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IC封装药液清洗晶圆是以整个批次或单一晶圆，藉由化学品的浸泡或喷洒来去除脏污，并用超纯水来洗涤杂质，主要是去除晶片表面所有的污染物，如微尘粒(PartICle)、有机物(OrganIC)、无机物、金属离子等杂质。在超大型集成电路(ULSI)制程中，晶圆清洗技术及洁净度，是影响晶圆制程良率、品质及可靠度重要的因素之一。据统计，在标准的IC制造工艺中，涉及晶圆清洗和表面预处理的工艺步骤就有100步之多，可以说晶圆清洗的好坏直接制约了IC加工的水平。随着物联网和人工智能领域的快速发展，集成电路芯片的应用达到井喷需求，芯片已成为我国的一大进口产品，集成电路的发展已上升到国家战略层面。IC封装药水极低的添加量，综合使用成本低。IC镀锡药剂库存充足

随着芯片尺寸加大，工艺线宽减小，从9Onm工艺开始，以往IC清洁剂在清洗过程中使用的超声波清洗遇到一些问题，如造成半导体器件结构损伤，在65nm及以下工艺，其损伤程度可能会加剧。芯片中的深沟槽结构清洗时清洗液和漂洗去离子水很难进入结构内部，难以达到清洗目的。高堆桑式和深沟槽式结构清洗后的干燥过程也是很关键的技术问题。一般小于130nm工艺中，要求必须去除所有大于或等于100nm的颗粒，而由于表面边界层的限制，现行清洗技术，如液体或高压〈液体〉喷射清洗已无法洗去0onm的颗粒。IC去胶清洗剂现货IC封装药水有机封闭剂：闪点高（110度），可水溶性，不易燃烧，使用安全，环保，无铬，无排放。

IC封装药液在酸性、中性、碱性条件下均能溶解透明，且长期稳定。与磷酸酯类物质相比，本剂具有好于磷酸酯类物质”三倍以上的防腐蚀效果。“磷酸酯类物质”含磷，易生菌，容易产生大量泡沫。而本剂不含磷、不易生菌、无泡。对黑色金属和其它有色金属都有辅助的防腐蚀作用；无毒、无味等特点，不含有害物质，环保型水性产品﹔极低的添加量，综合使用成本低；经本剂处理的工件，可保持金属本色，不影响加工精度﹔能够锁住金属表面颜色，稳定性好，防腐蚀性强，保护效果好，金属表面不褪色，从保护金属元件的稳定性。

IC封装药液清洁ACF用，对已上温并硬化的TYPE上的MELAMINE，URETHANE都可以膨胀分离。特別是对HITACHI。SONY的ACF有良好的除去效果。去除能力强，并且效果好无挥发性，容易保存无刺激性气味。半导体IC制程主要以20世纪50年代以后发明的四项基础工艺(离子注入、扩散、外延生长及光刻)为基础逐渐发展起来，由于集成电路内各元件及连线相当微细，因此制造过程中，如果遭到尘粒、金属的污染，很容易造成晶片内电路功能的损坏，形成短路或断路等，导致集成电路的失效以及影响几何特征的形成。IC封装药水经本剂处理的工件，可保持金属本色，不影响加工精度。

传统工艺一般需经过除油→水洗→除锈（强浸蚀）→水洗→活化（弱浸蚀）→水洗等六道工序。采用本品可简化操作步骤，提高工效。IC除锈剂使用方便：本品在常温下配置、使用，有利于节约能源、降低成本。半导体制程所用清洗液可大致分为两类。一类是散装化学试剂，如氢氟酸、硫酸、双氧水以及氨水等；第二类是所谓功能性的药液，就是在上述散装化学试剂、水以及有机溶剂的基础上，添加鳌合剂、表面活性剂等混合而成。其中，作为功能性的药液的表示品种，从事聚合物剥离液和CMP（化学机械抛光）后清洗液生产的企业众多，竞争异常激烈。IC封装药水适用于各种Cu-alloy、Fe-Ni-alloy、Ni。南京电子元件清洗剂现货

IC封装药水适用于金属表面，塑料表面，玻璃表面等的清洗和光亮。IC镀锡药剂库存充足

IC封装药液油性封闭剂：闪点（40度）相比有机封闭剂低，不可兑水使用，使用安全，环保，无铬，无排放；使用前需干燥新产品；使用寿命长，可循环使用，无需更换；产品封闭处理后，表面为全干性，少量油感，不影响产品后期的导电与焊接性能，耐腐蚀性能提高5-40倍。具有光泽度高，良好的罩光作用。单组分产品，施工方便，附着力强，丰满度好，保光、保色效果好，耐久，很好的耐候性，为耐黄变产品，可用水调节粘度，使用安全方便，经济使用。经两到四分钟浸渍后，在金制品或金镀层表面形成一层单分子膜厚度的防氧化保护层，依使用运输和储存条件的不同，在1-3年内可防止表面形成硫化物。IC镀锡药剂库存充足

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