中源绿净为精密轴承加工洁净室定制的环境监测系统，强化了粉尘与温度的协同管控。应用场景：精密轴承磨削装配洁净室。针对轴承滚子加工的 1000 级洁净区，部署防尘型监测终端，可耐受车间金属粉尘环境，监测参数包括 0.5μm 粉尘浓度（检测下限 0.0005mg/m³）、磨削区温度（20~28℃，精度 ±0.5℃）、相对湿度（40%~60% RH）及设备振动。采用 β 射线吸收法测尘技术，响应时间≤1 秒，数据采样间隔 5 秒 / 次，确保及时发现粉尘聚集。通过粉尘 - 温度关联模型，提前预警磨削烧伤风险，配合冷却液温度调节联动，使轴承加工精度（圆度≤0.5μm）达标率提升 40%。已在 SKF、NSK 等企业轴承车间应用，满足 ISO 12100 机械安全标准，环境管控达标率维持在 99.88%。中源绿净为 35 + 化妆品厂做环境监测，微生物控制严，产品投诉率降 20%！深圳百万级环境监测监测
中源绿净为精密轴承研磨洁净室定制的环境监测系统，强化了粉尘与振动的协同管控。应用场景：精密轴承研磨加工洁净车间。针对 1000 级研磨区，部署耐粉尘监测终端，同步监测 1μm 粉尘浓度（采样流量 50L/min）、研磨设备振动（频率 1~500Hz，精度 ±0.001mm/s）、温度（20~28℃）及湿度。采用激光测振技术，数据采样率达 1000Hz，可捕捉微米级振动。通过振动 - 粉尘关联分析，提前预警研磨烧伤风险，使轴承圆度精度（≤0.5μm）达标率提升 40%。已在 SKF、NSK 应用，符合 ISO 12100 标准，环境稳定性达标率 99.88%。手持式环境监测检测标准对照表中源绿净环境监测系统，助力 25 + 兽药厂洁净监测，产品纯度提 10%！
中源绿净针对医疗器械灭菌包装洁净室的环境监测方案，聚焦于微粒与密封性的协同管控。应用场景：医疗器械灭菌包装车间。依据 ISO 11607 无菌包装标准，在 8 级洁净包装区部署监测终端，同步监测 0.5μm 微粒浓度（采样频率 1 次 / 5 秒）、包装材料表面微生物（每 2 小时检测 1 次）、车间温湿度（温度 20~24℃，湿度 30%~50% RH）及气压。采用表面接触式微生物采样技术，检测时间缩短至 30 分钟，准确率达 99%。通过微粒浓度与包装密封性关联分析，提前预警包装污染风险，配合包装机参数调节，使包装密封不良率下降 55%。已服务于强生医疗、美敦力等企业，助力其通过 FDA 无菌包装验证，环境稳定性达标率保持在 99.91% 以上。
中源绿净在精密光学镀膜洁净室环境监测中，推出了微粒 - 气体纯度双维度方案。应用场景：光学镜片镀膜洁净车间。针对 10 级镀膜区，配置超高精度监测终端，同步监测 0.1μm 微粒浓度（采样流量 100L/min）、镀膜气体纯度（99.999%~99.9999%）、温度（20~25℃，精度 ±0.3℃）及湿度（30%~40% RH）。采用激光诱导击穿光谱技术检测气体纯度，响应时间≤1 秒，数据采样频率 10 次 / 秒。通过与镀膜机联动控制，当气体纯度不达标时自动切断气源，使镜片镀膜透光率达标率提升 42%。已在舜宇光学、蔡司光学应用，符合 ISO 10110 光学标准，环境管控达标率 99.95%。中源绿净为 30 + 企业提供环境监测数据对比分析，助力企业发现问题改进不足！
中源绿净为光伏组件洁净车间定制的环境监测系统，强化了粉尘与静电的协同管控。应用场景：光伏组件层压洁净车间。针对 1000 级层压洁净区，部署耐温型监测终端，可耐受车间 50℃环境温度，监测参数包括 0.3μm 粉尘浓度（采样流量 28.3L/min）、静电电压（量程 - 1000~+1000V，精度 ±10V）、层压区温度（130~150℃，精度 ±1℃）及湿度。采用非接触式静电传感器和红外测温技术，数据采样间隔 3 秒 / 次，确保及时发现参数异常。通过静电消除联动控制，使组件隐裂率下降 35%，配合粉尘浓度调控，使组件转换效率提升 2%。已在隆基绿能、晶科能源等企业应用，满足 IEC 61215 光伏组件标准，环境管控达标率维持在 99.85%。中源绿净在环境监测领域，为 50 + 企业提供环境监测解决方案优化服务，持续提升效果！苏州5um环境监测测试国家标准
中源绿净环境监测系统，助力 25 + 油墨厂 VOCs 回收，利用率提升 30%！深圳百万级环境监测监测
中源绿净在半导体晶圆光刻洁净室洁净度监测中，打造了超微颗粒 管控体系。应用场景：半导体晶圆光刻洁净车间。针对 10 级光刻 区，采用每 1.5 平方米 1 个监测终端的高密度部署，可实时采集 0.1μm、0.3μm、0.5μm 多粒径微粒浓度，采样流量达 50L/min，数据更新周期为 1 秒 / 次。系统搭载激光诱导击穿光谱粒子计数器， 小检测粒径达 0.05μm，检测精度误差≤±5%。通过与光刻设备联动，当 0.1μm 微粒浓度超过 35 粒 / 升时自动调节曝光环境，配合微粒溯源算法快速定位污染源，使晶圆光刻缺陷率下降 52%。已在中芯国际、台积电等企业应用，符合 SEMI F21 洁净度标准，连续运行数据显示洁净度达标率达 99.96%。深圳百万级环境监测监测
