福建陶瓷喷涂厂家

溅射镀膜

溅射镀膜是指在真空条件下，利用获得功能的粒子轰击靶材料表面，使靶材表面原子获得足够的能量而逃逸的过程称为溅射。被溅射的靶材沉积到基材表面，就称作溅射镀膜。 溅射镀膜中的入射离子，一般采用辉光放电获得，在l0-2Pa～10Pa范围，所以溅射出来的粒子在飞向基体过程中，易和真空室中的气体分子发生碰撞，使运动方向随机，沉积的膜易于均匀。发展起来的规模性磁控溅射镀膜，沉积速率较高，工艺重复性好，便于自动化，已适当于进行大型建筑装饰镀膜，及工业材料的功能性镀膜，及TGN-JR型用多弧或磁控溅射在卷材的泡沫塑料及纤维织物表面镀镍Ni及银Ag。

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一个客户用锤子敲击涂层，然后涂层凹进去了，客户说“涂层硬度不行啊，我淬火的钢都不可能敲变形，涂层一下就敲的凹进去了，说明你这个根本是硬度不够”。热喷涂的涂层有一个很重要的特性是脆性很大，我在跟客户交流的时候都会提醒客户“涂层不耐冲击”。涂层适合的是耐摩擦磨损，但是如果在摩擦磨损的同时还有撞击、腐蚀等情况，那么就需要慎重考虑是否采用喷涂工艺。因为撞击会破坏涂层，然后腐蚀就会从破损的地方侵蚀整个涂层和产品基体。用锤子把涂层敲击变形，不能证明任何问题，之前我已经详细解释了涂层的硬度如何判断。在这里我举一个很简单的例子：我们可以用手折断一根筷子，但是无法同时折断10根筷子，因为强度是不一样的。我们喷涂的涂层大部分只有0.2㎜左右，那么如果喷涂的厚度是10毫米呢？作者曾经喷涂过厚涂层达到了32㎜，异常坚硬，但是即使是这么厚的涂层，脆性依然没有改变，遇到强的撞击，依然会碎裂。喷涂哪里好常州市丰裕科技有限公司主营金属喷涂，若有需要，欢迎致电。

物理类气相沉积详解

物理类气相沉积(PhysicalVaporDeposition，PVD)技术表示在真空条件下，采用物理方法，将材料源——固体或液体表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子，并通过低压气体（或等离子体）过程，在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。物理类气相沉积的主要方法有，真空蒸镀、溅射镀膜、电弧等离子体镀、离子镀膜，及分子束外延等。发展到目前，物理类气相沉积技术不仅可沉积金属膜、合金膜、还可以沉积化合物、陶瓷、半导体、聚合物膜等。

砂眼是所有的球阀喷涂厂都麻烦的问题，一个砂眼毁一个涂层。 砂眼问题是喷涂球阀中难解决又常见的问题，作者曾经亲身经历过很多砂眼问题，不同的原因所产生的砂眼呈现的状况也有很大的区别，经验丰富的工程师可以从砂眼的状况分析出砂眼出现的原因。作者拜访过多家球阀喷涂厂，无一例外都会出现砂眼问题，只是大家对工艺的控制的严格程度决定了砂眼出现的频率。我们经过多年的探索，整理出一套切实可行的办法来控制砂眼的出现，虽然不能说保证不出一个砂眼，但是经过我们不懈的努力，我们把产品的合格率提高到了99%以上。常州市丰裕科技有限公司主营金属喷涂，若有需要，欢迎来电垂询。

温度和压力

提高温度和压力均会增加腐蚀速度。压力一定时，提高温度可缩短孕育期；温度一定时，提高氢分压也可缩短孕育期。当温度或压力低于某一临界值时，将不发生氢腐蚀。如果氢分压较低而温度较高，氢腐蚀生成的甲烷一部分逸出钢外，钢中残剩的甲烷不足以引起氢腐蚀裂纹或鼓泡，钢只发生脱碳。Nelson根据许多l临氢设备的使用经验，总结了温度和压力对氢腐蚀的影响，得出了有名的Nelson曲线。

钢的成分和组成

钢中含碳量增加，会促进甲烷的产生，氢腐蚀倾向增加。钢中含有镍、铜等非碳化物形成元素时，由于这些元素促进碳的扩散，氢腐蚀倾向增加。钢中含有铬、铝、钛、铌、钒等碳化物形成元素时，由于这些元素阻碍碳化物的分解，而使氢腐蚀的倾向下降。因此，碳化物形成元素是抗氢腐蚀钢的主要合金元素。降低钢中的夹杂物含量或者将碳化物处理成球状，均可降低钢的氢腐蚀倾向。

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离子镀技术在1963年由D．M．Mattox提出，1972年，Bunshah&Juntz推出活性反应蒸发离子镀(AREIP)，沉积TiN,TiC等超硬膜，1972年Moley&Smith发展完善了空心热阴极离子镀，l973年又发展出射频离子镀(RFIP)。20世纪80年代，又发展出磁控溅射离子镀(MSIP)和多弧离子镀(MAIP)。

离子镀的基本特点是采用某种方法(如电子束蒸发磁控溅射，或多弧蒸发离化等)使中性粒子电离成离子和电子，在基体上必须施加负偏压，从而使离子对基体产生轰击，适当降低负偏压后，使离子进而沉积于基体成膜。离子镀的优点如下：

①膜层和基体结合力强。

②膜层均匀，致密。

③在负偏压作用下绕镀性好。

④无污染。

⑤多种基体材料均适合于离子镀。 福建陶瓷喷涂厂家

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