IC封装药水基本参数
  • 品牌
  • 圣天迈
  • 纯度级别
  • 化学纯CP
  • 产品性状
  • 液态
IC封装药水企业商机

随着芯片尺寸加大,工艺线宽减小,从9Onm工艺开始,以往IC清洁剂在清洗过程中使用的超声波清洗遇到一些问题,如造成半导体器件结构损伤,在65nm及以下工艺,其损伤程度可能会加剧。芯片中的深沟槽结构清洗时清洗液和漂洗去离子水很难进入结构内部,难以达到清洗目的。高堆桑式和深沟槽式结构清洗后的干燥过程也是很关键的技术问题。一般小于130nm工艺中,要求必须去除所有大于或等于100nm的颗粒,而由于表面边界层的限制,现行清洗技术,如液体或高压〈液体〉喷射清洗已无法洗去0onm的颗粒。IC封装药水无毒、无味等特点,不含有害物质,环保型水性产品。江苏IC除锈活化液供应公司

IC封装药液为溶剂型,具有挥发性和对皮肤刺激性。为了避免吸入和接触皮肤,操作时应通风和戴防护手套、口罩和眼镜防护罩。使用时不慎接触皮肤,应立即用大量清水和肥皂清洗即可。如有不适请送医。只供工业用途,使用者必须经过培训,并将此产品容器盖紧存放清凉、干燥及通风的地方。IC除锈剂采用多种高效能生物降解表面活性剂,并添加多种助剂、缓蚀剂科学配制而成。,能够迅速除掉工件表面的各种油污,不腐蚀工件,并且具有短期防锈效果。也可用于大型设备的表面擦洗,具有低碱度、无腐蚀、操作简单、低温使用,节约能源,使用寿命长等特点。杭州IC镀锡药剂IC封装药水可有效防止铝材黑变、灰变、白毛、失光、失色的不良现象的产生。

IC封装药液颗粒主要是一些聚合物、光致抗蚀剂和蚀刻杂质等。通常颗粒粘附在硅表面,影响下一工序几何特征的形成及电特性。根据颗粒与表面的粘附情况分析,其粘附力虽然表现出多样化,但主要是范德瓦尔斯吸引力,所以对颗粒的去除方法主要以物理或化学的方法对颗粒进行底切,逐渐减小颗粒与硅表面的接触面积,终将其去除。有机物杂质在IC制程中以多种形式存在,如人的皮肤油脂、净化室空气、机械油、硅树脂真空脂、光致抗蚀剂、清洗溶剂等。每种污染物对IC制程都有不同程度的影响,通常在晶片表面形成有机物薄膜阻止清洗液到达晶片表面。

IC封装药液是将一定分量的各组分盐酸(30~80g)、六亚甲基四胺(1~10g)、十二烷基苯磺酸钠(1~10g)、十二烷基硫酸钠(0~2g)、尿素、(三乙醇胺)、氯化钠、6501、TX-10少量,再配加由十二烷基苯磺酸钠、十二烷基磺酸钠、柠檬酸、盐酸配制的活化剂,混合均匀即可。对锈层和杂质层发生溶解、剥落作用。该IC除锈剂中的多种原料吸附在表面、锈层和杂层上,在固/液界面上形成扩散双电层,由于锈层和表面所带的电荷相同,从而发生互斥作用,而使锈层、杂质和氧化皮从表面脱落。IC封装药水使用前需干燥新产品。

由于生锈达到更好的效果,如果是严重腐蚀材料的表面处理,应用钢刷或其他机械去除方法腐蚀,然后再用IC除锈剂。如果处理过的材料表面有厚油,应先清理油,然后用IC除锈剂处理。与产品短期接触对皮肤无害,如果长期接触应采取相应措施保护劳动力(眼镜,橡胶手套,穿防护服,橡胶鞋),以确保操作人员的安全。如果液体偶然溅入眼睛,立即用水冲洗或去医院。据世界腐蚀组织指出:据不完全统计,全球每年因金属腐蚀造成的直接经济损失高达约达7千亿美金,而我国因金属腐蚀造成的损失约占到国民生产总值的4%。IC封装药水有机封闭剂:闪点高(110度),可水溶性,不易燃烧,使用安全,环保,无铬,无排放。苏州IC清洁除胶剂现货

IC封装药水比硅酸盐溶液稳定,不会出现析出、凝胶、悬浮、沉淀、结垢的现象。江苏IC除锈活化液供应公司

现代清洗技术中的关键要求:IC清洁剂在未来90~65nm节点技术工艺中,除了要考虑清洗后的硅片表面的微粗糙度及自然氧化物去除率等技术指标外,也要考虑对环境的污染以及清洗的效率其经济效益等。硅片清洗技术评价的主要指标可以归纳为:微粗糙度(RMS);自然氧化物去除率;金属沾污、表面颗粒度以及有机物沾污,其他指标还包括:芯片的破损率;清洗中的再沾污;对环境的污染;经济的可接受:包括设备与运行成本、清洗效率)等。金属沾污在硅片上是以范德华引力、共价键以及电子转移等三种表面形式存在的。这种沾污会破坏薄氧化层的完整性,增加漏电流密度,影响MOs器件的稳定性,重金属离子会增加暗电流,情况为结构缺陷或雾状缺陷。江苏IC除锈活化液供应公司

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