【磁控溅射镀膜的历史】： 磁控溅射技术作为一种十分有效的薄膜沉积方法,被普遍地应用于许多方面，特别是在微电子、光学薄膜和材料表面处理等领域。1852年Grove首ci描述溅射这种物理现象,20世纪40年代溅射技术作为一种沉积镀膜方法开始得到应用和发展。60年代后随着半导体工业的迅速崛起,这种技术在集成电路生产工艺中,用于沉积集成电路中晶体...

【真空镀膜改善外层膜表面硬度】： 减反膜一般外层选用MgF2,该层剖面是较为松散的柱状结构，表面硬度不高，容易擦拭出道子。改善外层表面硬度的方法包括： 1. 在膜系设计允许的条件下，膜外层加10nm左右的二氧化硅膜层，二氧化硅的表面光滑度优于氟化镁（但二氧化硅表面耐磨度、硬度不如氟化镁）。镀膜后离子轰击几分钟，牢固度效果会更好。（但表面会...

1.厚度上的均匀性，也可以理解为粗糙度，在光学薄膜的尺度上看（也就是1/10波长作为单位，约为100A），真空镀膜的均匀性已经相当好，可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内，也就是说对于薄膜的光学特性来说，真空镀膜没有任何障碍。 但是如果是指原子层尺度上的均匀度，也就是说要实现10A甚至1A的表面平整，具体控制因素下面会根据不同...

【炫彩的搬运工——UV转印技术】 在完成母模制作的基础之上，在较硬承载板材聚碳酸酯PC、聚甲基丙烯酸甲酯PMMA上制作出可放入转印设备上的复制模具，即可开始炫彩纹理的转印工序。 工序流程如下： ---机台上以玻璃或大理石材料为模座，模座上根据不同复制模具尺寸固定安装模具（模具上有排列方式和纹路效果）； ---转印设备的自动滴胶喷嘴会根据产...

【炫彩的搬运工——UV转印技术】 在完成母模制作的基础之上，在较硬承载板材聚碳酸酯PC、聚甲基丙烯酸甲酯PMMA上制作出可放入转印设备上的复制模具，即可开始炫彩纹理的转印工序。 工序流程如下： ---机台上以玻璃或大理石材料为模座，模座上根据不同复制模具尺寸固定安装模具（模具上有排列方式和纹路效果）； ---转印设备的自动滴胶喷嘴会根据产...

【磁控溅射光学镀膜设备及镀膜方法】设备包含真空镀膜室、磁控溅射靶组件、立式旋转鼓，真空镀膜室为立式圆筒形结构，立式旋转鼓位于真空镀膜室内，绕垂直轴线旋转，立式旋转鼓中心设置有旋转密封箱，旋转密封箱内设置有膜厚测量仪表，旋转密封箱的上部连接有旋转轴，旋转密封箱内的气氛与真空镀膜室隔离。多组磁控溅射靶组件设置在立式旋转鼓wai围的真空镀膜室的...

【真空镀膜设备的分类】：这个问题如果在十年之前，其实是很容易回答的，就是两个大类，物理沉积设备和化学沉积设备。现在这样回答也是没错的，但现在再这样回答就没办法把事情说清楚了，所以从应用领域上可以分成以下几类：传统光学器件（镜片，滤光片）所用的镀膜设备：单腔体或多腔体蒸发式镀膜设备，溅射式镀膜设备。新材料领域的柔性设备：卷对卷柔性镀膜设备。...

【光学真空设备应用领域】 光学真空镀膜设备是现代光学和光电系统*重要的组成部分，在光通信、光显示、激光加工、激光融合等高技术和工业领域，技术突破往往成为现代光学和光电子系统加速发展的主要原因。光学镀膜的技术性能和可靠性直接影响到应用系统的性能、可靠性和成本。 光学镀膜其他方面有很多的应用，比方说，平时戴的眼镜、数码相机、各式家电用品，或者...

【光学薄膜的研究新进展之金刚石薄膜及类金刚石薄膜】金刚石被认为是自然界中较硬的物质。在自然界中，碳以3种同位素异型体的形式存在，非晶态的炭黑、六方片状结构的石墨和立方体的金刚石。金刚石薄膜具有高硬度、高密度、热导率高、全波段透光率高、高绝缘、抗辐射、化学惰性强和耐高温、弹性模量大，摩擦系数jin为。金刚石薄膜的高热导率、高摩擦...

本申请中涉及的一种射频离子源离子束束径控制装置具体包括一真空腔体5、控制器6以及设于真空腔体5中的离子束发生器7、束径约束器0和驱动器8，该束径约束器0即采用叶片2进行光阑3大小调整的束径约束器0，该束径约束器0设置在离子束发生器7前端，驱动器8与束径约束器0的驱动机构相连以控制驱动机构动作，控制器6分别与束径约束器0及驱动器8相...

且多个叶片2的尾端22伸入中空结构11围合的区域中以形成可供离子束穿过的光阑3，驱动机构可驱动叶片2的尾端22相对叶片排布形成的圆周的中心运动，从而使得叶片2围合形成的光阑3的大小得以调节，即对离子束的束径进行调节。作为一种推荐实施例，叶片2的首端21与底座1的对应端面转动连接，叶片2的尾端22沿叶片2排布形成的圆周周向依次叠放并...

【真空镀膜设备的正常工作条件】1、环境温度：10~30℃2、相对湿度：不da于70%3、冷却水进水温度：不高于25℃4、冷却水质：城市自来水或质量相当的水5、供电电压：380V，三相50Hz或220V，单相50Hz（由所用电器需要而定），电压波动范围342~399V或198V~231V，频率波动范围49~51Hz；6、设备所需的压缩空气、...