微纳加工设备主要有：光刻、刻蚀、镀膜、湿法腐蚀、绝缘层镀膜等。微纳检测主要是表征检测：原子力显微镜、扫描电镜、扫描显微镜、XRD、台阶仪等。每一个设备都包含比较多具体的分类。光刻机，也被称为曝光机，三大类:步进式光刻机，接触接近式光刻，电子束曝光。微纳制造技术是指尺度为毫米、微米和纳米量级的零件，以及由这些零件构成的部件或系统的设计、加工、组装、集成与应用技术。传统“宏”机械制造技术已不能满足这些“微”机械和“微”系统的高精度制造和装配加工要求，需要研究和应用微纳制造的技术与方法。微纳制造技术是微传感器、微执行器、微结构和功能微纳系统制造的基本手段和重要基础。提高微纳加工技术的加工能力和效率是未来微纳结构及器件研究的重点方向！龙岩镀膜微纳加工
微纳加工是一种利用微纳技术对材料进行加工和制造的方法，其发展趋势主要包括以下几个方面：自动化生产：微纳加工技术可以实现自动化的生产，例如利用机器人和自动化设备可以实现微纳器件的自动化加工和制造。未来的发展趋势是进一步提高微纳加工技术的自动化水平，以提高生产的效率和质量。应用拓展：微纳加工技术可以应用于多个领域，例如电子、光电、生物医学、能源等领域。未来的发展趋势是进一步拓展微纳加工技术的应用领域，以满足不同领域的需求。江苏量子微纳加工微纳加工可以实现对微纳材料的合成和改性。
微纳加工技术都有高精度、科技含量高、产品附加值高等特点，能突显一个国家工业发展水平，在推动科技进步、促进产业发展、提升生活品质等方面都发挥着重要作用。广东省科学院半导体研究所微纳加工平台，是国内少数拥有完整半导体工艺链的研究平台之一，可进行镀膜、光刻、刻蚀等工艺，加工尺寸覆盖2-6英寸。微纳加工平台将面向国内外科研机构和企业提供较全的开放服务，对半导体材料与器件的深入研发给予较全支持，能够为广大科研单位和企业提供好品质服务。
“纳米制造”路线图强调了未来纳米表面制造的发展。问卷调查探寻了纳米表面制备所面临的机遇。调查中提出的问题旨在获取纳米表面特征的相关信息：这种纳米表面结构可以是形貌化、薄膜化的改良表面区域，也可以是具有相位调制或一定晶粒尺寸的涂层。这类结构构建于众多固体材料表面，如金属、陶瓷、玻璃、半导体和聚合物等。总结了调查结果与发现，并阐明了未来纳米表面制造的前景。纳米表面可产生自材料的消解、沉积、改性或形成过程。这导致制备出的纳米表面带有纳米尺度所特有的新的化学、物理和生物特性（比如催化作用、磁性质、电性质、光学性质或抗细菌性）。在纳米科学许多已有的和新兴的子领域中，表面工程已经实现了从基础科学向现实应用的转变，比如材料科学、光学、微电子学、动力工程学、传感系统和生物工程学等。微纳加工可以实现对微纳尺度的高度精确和精度控制。
ICP刻蚀GaN是物料溅射和化学反应相结合的复杂过程。刻蚀GaN主要使用到氯气和三氯化硼，刻蚀过程中材料表面表面的Ga-N键在离子轰击下破裂，此为物理溅射，产生活性的Ga和N原子，氮原子相互结合容易析出氮气，Ga原子和Cl离子生成容易挥发的GaCl2或者GaCl3。光刻（Photolithography)是一种图形转移的方法，在微纳加工当中不可或缺的技术。光刻是一个比较大的概念，其实它是有多步工序所组成的。1.清洗：清洗衬底表面的有机物。2.旋涂：将光刻胶旋涂在衬底表面。3.曝光。将光刻版与衬底对准，在紫外光下曝光一定的时间。4.显影：将曝光后的衬底在显影液下显影一定的时间，受过紫外线曝光的地方会溶解在显影液当中。5.后烘。将显影后的衬底放置热板上后烘，以增强光刻胶与衬底之前的粘附力。在微纳加工过程中，蒸发沉积和溅射沉积是典型的物理方法，主要用于沉积金属单质薄膜、合金薄膜、化合物等！铜陵微纳加工工艺
高精度的微细结构通过控制聚焦电子束（光束）移动书写图案进行曝光。龙岩镀膜微纳加工
微纳加工与传统的加工技术是两种不同的加工方法，它们在加工尺寸、加工精度、加工速度、加工成本等方面存在着明显的区别。下面将从这几个方面详细介绍微纳加工与传统加工技术的区别。加工速度：微纳加工技术的加工速度相对较慢，因为微纳加工通常需要使用光刻、电子束曝光等复杂的工艺步骤，而这些步骤需要较长的时间来完成。而传统加工技术的加工速度相对较快，可以通过机械切削、冲压等简单的工艺步骤来实现。4.加工成本：微纳加工技术的加工成本相对较高，主要是因为微纳加工需要使用昂贵的设备和材料，并且加工过程复杂，需要高度的技术和经验。而传统加工技术的加工成本相对较低，因为传统加工技术使用的设备和材料相对便宜，并且加工过程相对简单。龙岩镀膜微纳加工
