芯片激光种类

激光工艺：

经过近20年的发展，目前比较成熟的工艺分为六种：Decap EMC 激光开封环氧树脂塑模封装Gel Removal 激光去除硅胶封装Cross section 激光剖面芯片De-lidding 激光开盖金属陶瓷封装Eco-Blue 激光光化学法无损晶圆开封De-layering 激光逐层剥离微加工。

激光开封是利用激光聚焦能量，汽化EMC(epoxy mould compound)塑封层的工艺。可替代传统的微型CNC机械磨除方法，结合GEL-BLUE工艺，可代替开封的后续滴酸工艺。

激光去除硅胶封装，是利用远红外激光器，汽化silicagel，结合GEL-BLUE溶液，完美除胶直达晶圆层。目前应用的IC主要类型有LED、IGBT、以及高压功率芯片。

激光掩膜版是芯片制造过程中的图形“底片”；芯片激光种类

光刻掩膜版层数增加，自然是成本增加，同时也带动了光刻胶、光刻、刻蚀等附带工艺材料的成本增加。因为人们实现光刻工艺提升的条件是光刻掩膜版层数的增加，就像使用一层光掩膜版曝光转移图案不够清晰那样，多曝光几次图案就更加清晰。据悉，在40nm左右的时候，转移图案的过程中，需要使用到40层左右的掩膜版，到了14nm的时候，就会使用到60层的掩膜版，而到了7nm，至少需要80层的掩膜版，每层加一层，就会带来成本的提升，可想而知，80层的光掩膜版，成本让人难以接受，成本难以控制，就难以大规模量产芯片。芯片激光种类超快激光微加工是超快激光应用；

掩模版激光都有哪些种类？

普通版：一般使用苏打玻璃或者石英，常见2寸到10寸，线宽一般在1um以上，主要用户接触式曝光机，转移图形与版图尺寸为1:1，实现同比例的图形转移。

Stepper版：一般使用石英版，常见为5寸和6寸版，线宽一般在500nm以上，主要用于Stepper曝光机台，转移图形与版图尺寸实际比例一般是4:1或者5:1，实现将版图图形缩小4~5倍之后投射于目的片上。

纳米压印版：一般用石英版，刻蚀其表面的金属形成沟槽和透光不透光的组合，尺寸一般需要5寸及以上，采用电子束直写的技术实现表面nm图形的转移，一般线宽在200~800nm左右，借助掩模版对光刻胶的压力、同时辅助紫外曝光，实现纳米级图形的转移。

金属掩模版：一把采用不锈钢，在不锈钢表面通过激光加工的方式，实现表面镂空的图形设计，线宽一般要20um，能够用于电子束蒸发、磁控溅射中，用于电极图形的转移。

激光打标机常见的五种故障分析：

3.激光打标机的标识薄膜粘版产生原因：热压温度高于降解温度，涂料黏性加大就会造成粘版而使薄膜缠绕在全息压印辊上。解决方法：降低热压温度。

4．激光打标机的标识图案暗淡无光解决方法：检查加热温度是否太低，模压压力是否下降。工艺控制要点：模压压力的设定应综合考虑模压温度、全息材料的种类或涂料层软化点模压版的情况等。压力过高，模压版易损坏或将全息材料压坏；压力过低，模压图像不清楚、不完整；对于圆压圆方式，两边压力辊的初始压力一般在0．08MPa左右；模压开始后慢慢将压力辊的压力均匀加大至030～0．50MPa。模压速度可根据压印质量机器性能等综合调节。

5．激光打标机的标识图案一块清楚一块模糊产生原因：热压装置的温度分布不均匀或者模压版不平整。 大功率半导体激光器；

揭秘0.1mm激光钻孔：

随着电子产品的不断升级，企业对PCB工艺的要求越来越高，而且由于结构空间原因，希望PCB的体积越小越好，这又进一步对工艺发展提出了新要求。因此，PCB工艺正变得越来越复杂，钻孔就是其中一道难题。

一、0.1mm的钻孔，为什么做不了？很多工程师看到板厂的工艺能力写着小孔0.1mm时，便把PCB设计中的孔改到0.1mm，以解决线路布局空间不足的问题。但当他们把设计文件发给板厂打板时，却收到板厂反馈这孔做不了！怎么回事呢？其实这里有个误区——不是所有的板都能做0.1mm的钻孔。0.1mm是很小的孔，采用机械钻的时候，容易断刀，目前比较小的机械钻是0.15mm，低于0.15mm的孔需要采用激光钻。但激光钻孔有个前提条件，就是板子的介质厚度只能是0.127mm以内，大于这个厚度就无法激穿。因此，板子之所以不能做0.1mm的孔，不是因为板厂做不了，是因为设计的板子太厚了。 超快激光微加工的技术应用；MLED激光排行榜

激光开封机是怎么操作的？芯片激光种类

近年来，半导体激光器在医疗、传感、光学通讯、航空航天等领域的应用市场不断扩大，半导体激光器的种类和制造工艺也更加丰富多样。

许多新的应用领域要求半导体激光器具有更高的输出功率。增加输出功率主要有两种方式：1）提高芯片生长技术从而增加单发射腔半导体激光器输出功率。2）提阵列高半导体激光器发光单元的个数从而提高输出功率。为进一步提高光输出功率，提出了多种封装技术，其中包括多单管模组、水平叠阵、垂直叠阵、面阵。

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