肖特基二极管是通过金属与N型半导体之间形成的接触势垒具有整流特性而制成的一种属-半导体器件。肖特基二极管的基本结构是重掺杂的N型4H-SiC片、4H-SiC外延层、肖基触层和欧姆接触层。中文名碳化硅肖特基二极管外文名Schottkybarrierdiode目录11碳化硅▪碳化硅材料的发展和优势▪碳化硅功率器件的发展现状22碳化硅肖特基二极管▪肖特基接触▪肖特基势垒中载流子的输运机理碳化硅肖特基二极管1碳化硅碳化硅肖特基二极管碳化硅材料的发展和优势碳化硅早在1842年就被发现了,但因其制备时的工艺难度大,并且器件的成品率低,导致了价格较高,这影响了它的应用。直到1955年,生长碳化硅的方法出现促进了SiC材料的发展,在航天、航空、雷达和核能开发的领域得到应用。1987年,商业化生产的SiC进入市场,并应用于石油地热的勘探、变频空调的开发、平板电视的应用以及太阳能变换的领域。碳化硅材料有很多优点,如禁带宽度很大、临界击穿场强很高、热导率很大、饱和电子漂移速度很高和介电常数很低如表1-1。首先大的禁带宽度,如4H-SiC其禁带宽度为eV,是硅材料禁带宽度的三倍多,这使得器件能耐高温并且能发射蓝光;高的临界击穿场强,碳化硅的临界击穿场强(2-4MV/cm)很高。稳压二极管稳压二极管,英文名称Zenerdiode,又叫齐纳二极管。安徽肖特基二极管MBR10100CT
当施加正向偏压时,金属会向半导体注入大量的载流子,使得电流可以迅速地通过器件。相比之下,传统的PN结二极管需要更大的电压才能使得电流通过。肖特基二极管由于其快速开关特性和低功耗,在高频电路以及一些低压、高效率的应用中得到了广泛的应用。例如在射频电路、功率放大器、混频器、电源管理等领域都有着重要的作用。总的来说,肖特基二极管因其独特的特性,在某些特定应用场合具有重要的意义,并在电子领域中发挥着重要作用。ITO220封装的肖特基二极管MBRF3060CT常州市国润电子有限公司力于提供肖特基二极管 ,有需求可以来电咨询!
此外,以下是一些肖特基二极管的其他特性和应用方面:1.低噪声特性:肖特基二极管具有较低的噪声水平,这使其在对低噪声性能要求较高的应用中特别受欢迎,例如在射频接收机、放大器和其他敏感电路中。2.可逆运行模式:肖特基二极管可以在正向和逆向工作模式下使用,这使其在一些特殊应用中非常有用。在正向模式下,它可以作为普通的二极管工作,而在逆向模式下,它可以用作保护或者反向电流传感器。常州国润电子有限公司,欢迎来电咨询
另外,还有一些与肖特基二极管相关的进一步考虑因素:1.峰值逆压:肖特基二极管通常具有较低的峰值逆压能力。因此,在选择二极管时,需要确保其逆压能力足够满足实际应用的要求,避免超过二极管的峰值逆压。2.发热性能:虽然肖特基二极管的正向压降较低,但其在正向导通状态下仍然会产生一定的热量。在高功率应用中,需要考虑二极管的发热性能和散热能力,以确保系统的稳定运行。3.动态特性:肖特基二极管的动态特性包括开关速度和电荷存储效应等。在高频和高速开关应用中,需要评估和测试二极管的动态特性,以确保其性能符合要求。肖特基二极管 ,就选常州市国润电子有限公司,用户的信赖之选,欢迎您的来电哦!
肖特基(Schottky)二极管又称肖特基势垒二极管(简称SBD),它属一种低功耗、超高速半导体器件。特点为反向恢复时间极短(可以小到几纳秒),正向导通压降可以低至。其多用作高频、低压、大电流整流二极管、续流二极管、保护二极管,也有用在微波通信等肖特基(Schottky)二极管又称肖特基势垒二极管(简称SBD),它属一种低功耗、超高速半导体器件。在通讯电源、变频器等中比较常见。供参考。电路中作整流二极管、小信号检波二极管使用。在通讯电源、变频器等中比较常见。肖特基(Schottky)二极管的特点是正向压降VF比较小。在同样电流的情况下,它的正向压降要小许多。另外它的恢复时间短。它也有一些缺点:耐压比较低,漏电流稍大些。选用时要细致考虑。常州市国润电子有限公司力于提供肖特基二极管 ,欢迎您的来电哦!陕西肖特基二极管MBRB2045CT
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肖特基二极管的基本结构是重掺杂的N型4H-SiC片、4H-SiC外延层、肖基触层和欧姆接触层。由于电子迁移率比空穴高,采用N型Si、SiC或GaAs为材料,以获得良好的频率特性,肖特基接触金属一般选用金、钼、镍、铝等。金属-半导体器件和PiN结二极管类似,由于两者费米能级不同,金属与半导体材料交界处要形成空间电荷区和自建电场。在外加电压为零时,载流子的扩散运动与反向的漂移运动达到动态平衡,这时金属与N型4H-SiC半导体交界处形成一个接触势垒,这就是肖特基势垒。肖特基二极管就是依据此原理制作而成。[2]碳化硅肖特基二极管肖特基接触金属与半导体的功函数不同,电荷越过金属/半导体界面迁移,产生界面电场,半导体表面的能带发生弯曲,从而形成肖特基势垒,这就是肖特基接触。金属与半导体接触形成的整流特性有两种形式,一种是金属与N型半导体接触,且N型半导体的功函数小于金属的功函数;另一种是金属与P型半导体接触,且P型半导体的功函数大于金属的功函数。金属与N型4H-SiC半导体体内含有大量的导电载流子。金属与4H-SiC半导体材料的接触有原子大小的数量级间距时,4H-SiC半导体的费米能级大于金属的费米能级。安徽肖特基二极管MBR10100CT