利用基团变化导致光刻胶溶解性变差构建负性...
加强光刻胶的机理研究,对新型光刻胶的设计...
目前使用的ZEP光刻胶即采用了前一种策略...
在过去的十年里,反相色谱与电喷雾质谱联用...
与EUV光源相比,UV光源更容易实现较高...
一般的光刻工艺流程包括以下步骤:1)旋涂...
三氟乙酸(TFA)当然属于危险品,三氟乙...
除了枝状分子之外,环状单分子树脂近年来也...
三氟乙酸(TFA)在有机合成中是多功能的...
利用基团变化导致光刻胶溶解性变差构建负性...
所谓光刻技术,指的是利用光化学反应原理把...
由于早期制约EUV光刻发展的技术瓶颈之一...