随着电子产品向微型化发展,电路板设计中的高密度互连技术成为关键挑战。这直接影响到电路板生产的工艺选择与设备能力。设计师需要在极有限的空间内布设更多导线和过孔,同时保证信号完整性。在电路板生产中,这通常意味着需要采用更精密的激光钻孔、更先进的电镀工艺以及更高解析度的图形转移技术。设计板块必须精确计算阻抗控制、串扰抑制和热耗散路径,这些参数都...
查看详细 >>背钻(控深钻)技术应用:在高速数字电路的电路板生产中,为减少通孔中多余铜柱(Stub)对高速信号的反射损耗,会采用背钻技术。即从反面将通孔中不需要的部分铜柱钻除。此工艺需要极高的深度控制精度,既要钻掉多余部分,又不能损伤前方的内层连接。背钻深度通常通过电测或激光测厚反馈进行控制。这项工艺是实现10Gb/s以上高速信号传输的电路板生产中常用...
查看详细 >>X-Ray检测在BGA焊盘与埋藏元件检查中的应用:对于底部有焊球的BGA焊盘或埋入式元件,其质量无法通过肉眼或AOI检查。在线式X-Ray检测设备可以穿透材料,清晰成像焊盘的铜厚均匀性、有无缺损,以及埋入元件的位置与状态。此项非破坏性检测是电路板生产中验证内部结构完整性的重要手段。生产批次的追溯系统:从一张覆铜板原料的批次号开始,到成品板...
查看详细 >>随着电子产品向微型化发展,电路板设计中的高密度互连技术成为关键挑战。这直接影响到电路板生产的工艺选择与设备能力。设计师需要在极有限的空间内布设更多导线和过孔,同时保证信号完整性。在电路板生产中,这通常意味着需要采用更精密的激光钻孔、更先进的电镀工艺以及更高解析度的图形转移技术。设计板块必须精确计算阻抗控制、串扰抑制和热耗散路径,这些参数都...
查看详细 >>多层板层压成型技术:将多个蚀刻好的内层芯板与半固化片(Prepreg)通过精密叠合,在高温高压下压制成一个整体,是多层电路板生产的关键步骤。层压工艺需要精确控制升温速率、压力曲线和真空度,以确保树脂充分流动填充线路间隙,同时排除层间气泡。不同的电路板生产需求对应不同的压合程式,例如高TG材料需要更高的固化温度。层压后的板件需要经过X射线打...
查看详细 >>精密机械钻孔与孔金属化:钻孔是为实现电路板各层间电气互连而进行的首要机械加工步骤。根据设计文件,高速数控钻床在精确坐标位置钻出通孔、盲孔或埋孔。在高速电路板生产中,钻孔质量至关重要,需确保孔壁光滑无毛刺,以防止后续电镀时出现空洞。钻孔后的电路板进入化学沉铜生产线,通过一系列化学处理,在非导电的孔壁基材上沉积一层薄薄的化学铜,使其具备导电性...
查看详细 >>背钻(控深钻)技术应用:在高速数字电路的电路板生产中,为减少通孔中多余铜柱(Stub)对高速信号的反射损耗,会采用背钻技术。即从反面将通孔中不需要的部分铜柱钻除。此工艺需要极高的深度控制精度,既要钻掉多余部分,又不能损伤前方的内层连接。背钻深度通常通过电测或激光测厚反馈进行控制。这项工艺是实现10Gb/s以上高速信号传输的电路板生产中常用...
查看详细 >>阻焊油墨的曝光能量测定:不同类型的阻焊油墨需要特定的曝光能量才能完全交联固化。能量不足会导致油墨固化不全,耐化性差;能量过高则可能使开窗边缘过度固化,影响清晰度。因此,在电路板生产换用油墨或批次时,必须使用曝光能量尺进行测试,以确定比较好的曝光时间。这项简单的测试是保证阻焊层质量稳定可靠的重要步骤。金属基板绝缘层导热系数测试:对于金属基板...
查看详细 >>深孔钻工艺与钻嘴管理:对于板厚超过3mm的厚板,其钻孔属于深孔钻范畴。深径比增大带来排屑困难、孔位精度下降、钻嘴易断等问题。电路板生产中需要采用特殊设计的钻嘴(如高螺旋角)、降低进给速率、增加退屑次数,并使用高粘度的盖板辅助排屑。同时,钻嘴的寿命管理也更为严格,需根据钻孔数量与材料类型及时更换,以防止因钻嘴磨损导致的孔壁粗糙或孔径不足。生...
查看详细 >>层压后板材的尺寸稳定性处理:多层板在经历高温高压层压后,内部应力会发生变化,导致板材尺寸在后续加工中持续微变(俗称“涨缩”)。为了稳定尺寸,压合后的板子通常需要经过“烘板”工序,即在特定温度下烘烤数小时,加速应力释放。烘烤的温度与时间曲线需要根据板材类型、厚度和层数进行优化。经过稳定性处理的板子,其后续钻孔和图形转移的对位精度将提高,是保...
查看详细 >>激光直接成像技术应用:与传统使用物理底片曝光不同,激光直接成像技术直接将设计数据转化为激光束,在涂有感光材料的板面上扫描成像,省去了底片制作与对位的环节。此项技术在精细化电路板生产中优势,尤其适用于线宽/线距小于75μm的高密度互连板生产。它能自动补偿因板材伸缩造成的图形失真,实现更高对位精度,并支持快速换线,提升生产灵活性。LDI的应用...
查看详细 >>化学沉铜活化与速化控制:孔金属化初始的化学沉铜工序,其前处理中的活化和速化步骤至关重要。活化是使孔壁基材吸附胶体钯催化中心,速化则是去除胶体钯外层锡壳,暴露钯核以引发化学铜沉积。这两步药水的活性、浓度和温度控制必须极其稳定,任何偏差都可能导致孔壁沉积不上铜(孔破)或沉积不均匀。在电路板生产中,尤其对深径比大的孔,均匀有效的活化是保证孔铜覆...
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