企业商机
剥离液基本参数
  • 品牌
  • 博洋化学
  • 纯度级别
  • 超纯/高纯
  • 类型
  • 醇,醚
  • 产品性状
  • 液态
剥离液企业商机

按照组成成分和应用工艺不同,湿电子化学品可分为通用性和功能性湿电子化 学品。通用湿电子化学品以超净高纯试剂为主,一般为单组份、单功能、被大量使 用的液体化学品,按照性质划分可分为:酸类、碱类、有机溶剂类和其他类。酸类 包括氢氟酸、硝酸、盐酸、硫酸、磷酸等;碱类包括氨水、氢氧化钠、氢氧化钾等;有机溶剂类包括甲醇、乙醇、异丙醇、**、乙酸乙酯等;其他类包括双氧水等。功能湿电子化学品指通过复配手段达到特殊功能、满足制造中特殊工艺需求的复配 类化学品,即在单一的超净高纯试剂(或多种超净高纯试剂的配合)基础上,加入 水、有机溶剂、螯合剂、表面活性剂混合而成的化学品。例如剥离液、显影液、蚀 刻液、清洗液等。由于多数功能湿电子化学品是复配的化学品,是混合物,它的理 化指标很难通过普通仪器定量检测,只能通过应用手段来评价其有效性。什么制程中需要使用剥离液。广州BOE蚀刻液剥离液配方技术

广州BOE蚀刻液剥离液配方技术,剥离液

    其包含含有钾盐的第1液、和含有溶纤剂的第2液。再者,本发明涉及印刷布线板、半导体基板、平板显示器或引线框的制造方法,其特征在于,在包括从施加有抗蚀剂的基材除去抗蚀剂的工序的印刷布线板、半导体基板、平板显示器或引线框的制造方法中,使用上述抗蚀剂的剥离液进行抗蚀剂的除去。发明效果本发明的抗蚀剂的剥离液即使是微细的布线间的抗蚀剂也能细小地粉碎。因此,本发明的抗蚀剂的剥离液适合于包括从施加有抗蚀剂的基材除去抗蚀剂的工序的印刷布线板、半导体基板、平板显示器或引线框的制造方法。具体实施方式本发明的抗蚀剂的剥离液(以下,称为“本发明剥离液”)含有氢氧化钾和溶纤剂。本发明剥离液中的钾盐没有特别限定,例如,可以举出氢氧化钾、碳酸钾等。需要说明的是,钾盐中不含相当于后述的硅酸盐的硅酸钾。这些之中推荐氢氧化钾。另外,本发明剥离液中的钾盐的含量没有特别限定,例如,推荐,更推荐,特别推荐。本发明剥离液中使用的溶纤剂是指乙二醇的醚类,例如,可以举出异丙基溶纤剂、丁基溶纤剂、二甲基溶纤剂、苯基丁基溶纤剂、甲基溶纤剂、乙基溶纤剂、苯基溶纤剂、苄基溶纤剂、卡必醇溶纤剂、二乙基溶纤剂等。这些之中推荐异丙基溶纤剂。另外。铜陵格林达剥离液哪里买哪家公司的剥离液的口碑比较好?

广州BOE蚀刻液剥离液配方技术,剥离液

剥离液是一种通用湿电子化学品,主要用于去除金属电镀或者蚀刻加工完成后的光刻胶和残留物质,同时防止对衬底层造成破坏。剥离液是集成电路、分立器件、显示面板、太阳能电池等生产湿法工艺制造的关键性电子化工材料,下游应用领域***,但整体应用需求较低,因此市场规模偏小。

剥离液应用在太阳能电池中,对于剥离液的洁净度要求较低,*需达到G1等级,下游客户主要要天合、韩华、通威等;应用到面板中,通常要达到G2、G3等级,且高世代线对于剥离液的要求要高于低世代线,下游客户有京东方、中星光电;在半导体中的应用可分等级,在8英寸及以下的晶圆制造中,对于剥离液的要求达到G3、G4水平,大硅片、12英寸晶元等**产品要达到G5水平。

    所述防溅射挡板下方安装有印刷辊,所述表面印刷结构一侧安装有所述胶面剥离结构,所述胶面剥离结构上方安装有收卷调速器,所述收卷调速器一侧安装有收卷驱动电机,所述收卷驱动电机一侧安装有辊固定架,所述辊固定架一侧安装有胶水盛放箱,所述胶水盛放箱下方安装有点胶头,所述点胶头下方安装有卷边辊,所述卷边辊一侧安装有胶面收卷辊,所述胶面剥离结构一侧安装有电加热箱,所述电加热箱下方安装有热风喷头,所述热风喷头下方安装有干燥度感应器,所述干燥度感应器下方安装有电气控制箱,所述电气控制箱上方安装有液晶操作面板。进一步的,所述主支撑架与所述横向支架通过螺栓连接,所述伺服变频电机与所述电机减速箱通过导线连接。进一步的,所述印刷品传送带与所述印刷品放置箱通过皮带连接,所述电加热箱与所述胶面剥离结构通过导线连接。进一步的,所述油墨放置箱与所述油墨加压器通过管道连接,所述油墨加压器与所述高压喷头通过管道连接,所述印刷辊共有两个,对称设置,所述防溅射挡板与所述油墨放置箱焊接。进一步的,所述收卷调速器与所述收卷驱动电机通过导线连接,所述辊固定架与所述胶面收卷辊通过轴连接,所述胶水盛放箱与所述点胶头通过管道连接。如何选择一家好的做剥离液的公司。

