选择清洗介质，即IC清洁剂是设备设计、清洗流程、工艺的前提，根据现代清洗技术中的关键要求，结合当前材料科技发展中出现的新观念、新成果，把目光集中到超临界、超凝态，常压低温等离子体等介于气、液相的临界状态物质是顺理成章的事。超临界清洗剂：气相清洗方法，使晶圆在气相加工过程中可以一直保持在真空是内，避免污染，因而增加了成品率，并降低了成本，气相清洗方法采用了非常重要的CO2，超临界CO2技术是使CO2成为液态，用高压压缩成一种介于液体和气体之间的流体物质，"超临界"状态。IC封装药水保光、保色效果好，耐久，很好的耐候性，为耐黄变产品。上海IC清洁除胶剂
IC封装药液拆胶液切勿触及眼睛、皮肤，如不慎接触可用水清洗。用毕及时封好瓶盖，以免液体挥发比例失调影响效果，瓶内液体会产生气体，小心开启，低温避光保存。是一种单组份高性能混合溶剂，能有效脱除环氧树脂、酚醛树脂、丙烯酸树脂、聚丁二烯、三聚氰胺等聚合物为基础的膠层和经环氧树脂胶粘接、灌封并固化的零件。挥发快，溶解及清洁力优良。对金属无损伤、但对塑胶有輕微腐蚀性。用于首饰、标牌、电子、电器各种产品零件返修不良品之用并可清洁相关工具。上海IC清洁除胶剂IC封装药水属于干性防锈/防变色剂，适用于等产品后防变色，防腐蚀处理。
IC封装药液颗粒主要是一些聚合物、光致抗蚀剂和蚀刻杂质等。通常颗粒粘附在硅表面，影响下一工序几何特征的形成及电特性。根据颗粒与表面的粘附情况分析，其粘附力虽然表现出多样化，但主要是范德瓦尔斯吸引力，所以对颗粒的去除方法主要以物理或化学的方法对颗粒进行底切，逐渐减小颗粒与硅表面的接触面积，终将其去除。有机物杂质在IC制程中以多种形式存在，如人的皮肤油脂、净化室空气、机械油、硅树脂真空脂、光致抗蚀剂、清洗溶剂等。每种污染物对IC制程都有不同程度的影响，通常在晶片表面形成有机物薄膜阻止清洗液到达晶片表面。
IC芯片生产是一个高科技、高投入和高回报的行业，芯片工艺生产中所运用的清洗液，尤其是后段制程的有机溶剂，价格昂贵，成分保密，被国外化学品大厂垄断。IC清洁剂采用多种能生物降解表面活性剂，并添加多种助剂、缓蚀剂科学配制而成。，能够迅速除掉工件表面的各种油污，不腐蚀工件，并且具有短期防锈效果。也可用于大型设备的表面擦洗，具有低碱度、无腐蚀、操作简单、低温使用，节约能源，使用寿命长等特点。使用方法：本脱脂剂可用擦洗或浸泡式对工件表面进行清洗处理，配制方法：（按1000L计算）1：将清水加到处理槽容量的9成。2：慢慢加入100-公斤IC-502，边加边搅拌。（油污较重可适量提供使用比例）3：加入余量的水到1000L，并搅拌均匀。IC封装药水配比浓度(5%-10%)，消耗很低。
硅晶圆经过SC-1和SC-2溶液清洗后，由于双氧水的强氧化力，在晶圆表面上会生成一层化学氧化层。为了确保闸极氧化层的品质，此表面氧化层必须在晶圆清洗过后加以去除。另外，在IC制程中采用化学汽相沉积法(CVD)沉积的氮化硅、二氧化硅等氧化物也要在相应的清洗过程中有选择的去除。化学清洗是利用各种化学试剂和有机溶剂去除附着在物体表面上的杂质的方法。在半导体行业，化学清洗是指去除吸附在半导体、金属材料以及用具表面上的各种有害杂质或油污的工艺过程。IC封装药水无毒、无味等特点，不含有害物质，环保型水性产品。无锡IC清洁除胶剂供求信息
IC封装药水的保存方法。上海IC清洁除胶剂
随着芯片尺寸加大，工艺线宽减小，从9Onm工艺开始，以往IC清洁剂在清洗过程中使用的超声波清洗遇到一些问题，如造成半导体器件结构损伤，在65nm及以下工艺，其损伤程度可能会加剧。芯片中的深沟槽结构清洗时清洗液和漂洗去离子水很难进入结构内部，难以达到清洗目的。高堆桑式和深沟槽式结构清洗后的干燥过程也是很关键的技术问题。一般小于130nm工艺中，要求必须去除所有大于或等于100nm的颗粒，而由于表面边界层的限制，现行清洗技术，如液体或高压〈液体〉喷射清洗已无法洗去0onm的颗粒。上海IC清洁除胶剂
