MR-450UPW树脂企业商机

产品介绍 DOWEX,美国陶氏树脂。DOWEX MONOSPHERETM MR-450UPW级别树脂是一种不可分离的均匀的混床树脂。它被推荐使用在超纯水抛光处理阶段的不可再生混床里来实现硅、硼、钠、钾、硫 酸盐、氯化物、锌、铁和铝离子的较低的ppb水平。 产品描述 DOWEX,美国陶氏树脂。DOWEX MONOSPHERETM MR-450UPW级别树脂是一种不可分离的均匀的混床树脂。它被推荐使用在超纯水抛光处理阶段的不可再生混床里来实现硅、硼、钠、钾、硫 酸盐、氯化物、锌、铁和铝离子的较低的ppb水平。这类不可再生混床在更换前可使用2-3 年。UPW级别的树脂具有很高的离子转换率(95%**小),***的电导率和TOC的清洗特性和***的抗压强度。由于它是有均粒的360微米阳树脂和590微米的阴树脂混合而成,使其保持了高 效的动力学性能和较高的运行交换容量。上海纯超环保出售MR-450UPW树脂,量大从优。四川供应MR-450UPW树脂型号

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陶氏MR-450 UPW混床超纯水抛光树脂的性能:

基体 :苯乙烯一DVB凝胶型

功能基 :磺酸基和季胺

外观: 琥珀色球状颗粒

出厂离子形态: H+型 OH-型

总交换容量 : ≥1.9 eq/L ≥1.0 eq/L

含水量 : 46-53% 55-65%

湿真密度 : 1.22mg/L 1.08mg/L

堆积密度: 705 g/L 705 g/L

主要粒径 : 360 μm±50 590μm ±50

均匀系数 : ≤1.1

较大转型膨胀率 H+ → HO-: 10%

耐化学性 不溶于烯酸或碱溶液

陶氏MR-450 UPW混床超纯水抛光树脂的应用领域:

陶氏MR-450 UPW主要用于超纯水制备、抛光混床系统、电厂水处理湿法冶金、金属分离、***提取等。

包装: 纤维桶,每桶50L。

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近年来,随着反渗透、EDI等工艺的发展,离子交换水处理设备操作复杂,不容易实现自动化,浪费酸碱,运行成本高等缺点更加突出,目前更多的应用于反渗透设备的深度处理。

  小型的离子交换设备常采用有机玻璃交换柱,有利于观察树脂运行情况。如混合离子交换器再生分层是否充分,阳离子是否“中毒”等,树脂损耗情况等。

  大型的离子交换水处理设备则采用碳钢内衬环氧树脂或衬胶,中间预留可视装置,以便于离子再生时在线观测再生液水位状况。

  

DOWEX MONOSPHERE MR-450 UPW 级别的树脂是一种不可分离的均匀的混床树脂.它被推荐使用在超纯水抛光处理阶段的混床里来实现硅、硼、钠、钾、硫 酸盐、氯化物、锌、铁和铝离子的较低的PPb水平。这类混床在更换前可使用2-3年。UPW级别的树脂具有很高的离子转换率(95%***小),***的电导率和TOC的清洗特性和极强的抗压强度。由于它是由均粒的360微米阳树脂和590微米的阴树脂混合而成,而使其保持了高 效的动力学性能和较高的运行交换容量。购买MR-450UPW树脂上海纯超环保售后服务。

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美国陶氏抛光树脂MR-450级别树脂是一种不可分离的均匀的混床树脂。它被推荐使用在超纯水抛光处理阶段的不可再生混床里来实现硅、硼、钠、钾、硫 酸盐、氯化物锌铁和铝离子的较低的ppb 水平。这类不可再生混床在更换前可使用2-3 年。UPW 级别的树脂具有很高的离转换率(95%小),***的电导率和 ΔTOC 的清洗特性和***的抗压强度。由于它是有均粒的360 微米树脂和590 微米的阴树脂混合而成,使其保持了高 效的动力学性能和较高的运行交换容量。MR-450UPW树脂上海纯超环保货源充足。四川供应MR-450UPW树脂型号

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DOWEXTM MONOSPHERETMMR-450 UPW级别树脂是一种不可分离的均粒的混床树脂。它被推荐使用在超纯水抛光处理阶段的不可再生混床里面来实现硅、硼、钠、钾、、硫 酸盐、氯化物、锌、铁和铝离子的较低的ppb水平。这类不可再生混床在更换前可使用2-3年。UPW级别的树脂具有很高的离子转换率(95%小),***的电导率和TOC的清洗特性和***的抗压强度。由于它是有均粒的360微米阳树脂和590微米的阴树脂混合而成,使其保持了高 效的动力学性能和较高的运行交换容量。

运行条件:高运行温度60℃(140°F)装填深度,小。800mm(2.6ft)流速:

制水10-60m/h(4-24 gpm/ft2) UPW混床树脂特性:阴离子树脂转型率Cationic resin conversion to H99.7%小阴离子树脂转型率Anionic resin conversion to:

OH

CO3

CL

95%小

5%大

0.1%大清洗特性Rinse characteristics:

UPW级别树脂被清洗至满足超纯水严格的离子和有机物残余物指标

—电导率清洗至0.055μS/cm

—TOC清洗至4ppb(+)



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