第四加热区域、第五加热区域、第六加热区域和第七加热区域设置于第二加热区域和第三加热区域外圆周;每个加热区域上均设置有若干弧形凹槽,且每个加热区域内的弧形凹槽均与相邻的弧形凹槽连接,使每个加热区域内的弧形凹槽形成串联;每个加热区域内均设置有一根加热丝,加热丝嵌于弧形凹槽内;底板与加热盘扣合;若干垫柱设置于加热盘上。其中,加热盘上还设有限位柱,限位柱用于限定晶圆在加热盘上的位置。其中,底板上均设置有温度传感器。其中,底板上设置有过温保护器。其中,垫柱为peek材料,高度为。其中,加热器外圆周上还套设有隔热环。三、本发明的有益效果与现有技术相比,本发明的晶圆加热器具通过七个加热区域,且每个加热区域为**加热单元的设计,使整个加热盘能够均匀的发热,达到了对晶圆均匀加热的效果,通过隔热环的设计,有效的加热区域内的热量过快的散发,提高了保温效果,同时隔热环还可以有效的避免烫伤周围人员,提高了安全性能。附图说明图1为本发明的晶圆加热器的图;图2为本发明的晶圆加热器的背面结构示意图;图3为本发明的晶圆加热器的正面结构示意图;图4为本发明的晶圆加热器的加热盘的背面结构示意图;图中:1为加热盘;2为底板;3为垫柱。或者层叠多个桶并在每个桶内设置多个加热器。上海 PH200-40-PCC10A加热板经销
本发明半导体加工领域,尤其涉及一种晶圆加热器。背景技术:现有的晶圆加热设备,加热丝呈螺旋状从中心向**旋转,加热丝在热盘中的分布不够均匀,无法达到均匀加热的目的,无法满足晶圆的高精度加热,而高精度加热对半导体的工艺至关重要。如中国发明专利cna所公开的一种能够提高照射效率的加热器。实施方式所涉及的加热器具备发光管、发热体及反射膜。发光管呈筒状,且所述发光管透光。发热体设置在发光管的内部,且发热体以碳作为主要成分。反射膜设置在发光管的外周面,并对光进行反射。上述现有技术的晶圆加热器无法恒温的均匀加热。技术实现要素:一、要解决的技术问题本发明的目的是针对现有技术所存在的上述问题,特提供一种晶圆加热器,解决现有加热器无法恒温的均匀加热的问题。二、技术方案为解决上述技术问题,本发明提供一种晶圆加热器,包括:加热盘、底板和若干垫柱;加热盘上设有七个加热区域,分别为***加热区域、第二加热区域、第三加热区域、第四加热区域、第五加热区域、第六加热区域和第七加热区域;***加热区域设置于中心区域,第二加热区域和第三加热区域设置于***加热区域外圆周。南京PA2020-PCC10A加热板其中,底板上设置有过温保护器。
***圆形温控晶圆夹盘系统是为晶圆和半导体测试设计的。根据客户的需求有不同尺寸、不同温度段的型号供选。并有台面电接地/电悬空,还有同轴/三同轴接口的细节差异。温控晶圆夹盘的台面温度梯度很低,并且厚度设计的很薄,可以集成进探针台。并且台体设有真空吸气槽,可以利用负压来吸附样品。功能特点:结构紧凑,可集成到晶圆探针台上,设计用于探针测试可编程控温,涵盖不同温度段(具体由型号而定)适用不同尺寸晶圆的真空吸附槽设计可降温至80K可选三同轴接口,以实现pA级测试可从温控器或电脑软件控制,可提供软件SDK基本配置:温控晶圆卡盘、mK2000B温控器可选配件安装支架、液氮制冷系统、外壳循环水冷系统台面选项标准:本色氧化可选:镀金晶圆样品真空吸附多个**的真空吸附通道可定制真空吸附方案晶圆顶杆默认无,可定制底座冷却可通循环水,以维持底座温度在常温附近安装可集成到探针台上,可定制安装支架台面电位电接地(R),电悬空(RF),可选三同轴(RT)BNC接口同轴,电悬空或三同轴传感器/温控方式100Ω铂RTD/PID控制(含LVDC降噪电源)温度分辨率℃温度稳定性±℃(>25℃),±℃(<。
控制模块在温度稳定阶段的精度值为℃。其中,控制模块在冷却降温阶段精度值为℃。本发明的有益效果与现有技术相比,本发明使得各个分区之间的温度差一直处在合理范围内,使得热盘温度均匀,满足了高精度晶圆的加工需求。还可以提高升温速率,不用担心热盘温度不均匀而损坏晶圆,**终达到了缩短晶圆加工时间,提高产量的目的。附图说明图1是本发明的实施例1的模块图。具体实施方式下面结合附图和实施例,对本发明的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本发明,但不能用来限制本发明的范围。实施例1:如图1所示,晶圆加热装置包括控制模块和多分区热盘,本领域普通技术人员可根据实际需求,将热盘分成若干个分区,为了方便说明,本实施例将多分区热盘分为***分区和第二分区。***分区包括***加热模块和***温度检测模块,***温度检测模块用于检测***分区的温度值,并将检测到的***分区温度值发送给控制模块,***加热模块用于加热***分区;第二分区包括第二加热模块和第二温度检测模块,第二温度检测模块用于检测第二分区的温度值,并将检测到的第二分区温度值发送给控制模块,第二加热模块用于加热第二分区;在本实施例中。陶瓷加热板的用途有哪些?
