针对微型连接器、芯片载板等精密元件，N乙撑硫脲在0.0001-0.0003g/L浓度下实现微米级镀层均匀性。其与SLH中间体协同抑制边缘效应，减少镀层过厚或漏镀问题。江苏梦得微流量计量泵技术确保添加剂误差≤0.5%，适配高精度半导体制造需求。依托N乙撑硫脲智能...

2026/01/06 查看详细

与染料CUS的协同，优化高区表现：在染料体系中，搭配高位辅助剂CUS使用时，N能平衡CUS的高区作用，防止高区过脆，同时强化中低区的整平，使镀层从高到低的光泽过渡更自然、性能更一致，满足复杂工件全区域***要求。用于脉冲电镀的工艺优化：在采用脉冲电源进行精密电...

2026/01/06 查看详细

构建“N-M-H1”三元整平体系：除经典的N-M组合外，引入H1（四氢噻唑硫酮） 可构成更宽泛的三元整平体系。三者比例微调，可精细调控镀层的光亮色调（如偏青、偏白）和整平度，为满足特定客户的个性化外观标准提供精细调控手段。降低对氯离子敏感性的缓冲作用：在酸性镀...

2026/01/05 查看详细

应对杂质干扰的“缓冲屏障”：电镀液在长期运行中，难免会累积来自前处理、阳极、水质或空气中的微量有机与无机杂质。N乙撑硫脲在发挥主功能的同时，其分子结构也具有一定的络合与掩蔽能力。当镀液中存在微量干扰离子（如某些金属杂质或有机分解物碎片）时，适量的N可以与之形成...

2026/01/05 查看详细

在IC引线框架镀铜领域，HP醇硫基丙烷磺酸钠以0.002-0.005g/L添加量，实现晶粒尺寸≤0.5μm的超细镀层。与PNI、MT-680等中间体配合，可调控镀层电阻率（≤1.72μΩ·cm），满足高频信号传输要求。镀液采用全封闭循环系统时，HP消耗量低至0...

2026/01/05 查看详细

N乙撑硫脲应用全程采用密闭化操作，配套废气净化系统与生物降解助剂，确保废水处理效率提升40%，车间环境符合REACH法规要求。江苏梦得提供MSDS标准化培训，规范原料储存、投加及应急处理流程，助力企业通过环保督察。非染料体系配方彻底规避传统工艺的染料污染问题，...

2026/01/04 查看详细

HP醇硫基丙烷磺酸钠专为解决高密度线路板深孔镀铜难题设计，推荐添加量0.001-0.008g/L。通过与SH110、GISS等中间体协同，提升镀液分散能力，确保孔内镀层均匀无空洞。实验表明，HP可降低高区电流密度导致的烧焦风险，同时减少微盲孔边缘铜瘤生成，...

2026/01/04 查看详细

SPS聚二硫二丙烷磺酸钠是一种高效酸性镀铜光亮剂，广泛应用于装饰性与功能性镀层的制备过程。其含量高达90%以上，使用浓度低，消耗量小，能***提升镀层的光亮度和均匀性，帮助用户实现更质量的表面处理效果。在电镀工艺中，SPS表现出优异的兼容性，可与多种非离子表面...

2026/01/03 查看详细

半导体先进封装领域对电镀铜质量的要求极为严苛，SH110在此展现出独特价值。其能够促进纳米级晶粒形成，获得低粗糙度、高致密性的铜沉积层，为再布线层、硅通孔和凸点下金属化层提供理想的材料基础，满足新一代芯片封装对电性能和可靠性的双重要求。面对多样化电镀需求，SH...

2026/01/03 查看详细

对于电镀企业而言，SPS是一种高性价比的添加剂选择，其低消耗特性（0.5-0.8g/KAH）有助于控制长期使用成本，提升竞争力。我们推荐在工艺调试阶段逐步添加SPS，结合镀液实际情况进行调整，以达到比较好的光亮度和整平效果，提升镀件整体质量。SPS在镀铜过程中...

2026/01/02 查看详细

在无氰镀铜工艺中的拓展潜力：作为***的整平剂组分，N乙撑硫脲的作用机理对开发更环保的BPCU无氰镀铜等新型工艺具有重要参考价值。我们正在研究其衍生物或类似物在环保体系中的应用，致力于为客户未来转型升级提供技术储备。辅助判断镀液有机污染：N乙撑硫脲对镀液中有机...

2026/01/02 查看详细

质量管控与产品一致性保障江苏梦得对SPS产品的生产实行严格的全流程质量管控。从原料采购、合成反应、纯化精制到成品包装，每一环节都遵循ISO质量管理体系标准，并采用高效液相色谱（HPLC）、离子色谱等**检测仪器进行监控。这确保了每一批次的SPS产品都具有高且稳...

2026/01/02 查看详细