蚀刻液基本参数
  • 品牌
  • 圣天迈
  • 型号
  • STM-5310
  • 保存条件
  • 避光常温
  • 产品等级
  • 电子级
  • 厂家
  • 圣天迈
  • 产品规格
  • 25KG/桶
  • 执行标准
  • 国标
  • 主要用途
  • 蚀刻
  • 有效物质含量
  • 0.998
  • 产地
  • 江苏
蚀刻液企业商机

蚀刻液-苏州圣天迈英文名:AlEtch危险标记:第8.1类酸性腐蚀品存储及包装:密封干燥处,避光,常温保存,属无机强酸性腐蚀品,应与碱类化学品等分储分运。包装规格:5L、20L、25L、1000LHDPE桶或槽罐车。理化性质:无色透明液体,强酸性,具有特殊气味。密度1.5g/ml,强酸性腐蚀液。特殊配方的蚀刻液将不会伤害SiO2、SiN4和镍铬合金电阻薄膜应用范围:在半导体与面板制程中,用于蚀刻铝材料本书适用于从事铝合金、不锈钢、钛合金、化学蚀刻加工,具有中等文化程度的技术人员及技术工人阅读使用,同样也适用于与化学蚀刻加工有关的产品设计人员阅读使用,使设计人员在设计之始就对整个加工过程做出考虑,以达到产品设计和化学蚀刻加工的完美结合。蚀刻液应具备的技术性能。安徽金属蚀刻液价钱

蚀刻加工特别优点以及共性特点说明蚀刻工件的保护膜去除之后,就显露出光泽的金属本色,例如:黄铜装饰件、铭牌、未蚀刻到的凸处是光亮的金黄色。被腐蚀到的凹处则是亚光或是无光的,层次清晰,经漂洗钝化后,表面罩上保护漆,即为成品。下面小编分享关于圣天迈蚀刻液,蚀刻加工特别优点以及共性特点说明的内容,欢迎阅读!蚀刻加工特别优点:由于金属蚀刻加工是通化学药水的方式进行浸蚀。1.**为***的优点就是产品跟原材料保持高度一致。不改变材料的性状,不改变材料应力(除表面半蚀刻的以外),不改材料的硬度,拉伸强度及屈服强度及延展性。基加工过程在设备中是经过雾化的状态进行蚀刻,表面无明显压力。湖州电路板蚀刻液多少钱蚀刻液能满足抗蚀保护层(或抗电镀保护层)的性能要求。

钛蚀刻剂TFT是设计用来蚀刻通常在微电子产品中作为连结层和阻挡层的蒸发法薄膜的蚀刻剂。这种蚀刻剂光刻胶匹配性良好、分辨率高、边下蚀现象低。钛蚀刻剂TFTN用来蚀刻玻璃或SiO2基板上的Ti沉积膜。TFTN并不含有氢氟酸。性质TFTTFTN外观澄清水溶液澄清水溶液PH11闪点不可燃不可燃贮存室温室温有效期1年1年毒性强酸强酸操作蚀刻容器聚乙烯/聚丙烯聚乙烯/聚丙烯温度20~50℃70~85℃蚀刻速率25Å/秒,20℃50Å/秒,30℃10Å/秒,70℃50Å/秒,80℃冲洗水水*匹配光刻胶阴性和阳性阴性和阳性金属——除Al以外的大多数金属。

产品的开发周期:针对金属蚀刻加工工艺的新产品开发可以更灵活,费用低。设计人员在新品开发时,可以提前和我们沟通,这样可以经过双方的讨论,来规避一些设计上的缺陷。比如:设计的材料厚度,设计的加工管控精度,可以蚀刻的**小孔,**小的缝隙等。金属蚀刻加工可实现的一些特殊作用:金属蚀刻加工可以实现冲压,切割或CNC达不到的凹凸效果:比如一些LOGO,品牌标识等,且立体感强,图案任意,精细度高金属蚀刻加工通用的一些可管控精度:依据材料材质,厚度,本厂加工精度大约可以换算成材料厚度的10%,比如0.1mm厚的不锈钢,可管控的精度为+/-0.01mm金属蚀刻可加工的一些形状:几乎可以任意形状。依据材料厚度的不同,形状可开的**小开孔会有所不同,越厚的板子,可开的形状间隙需要越大。复杂外形的产品同样可以蚀刻,无需额外增加成本。圣天迈蚀刻液。影响蚀刻速率的因素:影响蚀刻速率的主要因素是溶液中Cl、Cu、Cu的含量及蚀刻液的温度等。

使用刻蚀液①或②时,把要蚀刻的玻璃洗净、晾干,比较好用电炉或红外线灯将玻璃稍微加热,以便于蚀刻。蚀刻时,用毛笔蘸蚀刻液书写文字或图案于玻璃上,2min蚀刻工作即完成。制作毛玻璃时,将玻璃洗净、晾干,用刷子均匀涂上腐蚀液即可。酸性氯化铜蚀刻液1)蚀刻机理:Cu+CuCl2→Cu2Cl2Cu2Cl2+4Cl-→2(CuCl3)2-2)影响蚀刻速率的因素:影响蚀刻速率的主要因素是溶液中Cl-、Cu+、Cu2+的含量及蚀刻液的温度等。a、Cl-含量的影响:溶液中氯离子浓度与蚀刻速率有着密切的关系,当盐酸浓度升高时,蚀刻时间减少。在含有6N的HCl溶液中蚀刻时间至少是在水溶液里的1/3,并且能够提高溶铜量。但是,盐酸浓度不可超过6N,高于6N盐酸的挥发量大且对设备腐蚀,并且随着酸浓度的增加,氯化铜的溶解度迅速降低。蚀刻液质量好坏的评定,通常从蚀刻系数、蚀刻速率和溶铜量三方面来衡量。苏州硝酸双氧水蚀刻液品牌

蚀刻液应该怎么使用啊?安徽金属蚀刻液价钱

蚀刻液氯化铜的溶解度迅速降低,添加Cl-可以提高蚀刻速率的原因是:在氯化铜溶液中发生铜的蚀刻反应时,生成的Cu2Cl2不易溶于水,则在铜的表面形成一层氯化亚铜膜,这种膜能够阻止反应的进一步进行。过量的Cl-能与Cu2Cl2络合形成可溶性的络离子(CuCl3)2-,从铜表面上溶解下来,从而提高了蚀刻速率。Cu+含量的影响:根据蚀刻反应机理,随着铜的蚀刻就会形成一价铜离子。较微量的Cu+就会的降低蚀刻速率。所以在蚀刻操作中要保持Cu+的含量在一个低的范围内。安徽金属蚀刻液价钱

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