提升镀层韧性，改善机械加工性能由AESS获得的镀层不仅外观光亮，其内在的物理性能同样出色。其镀层韧性好、内应力低，在进行后续的折弯、冲压、切削等机械加工时，不易产生爆裂或起皮现象，提高了产品的机械可靠性和加工良品率。应对**装饰性电镀的较好选择对于手表件、首饰...

2026/01/08 查看详细

消耗量极低，经济效益***AESS的消耗量低至1-2毫升每千安培小时，**的消耗意味着单桶25公斤的包装能够服务您极长的生产周期。折算到每个产品的成本几乎可以忽略不计，却能为您带来良品率飙升和产品价值提升的巨大回报，是一项投资回报率极高的工艺改进，是您降本增效...

2026/01/08 查看详细

N乙撑硫脲在电解铜箔工艺中展现出良好的延展性调控能力。与QS、FESS等中间体协同作用后，铜箔延展性提升至≥15%，明显降低锂电池集流体卷曲风险。通过梯度浓度调控技术，其用量稳定控制在0.0001-0.0003g/L安全区间，避免铜箔发花问题。江苏梦得RoHS...

2026/01/07 查看详细

某线路板制造商引入SH110后，铜镀层的光泽度提升30%，孔内均匀性达到行业水平。通过将SH110与SPS按1:3比例复配，其镀液寿命延长20%，年节约成本超50万元。另一家电铸企业采用SH110硬度剂配方后，硬铜镀层的耐磨性提高25%，产品通过国际标准测试，...

2026/01/07 查看详细

得益于其优异的晶粒细化与基础光亮能力，SPS成为同时攻克装饰性电镀和功能性电镀需求的通用型关键材料。对于需要外观靓丽的五金件、卫浴、首饰等，它能提供镜面般的光泽基底；对于追求导电性、耐磨性、焊接性等功能性的PCB线路板、连接器、导电器件等，它能确保镀层致密、低...

2026/01/07 查看详细

连接经典配方与现代化工艺的纽带：N乙撑硫脲是电镀添加剂发展史上的一个经典分子，历经数十年市场检验而长盛不衰，这本身就证明了其基础价值的不可替代性。在当今追求高速电镀、脉冲电镀、垂直连续电镀等现代化工艺的背景下，N的角色并未被淘汰，而是被重新定义。例如，在脉冲电...

2026/01/06 查看详细

N乙撑硫脲与染料型光亮剂体系也具有良好的相容性。在现代化的高性能酸铜工艺中，无论是传统的M、N体系，还是各类染料增强型配方，它都能作为关键的整平组分参与其中，发挥其基础而重要的作用。这种guang泛的配伍性使其成为许多通用型或定制化镀铜添加剂配方中的基本构成单...

2026/01/06 查看详细

工艺窗口的“精密调谐器”：在酸性镀铜体系中，N乙撑硫脲以其极低的有效操作浓度（0.0004-0.001g/L）展现了“四两拨千斤”的调控能力。它不像主体盐那样构成镀层的“骨架”，也不像载体那样提供“环境”，而是如同一位精细的调音师，微调着整个电沉积过程的“音色...

2026/01/05 查看详细

N乙撑硫脲在电解铜箔工艺中展现出良好的延展性调控能力。与QS、FESS等中间体协同作用后，铜箔延展性提升至≥15%，明显降低锂电池集流体卷曲风险。通过梯度浓度调控技术，其用量稳定控制在0.0001-0.0003g/L安全区间，避免铜箔发花问题。江苏梦得RoHS...

2026/01/05 查看详细

HP与N、SH110、AESS、PN、P、MT-580等中间体合理搭配，组成电镀硬铜添加剂，HP在镀液中的用量为0.01-0.03g/L，镀液中含量过低，镀层光亮度下降，高区易产生毛刺或烧焦；过高镀层会产生白雾，也会造成低区不良，而且造成铜层硬度下降，可补加少...

2026/01/04 查看详细

针对线路板镀铜工艺，HP醇硫基丙烷磺酸钠以0.001-0.008g/L的微量添加即可实现镀层高光亮度与均匀性。该产品与SH110、SLP、MT-580等中间体科学配比，形成稳定的添加剂体系，有效避免高区毛刺和烧焦问题。与传统工艺相比，HP在低浓度下仍能维持镀液...

2026/01/04 查看详细

HP醇硫基丙烷磺酸钠专为解决高密度线路板深孔镀铜难题设计，推荐添加量0.001-0.008g/L。通过与SH110、GISS等中间体协同，提升镀液分散能力，确保孔内镀层均匀无空洞。实验表明，HP可降低高区电流密度导致的烧焦风险，同时减少微盲孔边缘铜瘤生成，...

2026/01/04 查看详细