影响ITO碱性氯化铜蚀刻液蚀刻速率的因素:1、Cu2+离子浓度的影响:Cu2+是氧化剂,所以Cu2+的浓度是影响蚀刻速率的主要因素。研究铜浓度与蚀刻速率的关系表明:在0~82g/L时,蚀刻时间长;在82~120g/L时,蚀刻速率较低,且溶液控制困难;在135~165g/L时,蚀刻速率高且溶液稳定;在165~225g/L时,溶液不稳定,趋向于产生沉淀。2、氯化铵含量的影响:通过蚀刻再生的化学反应可以看出:[Cu(NH3)2]+的再生需要有过量的NH3和NH4Cl存在,如果溶液中缺乏NH4Cl,大量的[Cu(NH3)2]+得不到再生,蚀刻速率就会降低,以致失去蚀刻能力。所以,氯化铵的含量对蚀刻速率影响很大。随着蚀刻的进行,要不断补加氯化铵。ITO蚀刻液可以说是通过侵蚀材料的特性来进行雕刻的一种液体。苏州ITO化学药水怎么样
影响ITO酸性氯化铜蚀刻液蚀刻速率的因素:Cl-含量的影响。溶液中氯离子浓度与蚀刻速率有着密切的关系,当盐酸浓度升高时,蚀刻时间减少。在含有6N的HCl溶液中蚀刻时间至少是在水溶液里的1/3,并且能够提高溶铜量。但是,盐酸浓度不可超过6N,高于6N盐酸的挥发量大且对设备腐蚀,并且随着酸浓度的增加,氯化铜的溶解度迅速降低。添加Cl-可以提高蚀刻速率的原因是:在氯化铜溶液中发生铜的蚀刻反应时,生成的Cu2Cl2不易溶于水,则在铜的表面形成一层氯化亚铜膜,这种膜能够阻止反应的进一步进行。过量的Cl-能与Cu2Cl2络合形成可溶性的络离子(CuCl3)2-,从铜表面上溶解下来,从而提高了蚀刻速率。南通TIO清洁药水ITO显影剂两液显影主要作用是用于加强阴影部分的影纹,减低高影调部分的密度。
TIO蚀刻液的基本信息:(1)配方。①热水12g,氟化铵15g,草酸8g,硫酸铵10g,甘油40g,硫酸钡15g;②氟化铵15g,草酸7g,硫酸铵8g,硫酸钠14g,甘油35g,水10g;③氢氟酸60(体积数,下同),硫酸10,水30。(2)配制方法。配制蚀刻液①和②时,将上述原料与60℃热水混合,搅拌均匀即可。配置时不要使溶液溅到皮肤上,而且操作时应戴上口罩。配制蚀刻液③时,按配方将氢氟酸和硫酸混合,然后将混合液倒入水中(不能将水倒入混合液),并不断搅拌。(3)使用方法。使用刻蚀液①或②时,把要蚀刻的玻璃洗净、晾干,建议用电炉或红外线灯将玻璃稍微加热,以便于蚀刻。蚀刻时,用毛笔蘸蚀刻液书写文字或图案于玻璃上,2min蚀刻工作即完成。制作毛玻璃时,将玻璃洗净、晾干,用刷子均匀涂上腐蚀液即可。
ITO蚀刻废液的处理具体特点:第1、印制板厂的废蚀刻液不必再由外单位拉走,在厂内就可直接铜回收和废蚀刻液的循环使用。实现了清洁生产,不会对环境造成任何污染,符合国家法律政策。第二、印制板厂蚀刻机的氨洗水,也同时获得了再生回用,或可实现无污染排放。第三、很大程度减轻了印制板厂废水处理站的运行负荷,降低运行成本。第四、变废为宝,为企业带来良好的经济效益。第五、自主研制、开发、制造、安装、调试,全套设备采用PLC数字控制,易操作管理。第六、落实了国家《清洁生产促进法》,树立科学发展观,创造人和自然的和谐发展,实现“资源再生,循环经济”的可持续经济发展目标,有着非常重要的意义。ITO蚀刻液由氟化铵、草酸、硫酸钠、氢氟酸、硫酸、硫酸铵、甘油、水组成。
ITO酸性蚀刻液用途可用于多层印制板的内层电路图形的制作或微波印制板阴板法直接蚀刻图形的制作;而碱性蚀刻液一般适用于多层印制板的外层电路图形的制作及纯锡印制板的蚀刻。而总的来说,碱性与酸性蚀刻液用途要权衡对抗蚀层的破坏情况、蚀刻速度,溶液再生及铜的回收、环境保护及经济效果等各方面的影响因素选择合适的试剂。ITO酸性蚀刻液的蚀刻速率易控制,蚀刻液在稳定状态下能达到高的蚀刻质量;溶铜量大;蚀刻液容易再生与回收,从而减少污染;而碱性蚀刻液的蚀刻速率快,侧蚀小;溶铜能力高,蚀刻容易控制;蚀刻液能连续再生循环使用,成本低。ITO显影剂在使用中,显影剂与保护剂、促进剂、阻止剂等配成显影液使用。江苏触摸屏铜网格黑化哪里有销售
ITO显影液的浓度是指NaOH、Na2SiO3总含量。苏州ITO化学药水怎么样
ITO显影剂的两液显液:两液显影主要作用是用于加强阴影部分的影纹,减低高影调部分的密度。曝光时,阴影部分须比正常提高一个区。如果胶片容易发灰,在溶液B中加入少量的10%溴化钾溶液。底片上的高密度部分的厚度,主要依靠A溶液显影时间的控制,底片进入溶液B以后,高密度部分的显影作用已经停止了,但低密度的部分仍然继续进行,溶液B可以调制的比较强,但是B溶液越强,颗粒就会越粗,所以这种冲洗法需要事前进行比较大量的试验。苏州ITO化学药水怎么样
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