ITO药水基本参数
  • 品牌
  • 圣天迈
  • 纯度级别
  • 化学纯CP
  • 产品性状
  • 液态
ITO药水企业商机

ITO导电玻璃稳定性:耐碱为浸入60℃、浓度为10%氢氧化钠溶液中5分钟后,ITO层方块电阻变化值不超过10%。耐酸为浸入250C、浓度为6%盐酸溶液中5分钟后,ITO层方块电阻变化值不超过10%。耐溶剂为在250C、二甲基酮、无水乙醇或100份去离子水加3分EC101配制成的清洗液中5分钟后,ITO层方块电阻变化值不超过10%。附着力:在胶带贴附在膜层表面并迅速撕下,膜层无损伤;或连撕三次后,ITO层方块电阻变化值不超过10%。热稳定性:在300°C的空气中,加热30分钟后,ITO导电膜方块电阻值应不大于原方块电阻的300%。ITO显影剂纳米显影技术能瞬间让一块简单的玻璃变成一块显示屏。安徽网格发黑

ITO蚀刻液蚀刻过程中应注意的问题:减少侧蚀和突沿,提高蚀刻系数侧蚀产生突沿。通常印制板在蚀刻液中的时间越长,侧蚀越严重。侧蚀严重影响印制导线的精度,严重侧蚀将使制作精细导线成为不可能。当侧蚀和突沿降低时,蚀刻系数就升高,高的蚀刻系数表示有保持细导线的能力,使蚀刻后的导线接近原图尺寸。电镀蚀刻抗蚀剂无论是锡-铅合金,锡,锡-镍合金或镍,突沿过度都会造成导线短路。因为突沿容易断裂下来,在导线的两点之间形成电的桥接。苏州铜发黑规格ITO蚀刻液由氟化铵、草酸、硫酸钠、氢氟酸、硫酸、硫酸铵、甘油、水组成。

市场上销售的显影液多是浓缩型液体,使用时需要按比例稀释,显影液的浓度多以显影液的稀释比来表示。ITO显影液的浓度是指显影剂的相对含量,即NaOH、Na2SiO3总含量。在其他条件不变的前提下,显影速度与显影液浓度成正比关系,即显影液浓度越大,显影速度越快。当温度22℃,显影时间为60秒时,PD型显影液浓度对PS版性能的影响。当显影液浓度过大时,往往因显影速度过快而使显影操作不易控制;特别是它对图文基础的腐蚀性增强,容易造成网点缩小、残损、亮调小网点丢失及减薄涂层,从而造成耐印力下降等弊病;同时空白部位的氧化膜和封孔层也会受到腐蚀和破坏,版面出现发白现象,使印版的亲水性和耐磨性变差。显影液浓度大,还易有结晶析出。当显影液的浓度偏低时,碱性弱,显影速度慢,易出现显影不净、版面起脏、暗调小白点糊死等现象。

ITO蚀刻液影响蚀刻速率的因素:酸性氯化铜蚀刻液。Cl-含量的影响。溶液中氯离子浓度与蚀刻速率有着密切的关系,当盐酸浓度升高时,蚀刻时间减少。在含有6N的HCl溶液中蚀刻时间至少是在水溶液里的1/3,并且能够提高溶铜量。但是,盐酸浓度不可超过6N,高于6N盐酸的挥发量大且对设备腐蚀,并且随着酸浓度的增加,氯化铜的溶解度迅速降低。添加Cl-可以提高蚀刻速率的原因是:在氯化铜溶液中发生铜的蚀刻反应时,生成的Cu2Cl2不易溶于水,则在铜的表面形成一层氯化亚铜膜,这种膜能够阻止反应的进一步进行。过量的Cl-能与Cu2Cl2络合形成可溶性的络离子(CuCl3)2-,从铜表面上溶解下来,从而提高了蚀刻速率。ITO显影液的显影速度与浓度成正比关系。

常用的彩色显影剂有CD-2、CD-3、CD-4等。在使用中,显影剂与保护剂、促进剂、阻止剂等配成ITO显影液使用。当ITO显影液的浓度偏低时,碱性弱,显影速度慢,易出现显影不净、版面起脏、暗调小白点糊死等现象。ITO显影液是一种化学用品的成分,主要是用硫酸、硝酸及苯、甲醇、卤化银等硼酸、对苯二酚配合组成的一种特殊的用材。像对苯二酚对皮肤、粘膜有强烈的腐蚀作用,吸入、食入、经皮吸收均会影响。常用的黑白显影剂是硫酸对甲氨基苯酚(米吐尔)、对苯二酚(几奴尼)等。ITO蚀刻液是一种无色透明的液体。TIO清洁药水供应

ITO显影液是银盐胶片显影用的药液。安徽网格发黑

ITO蚀刻废液的处理具体特点:第1、印制板厂的废蚀刻液不必再由外单位拉走,在厂内就可直接铜回收和废蚀刻液的循环使用。实现了清洁生产,不会对环境造成任何污染,符合国家法律政策。第二、印制板厂蚀刻机的氨洗水,也同时获得了再生回用,或可实现无污染排放。第三、很大程度减轻了印制板厂废水处理站的运行负荷,降低运行成本。第四、变废为宝,为企业带来良好的经济效益。第五、自主研制、开发、制造、安装、调试,全套设备采用PLC数字控制,易操作管理。第六、落实了国家《清洁生产促进法》,树立科学发展观,创造人和自然的和谐发展,实现“资源再生,循环经济”的可持续经济发展目标,有着非常重要的意义。安徽网格发黑

苏州圣天迈电子科技有限公司是我国铜剥挂加速剂,蚀刻添加剂 ,剥镍钝化剂,印制电路板蚀刻液在线循环专业化较早的有限责任公司(自然)之一,公司成立于2014-03-20,旗下圣天迈,已经具有一定的业内水平。公司承担并建设完成化工多项重点项目,取得了明显的社会和经济效益。将凭借高精尖的系列产品与解决方案,加速推进全国化工产品竞争力的发展。

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