宁波工业平板探测器技术指导

数字化X线探测器有多种分类。按照传感器阵列形状的不同，可分为平板探测器和线阵探测器。按照光子信号的转换方式的不同，可分为积分式探测器和单光子计数式探测器。此外，光学传感面板一般都由光电转化层和TFT阵列开关等寻址电路组成，按照这两部分的组成材料，可分为：非晶硅探测器、CMOS/单晶硅探测器、IGZO探测器、非晶硒探测器和CdTe/CZT（碲化镉/碲锌镉）探测器等。非晶硅、IGZO、CMOS和柔性基板四大传感器技术均有其特定的终端应用场景。非晶硅是目前主流的X线探测器传感器技术，具有大面积、工艺成熟稳定、普通放射的能谱范围响应好、材料稳定可靠、环境适应性好等特点，可同时满足静态和动态探测器的需求。 Binning 优势：能够在视野面积和比例不变的前提下提高帧数，同时也可以提高暗处对光感应的灵敏度。宁波工业平板探测器技术指导

X平板探测器常用的曝光方式为内触发，通过闪烁材料把X射线转换为可见光，可见光照射光电传感器输出电流，配合相关电路***输出电平信号，探测器根据这个电平信号来控制曝光。但是光电传感器内触发灵敏度高，容易存在误触发、不触发的情况，且平板清空指令发出的时间不灵活，容易引发上图时间长等问题；同时内触发方式引起的漏电流影响了成像的质量。因此，如何解决X平板探测器内触发造成的误触发、不触发、平板清空指令发出时间不灵活、上图时间长等问题，提高成像质量已成本领域技术人员亟待解决的问题。 动态平板探测器技术参数硒层对温度比较敏感，其环境的适用性不是很好。

X射线检测技术可以分为CR和DR技术，CR就是计算机X射线成像系统，使用成像板IP作为图像载体来代替传统的X射线胶片，并使用与传统X射线摄影相同的投影技术来曝光成像X射线检查板，并记录X射线图像信息，对该信息进行读取和处理之后，可以获得数字X射线图像信号；DR则是数字化X射线摄影系统，是指在计算机的控制下直接读取感应介质记录的X射线图像信息，并以数字图像模式复制或记录图像的技术方法。它由检测板，扫描控制器，系统控制器和图像显示器组成，它们通过电缆串联在一起，使用方法更简洁。

灵敏度：探测器输出可检测信号时所需要的至少输入信号强度。非晶硅探测器的灵敏度由四个方面的因素决定：X射线吸收率，X射线-可见光转换系数，填充系数和光电二极管可见光-电子转换系数。通常用X射线灵敏度S表示。如可标注某探测器X射线灵敏度S为：S～1000e-/nGy/pelDN-5Beam。表示该探测器在标准DN-5X射线下每nGy在单个像素上产生的电荷数为1000个。由于X射线灵敏度S与线质有关通常同时给出线质标准如：DN-5Beam。探测器灵敏度精度越高越好，好的探测器灵敏度能达到1个光子。 静态平板探测器侧重分辨率和感光效率，在图像性能上体现单帧大动态范围。

X-RAY检测应用很***，可用于锂电池检测等电池行业、电路板行业、半导体封装、汽车行业、电路板组装行业等，可用于IGBT半导体检测、BGA芯片检测、LED灯条检测、PCB裸板检测、锂电池检测、铝铸件无损探伤检测。观察和测量包装后内部物体的位置和形状，并观察内部状况，确认产品是否合格，真正的做到无损检测。X射线工业检测的优点：1、X射线成像非常直观。2、X射线检测作为薄壁铸件的无损检测具有很高的灵敏度。3、X射线测试对铸件的表面光洁度没有严格的要求。4、X射线测试结果在各种材料之间几乎没有差异。 DR显示上图速度快，运动伪影影响小。实时成像平板探测器技术指导

辐射剂量率系指单位时间内的照射剂量。宁波工业平板探测器技术指导

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