≤0.1°）... 【查看详情】

sessile drop 法（座滴法）是晟鼎精密接触角测量仪基础、应用广的测量方法，适用于板材、薄膜、涂层等多数固体样品的静态与动态接触角测量，其重要原理是将定量液体滴落在水平放置的样品表面，通过分析液滴稳定后的轮廓计算接触角。完整操作流程分为三个关键步骤：第一步是样品准备与固定，将样品放置于样品台并调整水平（样品台水平度误差≤0.1°）... 【查看详情】

传统等离子清洗技术（如直接等离子体）常因高能粒子轰击导致工件损伤，尤其不适用于精密器件。相比之下，RPS远程等离子源通过分离生成区与反应区，只 输送长寿命的自由基到处理区域，从而实现了真正的“软”清洗。这种技术不*减少了离子轰击风险，还提高了工艺的可控性。例如，在MEMS器件制造中，RPS远程等离子源能够精确去除有机污染物而不影响微结构。... 【查看详情】

远程等离子体源（Remote Plasma Source，RPS）是一种用于产生等离子体的装置，它通常被用于在真空环境中进行表面处理、材料改性、薄膜沉积等工艺。RPS 通过将气体输送到装置中，利用电场或者磁场产生等离子体，然后将等离子体传输到需要处理的表面区域。与传统等离子体源不同的是，RPS 通常不直接接触要处理的表面，而是在一定距离之... 【查看详情】