推荐的:所述的调节支撑圆柱与研磨盘主体之间、调节支撑圆柱与圆环之间均设置为螺纹连接。推荐的:所述的支撑圆盘本体的材质采用铝合金。推荐的:所述的圆环的材质采用ptfe。推荐的:所述的研磨块的长度与晶圆加热器的修磨面半径相等。本实用新型的有益效果;一种等离子体cvd晶圆加热器用表面修磨装置,与传统结构相比:设置有带锁紧及定位功能的晶圆加热器支撑圆盘、连接晶圆加热器支撑圆盘的旋转装置、带水平调整及测量功能的研磨盘、带水平调节功能的安装支架;研磨块的长度与晶圆加热器的半径相等,研磨均匀;本实用新型结构简单,稳定性好,操作方便,研磨快速高效;**降低了工人的劳动强度,大大减小了一次修磨量,增加了晶圆加热器的可修磨次数,延长了晶圆加热器的工作寿命,节约了成本。附图说明图1为本实用新型结构示意图;图2为本实用新型中加热器支撑圆盘结构示意图;图3为本实用新型中旋转装置结构示意图;图4为本实用新型研磨盘结构示意图;图5为本实用新型安装支架结构示意图;图6为本实用新型晶圆加热器结构示意图;在图中:1.加热器支撑圆盘;1-1.支撑圆盘本体;1-2.圆环;1-3.螺丝;2.旋转装置;2-1.固定座;2-2.旋转电机;2-3.连接圆盘;3.研磨盘。格芯的9HP延续了成熟的高性能硅锗BiCMOS技术的优势。MSA FACTORYPA2015-PCC10A加热板代理
在高温下加热器周围形成油脂或石灰石,从而降低热导率、缩短加热器的寿命、增大耗电率。上海 PH200-40-PCC10A加热板经销
格芯***宣布其先进的硅锗(SiGe)产品9HP目前可用于其300mm晶圆制造平台的原型设计。这表明300mm生产线将形成规模优势,进而促进数据中心和高速有线/无线应用的强劲增长。借助格芯的300mm专业生产技术,客户可以充分提高光纤网络、5G毫米波无线通信和汽车雷达等高速应用产品的生产效率和再现性能。格芯是高性能硅锗解决方案的行业***,在佛蒙特州伯灵顿工厂用200mm生产线进行生产。将9Hp(一种90nm硅锗工艺)迁移至纽约州东菲什基尔的格芯Fab10工厂实现300mm晶圆生产技术,将会保持这一行业**地位,并奠定300mm晶圆工艺基础,有助于进一步发展产品线,确保工艺性能持续增强和微缩。「高带宽通信系统日益复杂,性能需求也随之水涨船高,这些都需要更高性能的芯片解决方案,」格芯的RF业务部副总裁ChristineDunbar表示。「格芯的9HP旨在提供出色的性能,其300mm生产工艺将能够满足客户的高速有线和无线组件需求,助力未来的数据通信发展。」格芯的9HP延续了成熟的高性能硅锗BiCMOS技术的优势,支持微波和毫米波频率应用高数据速率的大幅增长,适用于下一代无线网络和通信基础设施,如TB级光纤网络、5G毫米波和卫星通信(SATCOM)以及仪器仪表和防御系统。上海 PH200-40-PCC10A加热板经销
上海九展自动化技术有限公司是以提供温控器,冷水机,仪器,无尘室用品为主的有限责任公司(自然),公司始建于2014-07-09,在全国各个地区建立了良好的商贸渠道和技术协作关系。公司承担并建设完成机械及行业设备多项重点项目,取得了明显的社会和经济效益。上海九展将以精良的技术、优异的产品性能和完善的售后服务,满足国内外广大客户的需求。