【真空镀膜机电控柜的操作】1、玻璃真空镀膜机开水泵、气源2、开总电源3、开维持泵、真空计电源，真空计档位置V1位置，等待其值小于10后，再进入下一步操作。约需5分钟。4、开机械泵、予抽，开涡轮分子泵电源、启动，真空计开关换到V2位置，抽到小于2为止，约需20分钟。5、观察涡轮分子泵读数到达250以后，关予抽，开前机和高阀继续抽真空，抽真空...

【真空镀膜设备设计原则及常用技术指标】真空设备设计原则：(1)先功能，后结构。先给出指标参数、生产要求、功能；(2)先核xin后辅助。由内向外。先决定靶尺寸、靶基距；(3)先局部，后整体。再由整体，定局部。(4)先设计，后校核。由粗到细。镀膜机常用技术指标：镀膜方法：CVD，PVD（蒸发、溅射、离子镀、复合镀）；被镀工件的形状、尺寸;工件...

【真空镀膜机之镀锌工艺】在钢铁合金材料的表面镀一层锌以起美观、防锈等作用的表面处理技术，表面的锌层是一种电化学保护层，可以防止金属腐坏，主要采用的方法是热镀锌和电镀锌。适用材料：由于镀锌工艺依赖于冶金结合技术，所以只适合钢和铁的表面处理。工艺成本：无模具费用，周期短/人力成本中等，因为工件的表面质量很da程度上取决于镀锌前的人工表面处理。...

【真空镀膜机真空检漏方法之静态升压法】静态升压法属于真空检漏法中的一种，也是简单易行的真空系统检漏方法，因为它不需要用额外特殊的仪器或者特殊物质，通过测量规管就可以检测真空系统的总漏率，从而确定真空系统或部件是否满足工作要求。虽然胜在简单，但也存在局限。如果真空系统或容器存在漏孔的话，静态升压法是无法确定漏孔所在的。因此在确定系统是否有漏...

【真空镀膜之磁控溅射】在阴极靶表面形成一正交电磁场，在此区电子密度高，进而提高离子密度，使得溅镀率提高(一个数量级)，溅射速度可达0.1—1um/min膜层附着力较蒸镀佳，是目前实用的镀膜技术之一。其它有偏压溅射、反应溅射、离子束溅射等镀膜技术溅镀机设备与工艺溅镀机由真空室，排气系统，溅射源和控制系统组成。溅射源又分为电源和溅射qiang...

【真空镀膜真空的基本概念】：真空的划分：粗真空760Torr~10E&3Torr高真空10E&4Torr~10E&8Torr超高真空10E&9~10E&12Torr极高真空

【真空镀膜机概述】：真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空电阻加热蒸发，电子抢加热蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积，离子束溅射等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。真空镀膜机构造的五da系统：排气系统、控制系统、蒸镀系统、监控系统、辅助系统。真空镀膜三要素：真空度、抽气时间、温度...

【如何减少真空镀膜的灰尘】1、使用的源材料要符合必要的纯度要求。2、样品取出后放置环境要注意清洁的问题。3、镀膜一段时间后，真空室内壁必须要清洁处理。4、清洗衬底材料，必须要做到严格合乎工艺要求。5、工作人员有专门的服装，操作要戴手套、脚套等。6、适当的增加环境的湿度，有利于降低周围环境的悬浮固体颗粒物。7、技术上明确允许的da颗粒尺寸和...

【真空镀膜机的镀层与镀膜原理】A、原材料与基本原理：原材料都是树脂、聚合物、铁氟隆、硅酮、丙烯酸、硅酸盐等，辅料、配方与量度有所不同。例添加的乳化剂，不同的量相调和，乳化出来的状态就不一样，水状、乳状、膏状都可以实现。这些物质经乳化破乳后，部份渗透或形成薄膜。B、它们的特点和区别：镀层：渗透功能好(要视原材料颗粒da小)，表面光滑度更优，...

【真空镀膜对环境的基本要求】加工真空镀膜工艺衬底(基片)表面的清洁处理很重要。基片进入镀膜室前均应进行认真的镀前清洁处理，达到工件去油、去污和脱水的目的。基片表面污染来自零件在加工、传输、包装过程所粘附的各种粉尘、润滑油、机油、抛光膏、油脂、汗渍等物;零件表面在潮湿空气中生成的氧化膜;零件表面吸收和吸附的气体。真空镀膜厂家这些污物基本上均...

【真空镀膜之丝网印刷】丝网印刷：通过刮板的挤压，使油墨通过图文部分的网孔转移到承印物上，形成与原稿一样的图文。丝网印刷设备简单、操作方便，印刷、制版简易且成本低廉，适应性强。常见的印刷品有：彩色油画、招贴画、名片、装帧封面、商品标牌以及印染纺织品等。适用材料：几乎所有的材料都可以丝网印刷，包括纸张，塑料，金属，陶艺和玻璃等。工艺成本：模具...

【真空镀膜之离子束溅射镀膜】离子束溅射沉积法在离子源内由惰性气体(通常为氩)产生具有较高能量的离子轰击靶材料，把靶材料沉积到基片上的方法。离子束溅射沉积法的一da优点是基片相对于离子源和靶是du立的，它的温度可以单独控制。基片通常接地位，它和靶与高频电路无关，不会象阴极溅射镀膜那样受到高能电子的轰击，因而温度较低。所以只要配置一台较好的恒...