广州BOE蚀刻液剥离液配方技术,剥离液

光刻胶又称光致抗蚀剂,主要由感光树脂、增感剂和溶剂三种成分组成。感光树脂经光照后,在曝光区能很快地发生光固化反应,使得这种材料的物理性能,特别是溶解性、亲合性等发生明显变化。经曝光、显影、刻蚀、扩散、离子注入、金属沉积等工艺将所需的微细图形从掩模版转移至加工的基板上、***通过去胶剥离液将未曝光部分余下的光刻胶清洗掉,从而完成整个图形转移过程。在液晶面板和amoled生产中***使用。现有的剥离液主要有两种,分别是水性剥离液和有机剥离液,由于有机剥离液只能用于具有mo/al/mo结构的制程中,无法用于ito/ag/ito;且乙醇胺的含量高达60%以上,有很强的腐蚀性,因此,常用的剥离液是水性剥离液,现有的水性剥离液主要成分为有机胺化合物、极性有机溶剂以及水,但现有的水性剥离液大都存在腐蚀金属配线、光刻胶残留、环境污染大、影响操作人员的安全性、剥离效果差等问题。剥离液的类别一般有哪些。合肥铜钛蚀刻液剥离液联系方式

剥离液适用于哪些行业。广州BOE蚀刻液剥离液配方技术

    用显微镜观察也难以看出的程度)3:有少量残渣4:基本能剥离,但一部分残渣多5:一半以上能剥离,但一部分残渣多6:基本不能剥离,但一部分剥离7:不能剥离【表2】由该结果可知,在含有溶纤剂的抗蚀剂的剥离液中使用氢氧化钾代替氢氧化钠的本发明组成,与使用氢氧化钠的比较组成相比,即使l/s狭窄,也能除去抗蚀剂。(3)剥离性能的评价方法将液温设为50℃的各剥离液使用喷涂装置向上述试验片实施剥离处理,将试验片的粘性部分的dfr以目视全部面积的90%以上被剥离的时刻作为剥离时间。另外,剥离片尺寸(长边)是采集喷涂停止后附着于设置于试验基板固定用的台上的排渣用网眼的剥离片以目视实施的。此时的喷涂装置的条件设为全锥喷嘴且流量5l/min、压力。将其结果示于表3。(4)金属的浸蚀性的评价方法利用上述评价方法实施将喷涂运行时间固定在10分钟的处理。其后,将基板的镀铜部位通过电子显微镜(日立高新技术制:s-3400n)按照以下的评价基准评价表面形状。其结果也示于表3。<金属浸蚀性的评价基准>(分数)(内容)1:没有变化2:极略微有变化(用显微镜观察也难以看出的程度)3:略有变化4:发生***变色【表3】剥离时间(sec)剥离片尺寸。广州BOE蚀刻液剥离液配方技术

苏州博洋化学股份有限公司位于高新区华桥路155号,是一家专业的危险化学品生产(按《安全生产许可证》所列范围明细生产);化学品销售(涉及危险化学品的按《危险化学品经营许可》核定许可范围经营);自营和代理各类商品及技术的进出口业务(国家限定企业经营或禁止进出口的商品和技术除外)。用于传染病防治的消毒产品生产(依法须经批准的项目,经相关部门批准后方可开展经营活动)公司。专业的团队大多数员工都有多年工作经验,熟悉行业专业知识技能,致力于发展博洋化学的品牌。公司不仅*提供专业的危险化学品生产(按《安全生产许可证》所列范围明细生产);化学品销售(涉及危险化学品的按《危险化学品经营许可》核定许可范围经营);自营和代理各类商品及技术的进出口业务(国家限定企业经营或禁止进出口的商品和技术除外)。用于传染病防治的消毒产品生产(依法须经批准的项目,经相关部门批准后方可开展经营活动),同时还建立了完善的售后服务体系,为客户提供良好的产品和服务。博洋化学始终以质量为发展,把顾客的满意作为公司发展的动力,致力于为顾客带来***的高纯双氧水,高纯异丙醇,蚀刻液,剥离液。

剥离液产品展示
  • 广州BOE蚀刻液剥离液配方技术,剥离液
  • 广州BOE蚀刻液剥离液配方技术,剥离液
  • 广州BOE蚀刻液剥离液配方技术,剥离液
与剥离液相关的**
信息来源于互联网 本站不为信息真实性负责